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平成１５年（行ケ）第３０号　審決取消請求事件（平成１６年１０月４日口頭弁論
終結）
　　　　　　　　　　判　　　　　　　　　　　決
　　原告　　　大日本スクリーン製造株式会社
　　　　　訴訟代理人弁理士　　　杉谷勉
　　　　被　　　　　　告　　　特許庁長官　小川洋
　　　　　指定代理人　　　　　　　　　加藤友也
　　　　　同　　　　　　　　　　　　　高木進
　　　　　同　　　　　　　　　　　　　西川惠雄
同　　　　　　　　　　　　　岡田孝博
　　　　　同　　　　　　　　　　　　　宮川久成
　　　　　同　　　　　　　　　　　　　伊藤三男
　　　　　　　　　　主　　　　　　　　　　　文
　原告の請求を棄却する。
　　　　　　訴訟費用は原告の負担とする。
　　　　　　　　　　事実及び理由
第１　請求
　　　特許庁が不服２００２－８８０１号事件について平成１４年１２月９日にし
た審決を取り消す。
第２　当事者間に争いのない事実
　１　特許庁における手続の経緯
　　　原告は，平成２年４月１６日にした特許出願（特願平２－１００６６７号）
の一部につき平成９年４月１５日にした新たな特許出願（特願平９－９６９７９
号）の一部につき，平成１３年５月１１日，発明の名称を「基板処理装置」とする
新たな特許出願（特願２００１－１４１９００号，以下「本件特許出願」とい
う。）をしたが，平成１４年４月１１日に拒絶の査定を受けたので，同年５月１６
日，これに対する不服の審判の請求をした。
　特許庁は，同請求を不服２００２－８８０１号事件として審理した上，同年
１２月９日に「本件審判の請求は，成り立たない。」との審決をし，その謄本は，
同月２４日，原告に送達された。
２　願書に添付した明細書（平成１４年６月１４日付け手続補正書による補正後
のもの。以下「本件明細書」という。）の特許請求の範囲の【請求項１】を引用す
る【請求項５】記載の発明（以下「本願発明」という。）の要旨
　基板を多段に収納したカセットを載置するためのカセット載置部と，
前記カセット内の基板を順次取り出すように前後動し，かつ前記カセットに
対して昇降する基板取り出し機構と，
前記基板取り出し機構がカセットから直線的に後退した時に，カセットから
取り出した基板の周縁に当接して，基板の位置合わせをする位置合わせ機構と，
前記位置合わせ機構により位置合わせされた基板を前記基板取り出し機構か
ら受け取って処理部に搬送する基板搬送機構と
を備え，
前記装置はさらに，高さ方向に移動してカセット内の基板の有無を検出する
検出手段を備えており，
前記基板取り出し機構は，前記検出手段によって検出されたカセット内の基
板に対する位置に対して昇降し，前後動して基板の取り出しを行う基板処理装置。
　３　審決の理由
　　　審決は，別添審決謄本写し記載のとおり，本願発明は，特開平２－１１１３
号公報（甲１０，以下「引用例１」という。），特開平１－１４０７３９号公報
（甲１１，以下「引用例２」という。）及び特開昭５９－１７５７４０号公報（甲
１２）記載の発明ないし技術的事項に基づいて，当業者が容易に発明をすることが
できたものであるから，特許法２９条２項の規定により特許を受けることができな
いものであるとした。
第３　原告主張の審決取消事由
　　　審決は，本願発明と引用例１（甲１０）記載の発明（以下「引用例１発明」
という。）との相違点２についての認定判断を誤った（取消事由１）ものであり，
また，審決の結論に影響を与えるべき審判手続上の瑕疵がある（取消事由２）か
ら，違法として取り消されるべきである。
　１　取消事由１（相違点２についての認定判断の誤り）
(1)審決は，本願発明と引用例１発明との相違点２として認定した，「本件発
明（注，本願発明）は，基板取り出し機構がカセットから直線的に後退した時に，
カセットから取り出した基板の周縁に当接して，基板の位置合わせをする位置合わ
せ機構を有しているのに対し，引用例１記載の発明（注，引用例１発明）は，そう
でない点」（審決謄本６頁「相違点２」）について，「本件（注，本願発明）の請
求項１の『基板取り出し機構がカセットから直線的に後退した時に，・・・』とい
う記載における『時』には，『基板取り出し機構がカセットから基板を取り出した
後』で『処理部に搬送する前』という技術的意味しか認められず，基板取り出し機
構がカセットから直線的に後退運動することと，基板の位置合わせ機構との関連に
ついて，それ以上の技術的意義を見出すことはできない。一方，引用例２（注，甲
１１）には，ウェハ保持具７４（『基板取り出し機構』に相当する。）によりカセ
ット１からウェハ２（『基板』に相当する。）を直線的に後退させて取り出した後
で，該ウェハ２をプロセス処理工程（『処理部』に相当する。）に受け渡す前に，
４本のセンタリングピン１１をウェハ２を外周より挟み込むように引き寄せ移動
（『基板の周縁に当接』に相当する。）させて，ウェハ２のセンタリング（『基板
の位置合わせ』に相当する。）を行うことが記載されている。そして，基板をカセ
ットから取り出した後，処理部に搬送するまでの間のどの位置で基板の位置合わせ
を行うかは，当業者が適宜選択することができるものである。したがって，引用例
１記載の発明に，引用例２記載の技術的事項を適用し，その際に，基板取り出し機
構が基板を取り出した位置で基板の位置合わせを行うようにすることは，当業者で
あれば容易に想到したことである」（同６頁～７頁「相違点２について」）と判断
したが，誤りである。
(2)本願発明の上記「時に」は，「基板取り出し機構がカセットから基板を取
り出したその時に」，すなわち，「基板取り出し機構がカセットから基板を取り出
したその位置で」という技術的意味があり，審決は，この点を看過したものであ
る。また，基板取り出し機構がカセットから直線的に後退移動したその時に，つま
り後退移動したその位置で，基板の位置合わせ機構が作動して基板の位置合わせが
行なわれるのであるから，基板取り出し機構がカセットから直線的に後退移動する
ことと，基板の位置合わせ機構との関連性は明らかである。基板取り出し機構の後
退移動と基板の位置合わせ機構との関連性は，本願発明によれば基板の位置合わせ
を迅速に行う，すなわち，別の位置合わせ場所に移送するなどの無駄な移送過程を
経ることなく，カセットから取り出された基板をすぐに（取り出された基板をその
位置で）位置合わせするという技術的意義を有する。
(3)引用例２（甲１１）の場合，ウエハ保持具７４によりカセット１からウエ
ハ２を後退させた時にセンタリング（位置合わせ）を行うのではなく，取り出した
ウエハ２をロボットアーム７２の旋回操作により位置決め装置８にまで移送した後
にセンタリングをしているのであるから，引用例２に記載された技術的事項は，
「ウエハ保持具７４によりカセット１からウエハ２を直線的に後退させて取り出
し，該ウエハ２をプロセス処理工程に受け渡す前に，ロボットアームの旋回操作に
よりウエハセンタリング位置決め装置８まで移送し，ここで４本のセンタリングピ
ン１１をウエハ２を外周より挟み込むように引き寄せ移動させて，ウエハ２のセン
タリングを行うこと」と認定されるべきであるが，審決は，引用例２に記載された
技術的事項に関して，上記のカセット１から取り出したウエハ２を，ロボットアー
ムの旋回操作によりウエハセンタリング位置決め装置８まで移送する点を看過した
誤りがある。
(4)引用例２（甲１１）は，ウエハ２を保持したウエハ保持具７４がカセット
１から直線的に後退したその時に（後退したその位置で），ウエハ２を位置決めし
ようとすると，ロボット７と位置決め装置８との干渉の問題が生じることから，本
願発明のように，基板をカセットから取り出したその時に，すなわち，基板をカセ
ットから取り出したその位置で，基板の位置合わせを行うことは当業者が適宜選択
できるものでない。他方，本願発明は，①基板取り出し機構がカセットから直線的
に後退したその時に（後退したその位置で），基板の位置合わせをするので，引用
例２の場合のように，位置合わせのために基板を移送する必要がなく，それだけ基
板を迅速に処理部へ搬送することができ，②基板移送過程における基板の脱落・破
損といった不都合も未然に防止することができるという特有の効果をも奏するもの
である。
(5)被告は，後退した時に，すなわち，後退したその位置で基板の位置合わせ
を行うことは，特開平１－１１０７４７号公報（乙１，以下「乙１公報」とい
う。）に記載されているように本件特許出願前（本件特許出願の出願日が遡及する
平成２年４月１６日前を指す。以下同じ。）に周知の技術的事項であると主張する
が，同主張は，新たな拒絶理由というべきであり，本件訴訟において許されるべき
でない。
２　取消事由２（審判手続上の瑕疵）
　本願発明の「基板取り出し機構がカセットから直線的に後退した時
に，・・・基板の位置合わせをする」という技術的事項は，引用例２（甲１１）に
何ら記載されておらず，その技術的意義を正しく理解すれば，当業者が適宜設計し
得る事項でないことは明らかであるから，上記技術的事項に類似する引用例として
乙１公報が発見された場合は，新たな拒絶理由の発見であり，当該拒絶理由は審判
の段階で出願人に通知されなければならない（特許法１５９条において準用する同
法５０条）。しかしながら，本件の審判手続において，出願人である原告に対し，
上記拒絶理由の通知はされておらず，その結果，原告は意見書及び手続補正書を提
出する機会を奪われた。仮に，審判の段階で乙１公報を根拠とした新たな拒絶理由
が通知されていたならば，原告は，本願発明と乙１公報との差異を意見書で主張す
るか，あるいは，特許請求の範囲の記載を補正することができ，審決の結論は異な
ったものになったはずである。したがって，本件の審判手続には審決の結論に影響
を与える手続上の瑕疵があるというべきである。
第４　被告の反論
　　　審決の認定判断は正当であり，原告主張の取消事由は理由がない。
　１　取消事由１（相違点２についての認定判断の誤り）について
(1)引用例２（甲１１）の記載から，審決で認定した技術的事項を認定するこ
とは可能であり，審決の引用例２の認定に誤りはない。そもそも，引用例から，ど
のような発明，技術的事項を認定しても，そのような認定が可能である以上，引用
例記載の発明，技術的事項の認定に問題はない。
(2)審決が引用例２（甲１１）から認定した技術的事項は，「ウェハ保持具７
４によりカセット１からウェハ２を直線的に後退させて取り出し，該ウェハ２をプ
ロセス処理工程に受け渡す前に，４本のセンタリングピン１１をウェハ２を外周よ
り挟み込むように引き寄せ移動させて，ウェハ２のセンタリングを行うこと」（審
決謄本４頁第３段落）であり，位置決めを引用例２に記載されたようなロボットに
より行うことを認定したものではない。また，後退した時に，すなわち，後退した
その位置で基板の位置合わせを行うことは，乙１公報に記載されているように本件
特許出願前に周知の技術的事項である。そして，引用例１発明に引用例２記載の技
術的事項を適用し，基板取り出し機構が直線的に後退してカセットから基板を取り
出したその時に，基板の位置合わせをすることを想到した場合に，基板取り出し機
構と干渉しないような位置合わせ機構を採用することは，当業者が当然に行うこと
である。
２　取消事由２（審判手続上の瑕疵）について
　　本件の審判手続に原告主張の瑕疵はない。
第５　当裁判所の判断
　１　取消事由１（相違点２についての認定判断の誤り）について
　(1)原告は，本願発明の請求項１における「時に」は，「基板取り出し機構が
カセットから基板を取り出したその時に」，すなわち，「基板取り出し機構がカセ
ットから基板を取り出したその位置で」という技術的意味があり，審決は，この点
を看過したものであると主張する。
　そこで，本願発明について検討すると，本願発明は，上記第２の２のとお
り，「基板取り出し機構」について，「前記カセット内の基板を順次取り出すよう
に前後動し，かつ前記カセットに対して昇降する基板取り出し機構」と前後動する
構成とした上，「位置合わせ機構」について，「前記基板取り出し機構がカセット
から直線的に後退した時に，カセットから取り出した基板の周縁に当接して，基板
の位置合わせをする位置合わせ機構」と特定し，さらに，「基板搬送機構」につい
て，「前記位置合わせ機構により位置合わせされた基板を前記基板取り出し機構か
ら受け取って処理部に搬送する基板搬送機構」と特定している。これによれば，①
「位置合わせ機構」が位置合わせをする時は，前記基板取り出し機構がカセットか
ら直線的に後退した時であり，「『基板取り出し機構がカセットから基板を取り出
した後』で『処理部に搬送する前』」（審決謄本６頁下から第３段落）ということ
ができ，また，②「位置合わせ機構」が位置合わせをする場所は，「基板取り出し
機構」がカセットから直線的に後退して「基板を取り出した場所」ということがで
きるところ，審決は，上記②の点について触れるところはない。しかしながら，本
願発明の要旨において，「位置合わせ機構」が位置合わせをする場所については，
直接的に何ら規定されていないのであるから，審決が上記②の点について触れてい
ないこと自体を誤りということはできない。
(2)原告は，引用例２（甲１１）に記載された技術的事項は，「ウエハ保持具
７４によりカセット１からウエハ２を直線的に後退させて取り出し，該ウエハ２を
プロセス処理工程に受け渡す前に，ロボットアームの旋回操作によりウエハセンタ
リング位置決め装置８まで移送し，ここで４本のセンタリングピン１１をウエハ２
を外周より挟み込むように引き寄せ移動させて，ウエハ２のセンタリングを行うこ
と」と認定されるべきであるが，審決は，引用例２に記載された技術的事項に関し
て，上記のカセット１から取り出したウエハ２を，ロボットアームの旋回操作によ
りウエハセンタリング位置決め装置８まで移送する点を看過した誤りがあると主張
する。
　　そこで，引用例２の記載を検討すると，引用例２には，①「吸着式ウエハ
保持具を装備し，ロボットアームの操作によりカセットから取出したウエハをウエ
ハ処理装置へ受け渡しする半導体ウエハ搬送機器に対し，ウエハ搬送の途上でウエ
ハをウエハ保持具に対してセンタリング位置に修正保持させるウエハセンタリング
位置決め装置であって，ウエハ保持具の移動軌跡上に配備した案内基台と，該案内
基台のセンタに対して点対象に分散位置して基台面より上方に突出し起立し，かつ
案内基台の半径方向へ可動にガイド支持された複数本のセンタリングピンと，各セ
ンタリングピンを同時に同量だけ半径方向へ移動操作する駆動部とから成り，ウエ
ハ搬送途上でウエハ保持具を前記案内基台のセンタ位置に移動させ，ここでウエハ
の吸着を一旦解除した状態で前記センタリングピンをウエハの周縁に引き寄せてウ
エハをウエハ保持具上のセンタリング位置に修正移動し，この位置でウエハをウエ
ハ保持具へ再度吸着保持させることを特徴とする半導体ウエハ搬送機器のウエハセ
ンタリング位置決め装置」（１頁左下欄～右下欄「特許請求の範囲」の請求項
１），②「〔従来の技術〕まず第５図，第６図により通常使用されている頭記ウエ
ハ搬送用ロボットの構成，並びにウエハカセットとウエハ処理装置との間で行うウ
エハ搬送動作に付いて説明する。図において，１は複数枚のウエハ２を上下段に並
べて収容したカセット，３はプラズマＣＶＤ装置等のプロセス反応室に連なるロー
ドロック室，４はロードロック室３の前段に設けた中継準備室，５ａ，５ｂは中継
準備室４の入口，出口側通路を仕切るゲート弁，６は中継準備室内に配備して室外
より搬入されたウエハを受容保持する中継トレーである。なお中継トレーに受け渡
しされたウエハは図示されてないウエハ搬送装置により反応室内に搬入される。こ
こで中継準備室４に入口に対向して室外側にはウエハ搬送機器としてのロボット７
が設置されている。このロボット７は周知のメカニカルパンタグラフ型ロボットで
あって，その構成は駆動部７１と，駆動部の出力軸に結合されて上下（Ｚ方向），
旋回（θ方向）操作されるアーム７２と，アーム７２の上で左右方向に直線移動操
作されるアーム７３と，該アーム７３の先端に取付けたウエハ保持具７４とから構
成されたものであり，かかる構成でアーム７２，７３を移動操作することにより，
ウエハ保持具７４をＸ，Ｙ，Ｚの座標系上で移動操作することができる。また該ロ
ボット７はウエハ保持具７４におけるウエハ吸着面のセンタ０１を基準点として所
望の動きを与えるように運転制御部に与えたプログラム指令による数値制御で移動
操作される。一方，ウエハ保持具７４はウエハ吸着トレーとしてそのトレーの面上
にウエハ２をフェースアップに吸着保持する真空吸着機構７５の吸引穴が開口して
いる。かかる構成でロボット７の操作によりカセット１から所定の順位で１枚のウ
エハ２を取り出してウエハ保持具７４の上面に吸着保持させ，矢印Ｐの搬送経路を
たどって開放したゲート弁５ｂを通じて中継準備室４内に搬入し，ここでウエハ２
を中継トレー６に受け渡す。なお中継トレー６は，その中央部がロボット７側のウ
エハ保持具７４と干渉し合わないように切欠いた２分割の受け皿構造であり，その
周縁には内周側に傾斜したテーパ付きガイド部を備えている。ここで中継トレー６
へのウエハ受け渡しが済むと，ロボット７のウエハ保持具７４を室外に後退させ，
ゲート弁５ｂを閉じた上で中継準備室４を真空排気する。次いでロードロック室３
との間のゲート弁５ａを開き，図示されてないロードロック室側に配備のウエハ搬
送装置により中継トレー６上に受容保持されているウエハ２を受取り，ここから図
示されてないプロセス反応室内へ送り込む。ここで所定のウエハ処理が済み，ウエ
ハが搬出経路を通じて室外に搬出されると，続いて前記と同様にロボット７の操作
で次に処理するウエハ２がカセット１より取り出されて中継準備室４に送りこまれ
る」（２頁左上欄最終段落～右下欄第１段落），③「〔発明が解決しようとする問
題点〕ところで前記のウエハ搬送過程では，ウエハ搬送機器としてのロボット７に
よる中継トレー６への受け渡しの際にしばしば中継トレー６に対するウエハ２の受
け渡し位置がずれ，ここに中継トレー６のテーパガイド面滑り具合の不安定さ等が
加わってウエハが中継トレー６上で斜め姿勢に引っ掛かる等の受け渡しミスの生じ
ることがある。なおこのようなウエハ受け渡し位置のずれ発生の原因は，ウエハ外
径寸法の公差等の他にカセット１内でのウエハ２の収容位置のずれ，ロボット７の
ウエハ保持具７４でカセット１からウエハ２を吸着して取り出す際の滑り等でウエ
ハ保持具７４に対してウエハ２が正しいセンタリング位置に保持されないことが要
因となるもので，このようなセンタリング位置にずれがあるとロボット７の動作精
度が如何に高くても中継トレー６への受け渡し位置にずれが生じるようになる。し
かもこのような移し替えミスが生じると後段でのウエハ搬送工程に支障を来すの
で，その都度装置の運転を停止して作業員によるウエハ位置修正をしなければなら
ない等，装置全体でのスループットの低下をもたらす。この発明は上記の点にかん
がみ成されたものであり，その目的はウエハ搬送機器の操作によりカセットから取
り出したウエハを，プロセス処理装置へ受け渡しする以前のウエハ搬送途上でウエ
ハ保持具に対し正しいセンタリング位置に修正保持させるようにしたウエハ搬送機
器のウエハハンドリング位置決め装置を提供することにある」（２頁右下欄第２段
落～３頁左上欄第２段落），④「〔作用〕上記の構成で，案内基台には例えば４本
のセンタリングピンが基台上に分散開口した半径方向のガイド溝内にガイド支持さ
れており，また駆動部は各センタリングピンの基部と嵌合し合うスクロール溝を有
する案内基台のセンタに同心配備されたカム板と，該カム板を回転操作する駆動モ
ータとから成る。ここでカセットから取り出したウエハをウエハ処理装置へ受け渡
しする搬送途上でウエハ保持具をセンタリング位置決め装置へ移送し，ここで案内
基台のセンタ位置にウエハ保持具のセンタを合わせて停止した上でウエハの吸着を
一旦解く。一方，案内基台側ではセンタリングピンが基台の外周側に後退待機して
おり，ここで駆動モータによりカム板を回転操作すると，複数本の各センタリング
ピンは工作機械のスクロールチャックと同様に同時に同量だけ案内基台のガイド溝
に沿って求心移動し，この過程でセンタリングピンがウエハの外周縁を挟み込んで
案内基台のセンタ位置へ引き寄せるようになる。これによりウエハ保持具上に自由
状態で搭載されているウエハはセンタリングピンによる前記の引き寄せ操作でウエ
ハ保持具のセンタリング位置に移動し，カセットからの取出し過程で生じたセンタ
リング位置のずれが正しい位置に修正されることになる。したがってこの修正位置
でウエハをウエハ保持具に再度吸着保持させ，続いてロボット操作によりウエハ搬
送を再開させることにより，ウエハを処理装置側の中継トレーへ移し替えミスなし
に正しく受け渡すことができる。しかも前記のセンタリングピンの引き寄せ操作に
より，同じ装置でウエハサイズの変更，ウエハ外径公差のバラツキ等にもフレキシ
ブルに対応させることが可能である」（３頁右上欄第２段落～右下欄第１段落），
⑤「次に
上記構成によるウエハのセンタリング位置決め動作に付いて説明する。ウエハ２は
ロボット７の操作によりウエハ保持具７４を介してカセットより一枚宛取り出さ
れ，続くロボットアームの旋回操作による搬送行程の途上でプロセス処理装置へ受
け渡す以前にウエハセンタリング位置決め装置９へ移送され，ここで後述するセン
タリング修正操作を行った後にプロセス処理装置側に移送してその中継トレー６に
受け渡しされる。すなわちカセット１から取り出したウエハ２がロボット操作によ
りウエハ保持具７４の上面に吸着保持されたままウエハセンタリング位置決め装置
８まで移送されると，ここでウエハ保持具７４をそのウエハ吸着面のセンタ０１が
案内基台１０のセンタ０２と一致するように両者を位置合わせして停止し，この位
置でウエハ２の吸着を一旦釈放する。次に駆動モータ１５でカム板１４を回転操作
し，案内基台１０の外周側に待機位置していた４本のセンタリングピン１１をガイ
ド溝１３に沿って同時に同量だけウエハ２を外周より挟み込むようにセンタ０２に
向けて引き寄せ移動操作する。これによりカセット１からウエハ２を取り出す過程
でウエハ保持具７４との間に生じたセンタリング位置のずれがセンタリングピン１
１の引き寄せ過程で修正移動され，ウエハ２はウエハ保持具７４の上でそのセンタ
０１に正しくセンタリング位置されるようになる。このようにしてセンタリング位
置の修正操作が行われると，次にウエハ保持具７４でウエハ２を再度吸着保持し，
ここからロボット７を再始動してウエハ保持具７４をプロセス処理装置側の中継ト
レー６に対する指定の受け渡し位置まで移送し，ここでウエハ保持具の吸着を解い
てウエハ２を中継トレー６へ受け渡しする。しかもこの受け渡し搬送過程では，当
初にカセット１から取出した際に生じたセンタリング位置のずれ分が前記のセンタ
リング操作により修正されており，これによりウエハ２は受け渡しミスの発生なし
に中継トレー６に対してそのセンタリング位置に精度よく受け渡すことができる」
（４頁右上欄第２段落～右下欄第１段落），⑥「〔発明の効果〕以上述べたように
この発明によれば，・・・ロボット操作でカセットよりウエハを取り出す過程で生
じたウエハ保持具に対するウエハの位置のずれを，そのウエハ搬送経路の途上に配
備したセンタリング位置決め装置で正しいセンタリング位置に修正した上で次の工
程へ搬送させることができ，これによりウエハをウエハ処理装置側へ受け渡しさせ
る際にその中継トレーへ受け渡しミスなしに位置精度よく，かつ円滑に受け渡すこ
とができる。しかもそのセンタリング位置修正をセンタリングピンの引き寄せ操作
により行うので，ウエハサイズの変更，ウエハ外径公差のバラツキ等にもフレキシ
ブルに対応させることができる」（４頁右下欄最終段落～５頁右上欄第１段落）と
の記載がある（審決は，上記⑤を引用例２記載の技術的事項として引用している
〔審決謄本３頁下から第２段落～４頁第１段落〕。）。
　　上記記載によれば，引用例２には，技術的事項として，審決の説示すると
おり，「ウェハ保持具７４によりカセット１からウェハ２を直線的に後退させて取
り出し，該ウェハ２をプロセス処理工程に受け渡す前に，４本のセンタリングピン
１１をウェハ２を外周より挟み込むように引き寄せ移動させて，ウェハ２のセンタ
リングを行うこと」（審決謄本４頁第３段落）が記載されているものと認められ
る。これに対し，原告は，審決は，引用例２に記載された技術的事項に関して，上
記のカセット１から取り出したウエハ２を，ロボットアームの旋回操作によりウエ
ハセンタリング位置決め装置８まで移送する点を看過した誤りがある旨主張する
が，引用例２には，上記のとおり，複数の技術的事項が記載されているところ，進
歩性の判断に当たっては，特許出願前に頒布された刊行物に記載された複数の技術
的事項をすべて認定しなくてはならないものではなく，その判断に必要な部分を認
定することができるし，また，それで足りることは当然というべきであるから，引
用例２に記載された技術的事項についての審決の上記認定に，原告主張の看過があ
るということはできない。
(3)原告は，引用例２（甲１１）は，ロボット７と位置決め装置８との干渉の
問題が生じることから，本願発明のように，基板をカセットから取り出したその時
に，すなわち，基板をカセットから取り出したその位置で，基板の位置合わせを行
うことは当業者が適宜選択できるものではないとも主張する。
　　しかしながら，引用例２の上記(2)⑤には，ウエハの搬送途上で位置合わせ
を行うことのみが記載されているのであるから，基板をカセットから取り出した
後，処理部に搬送するまでの間のどの位置で基板の位置合わせを行うかは，当業者
が適宜選択することができるものというべきである。しかも，乙１公報によれば，
搬送されるものに対し，外部から位置合わせを行う場合，連続する搬送動作に区切
りをつける時点において，搬送されるものは静止状態となり，位置合わせが行い易
くなること，また，その時点で位置合わせを行えば，次の搬送が安定化すること
は，本件特許出願前に，当業者の技術常識であったものと認められる。そうする
と，当事者間に争いのない本願発明と引用例１発明の一致点である，「基板を多段
に収納したカセットを載置するためのカセット載置部と，前記カセット内の基板を
順次取り出すように前後動する基板取り出し機構と，前記基板を前記基板取り出し
機構から受け取って処理部に搬送する基板搬送機構とを備えたことを特徴とする基
板処理装置」（審決謄本５頁最終段落～６頁第１段落）において，基板取り出し機
構が，基板を取り出して，カセットから直線的に後退した時は，連続する搬送動作
に区切りがつく時であるから，共に同一技術分野に属し，上記一致点に係る構成を
有する引用例１発明に，引用例２に記載された技術的事項を適用するに当たって，
基板取り出し機構が基板を取り出して，カセットから直線的に後退した時に，基板
の位置合わせを行う構成を採ることは，当業者が容易に想到し得るものというべき
である。
　　また，引用例２の上記(2)⑤の記載によれば，その位置合わせ機構は，「４
本のセンタリングピン１１をウェハ２を外周より挟み込むように引き寄せ移動させ
て，ウェハ２のセンタリングを行う」との構成を有するものであるから，この構成
の空間的配置として，基板（ウエハ）周辺部に位置させる構成が普通に考えられる
こと，また，引用例１（甲１０）の第４図及び引用例２の第１図に図示された各基
板取り出し機構の大きさは，基板と同程度のものであり，基板取り出し機構は基板
の下部に配置されているから，基板の周辺部には空間があり干渉するものがないこ
と，引用例２記載の基板取り出し機構は，上下動が可能であるから，基板の搬送路
を位置合わせ機構と上下に分離可能にできることを併せ考えれば，基板取り出し機
構と位置合わせ機構との干渉の問題が生じるとは認められず，原告主張の阻害要因
があるということはできない。
　　さらに，原告は，本願発明は，①基板取り出し機構がカセットから直線的
に後退したその時に（後退したその位置で），基板の位置合わせをするので，引用
例２の場合のように，位置合わせのために基板を移送する必要がなく，それだけ基
板を迅速に処理部へ搬送することができ，②基板移送過程における基板の脱落・破
損といった不都合も未然に防止することができるという特有の効果をも奏するもの
である旨主張する。
　　しかしながら，当業者が本願発明を容易に想到し得ることは，上記のとお
りであるところ，原告が主張する上記①，②の効果は，本願発明の構成自体から通
常予想される効果にすぎない。したがって，本願発明は，その構成自体から通常予
測し得ない顕著な作用効果を奏するものということもできない。
(4)原告は，後退した時に，すなわち，後退したその位置で基板の位置合わせ
を行うことは，乙１公報に記載されているように本件特許出願前に周知の技術的事
項である旨の被告の主張は，新たな拒絶理由というべきであり，本件訴訟において
許されるべきでないと主張する。
　　しかしながら，引用例２の上記(2)⑤には，ウエハの搬送途上で位置合わせ
を行うことのみが記載されているのであるから，基板をカセットから取り出した
後，処理部に搬送するまでの間のどの位置で基板の位置合わせを行うかは，当業者
が適宜選択することができるものというべきであり，乙１公報によれば，搬送され
るものに対し，外部から位置合わせを行う場合，連続する搬送動作に区切りをつけ
る時点において，搬送されるものは静止状態となり，位置合わせが行い易くなるこ
と，また，その時点で位置合わせを行えば，次の搬送が安定化することが，本件特
許出願前に，当業者の技術常識であったものと認められることは，上記(3)のとおり
であるところ，周知の技術的事項ないし当業者の技術常識を立証するために，審判
で提出していなかった証拠を，審決取消訴訟において提出することは許されるとこ
ろであり，これを新たな拒絶理由ということはできないから，原告の上記主張も採
用することができない。
(5)以上によれば，原告の取消事由１の主張は理由がない。
２　取消事由２（審判手続上の瑕疵）について
　原告は，本願発明の「基板取り出し機構がカセットから直線的に後退した時
に，・・・基板の位置合わせをする」という技術的事項は，引用例２（甲１１）に
何ら記載されておらず，その技術的意義を正しく理解すれば，当業者が適宜設計し
得る事項でないことは明らかであるから，上記技術的事項に類似する引用例として
乙１公報が発見された場合は，新たな拒絶理由の発見であり，当該拒絶理由は審判
の段階で出願人に通知されなければならない（特許法１５９条において準用する同
法５０条）と主張する。しかしながら，乙１公報を審決取消訴訟において提出する
ことが許され，これを新たな拒絶理由ということができないことは，上記１の(4)の
とおりである。
　したがって，本件の審判手続に原告主張の手続上の瑕疵があるということは
できず，原告の取消事由２の主張も理由がない。
３　以上のとおり，原告主張の取消事由はいずれも理由がなく，他に審決を取り
消すべき瑕疵は見当たらない。
　　　よって，原告の請求は理由がないからこれを棄却することとし，主文のとお
り判決する。
　　　　　東京高等裁判所知的財産第２部
　　　　　　　　　　　裁判長裁判官　　　篠　　原　　勝　　美
　　　　　　裁判官　　　岡　　本　　　　　岳
　
　　　　　　裁判官　　　早　　田　　尚　　貴

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