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平成２８年９月２６日判決言渡
平成２７年（行ケ）第１０２５３号審決取消請求事件
口頭弁論終結日平成２８年９月１４日
判決
原告アプライドマテリアルズ
インコーポレイテッド
訴訟代理人弁理士園田吉隆
小松徹郎
被告特許庁長官
指定代理人樋口信宏
清水康司
長馬望
田中敬規
主文
１原告の請求を棄却する。
２訴訟費用は原告の負担とする。
３この判決に対する上告及び上告受理申立てのための付加期間を３０
日と定める。
事実及び理由
第１原告の求めた裁判
特許庁が不服２０１４－１１０３９号事件について平成２７年８月１１日にした
審決を取り消す。
第２事案の概要
本件は，特許出願に対する拒絶査定不服審判請求を不成立とした審決の取消訴訟
である。争点は，①引用発明の認定の当否，②本願発明と引用発明との対比判断の
当否，及び③相違点に関する判断の当否である。
１特許庁における手続の経緯
原告は，名称を「水障壁封止方法」とする発明につき，平成２１年２月１７日を
国際出願日（本件出願日）として特許出願（特願２０１０－５５０７２１号）をし
（パリ条約に基づく優先権主張平成２０年３月１３日（本願優先日），アメリカ合
衆国。甲２），平成２５年５月７日に手続補正をした（本件補正。甲３）が，平成２
６年１月３０日，拒絶査定を受けたので，同年６月１１日，拒絶査定不服審判請求
をした（不服２０１４－１１０３９号）。
特許庁は，平成２７年８月１１日，「本件審判の請求は，成り立たない。」との審
決をし，同審決謄本は，同月２５日，原告に送達された。
２本願発明の要旨
本件補正後の特許請求の範囲の請求項１記載の発明（本願発明）は，以下のとお
りである（甲３）。
「基板と，
前記基板の上に配置される有機発光ダイオード部分と，
前記有機発光ダイオード部分上に配置される多層水障壁封止構造体とを含み，
前記多層水障壁封止構造体はシリコンを含む１以上の層及び炭素を含む１以上の
層を含み，
前記多層水障壁封止構造体の各層は同一の厚さである，
有機発光ダイオード構造体。」
３審決の理由の要点
(1)引用発明の認定
特表２００４－５３７４４８号公報（甲１。引用文献）には，次の発明（引用発
明）が記載されているものと認められる。なお，引用発明の認定に際し，参考にし
た引用文献の記載箇所を，付記している。
「【０１０２】ガラス基板５４を有するＯＬＥＤ５２を密封し【０００１】水蒸
気を浸透させない【０１０２】多層障壁構造１００をＯＬＥＤ５２上に有するＯＬ
ＥＤアセンブリであって，
【請求項１】当該多層障壁構造１００は，
有機膜基板１２と，
有機膜基板１２上の多層浸透障壁とを含む多層障壁構造１００であって，該多層
浸透障壁が，
前記有機膜基板１２の表面に接触する無機コーティング１４と，
前記無機コーティング１４の表面に接触する有機コーティング１６とを含み，
【請求項６】前記無機コーティング１４は厚さが４５ｎｍから３５０ｎｍであり，
【請求項８】前記有機コーティング１６は厚さが２０ｎｍから５００ｎｍであり，
【請求項１４】前記無機コーティング１４は，ＳｉＯ２，ＳｉＯｘ，ＳｉＯｘＣｙ，
Ｓｉ３Ｎ４，ＳｉｘＮｉｙＣｚ，ＳｉＯｘＮｙ，ＴｉＯ２，ＴｉＯｘ，ＺｒＯ２，ＺｒＯ
ｘ，Ａｌ２Ｏ３，ＳｎＯ２，Ｉｎ２Ｏ３，ＩＴＯ，ＰｂＯ，ＰｂＯ２，Ｂ２Ｏ３，Ｐ２Ｏ
５，酸化タンタル，酸化イットリウム，酸化バリウム，酸化マグネシウム，無定形
炭素，硫黄，セレン，フッ化マグネシウム，フッ化カルシウム，酸化カルシウム，
それらの混合物，それらの合金または化合物から成る群から選択される無機材料で
作られる，ＯＬＥＤアセンブリ。」
(2)本願発明と引用発明との対比
（一致点）
「基板と，
前記基板の上に配置される有機発光ダイオード部分と，
前記有機発光ダイオード部分上に配置される多層水障壁封止構造体とを含み，
前記多層水障壁封止構造体は元素を含む１以上の層及び炭素を含む１以上の層
を含む，
有機発光ダイオード構造体。」
（相違点１）
「元素を含む１以上の層」が，本願発明では「シリコンを含む１以上の層」であ
るのに対し，引用発明では「ＳｉＯ２，ＳｉＯｘ，ＳｉＯｘＣｙ，Ｓｉ３Ｎ４，Ｓｉｘ
ＮｉｙＣｚ，ＳｉＯｘＮｙ，ＴｉＯ２，ＴｉＯｘ，ＺｒＯ２，ＺｒＯｘ，Ａｌ２Ｏ３，Ｓ
ｎＯ２，Ｉｎ２Ｏ３，ＩＴＯ，ＰｂＯ，ＰｂＯ２，Ｂ２Ｏ３，Ｐ２Ｏ５，酸化タンタル，
酸化イットリウム，酸化バリウム，酸化マグネシウム，無定形炭素，硫黄，セレン，
フッ化マグネシウム，フッ化カルシウム，酸化カルシウム，それらの混合物，それ
らの合金または化合物から成る群から選択される無機材料で作られる」層である点。
（相違点２）
「多層水障壁封止構造体の各層」の「厚さ」が，本願発明では「同一」であるの
に対し，引用発明では，「無機コーティング１４」の「厚さが４５ｎｍから３５０
ｎｍ」であり，「有機コーティング１６」の「厚さが２０ｎｍから５００ｎｍ」で
ある点。
(3)相違点の判断
ア相違点１について
引用発明において，「無機コーティング１４」（本願発明の「元素を含む１以上
の層」）は，「ＳｉＯ２，ＳｉＯｘ，ＳｉＯｘＣｙ，Ｓｉ３Ｎ４，ＳｉｘＮｉｙＣｚ，Ｓ
ｉＯｘＮｙ，ＴｉＯ２，ＴｉＯｘ，ＺｒＯ２，ＺｒＯｘ，Ａｌ２Ｏ３，ＳｎＯ２，Ｉｎ２
Ｏ３，ＩＴＯ，ＰｂＯ，ＰｂＯ２，Ｂ２Ｏ３，Ｐ２Ｏ５，酸化タンタル，酸化イットリ
ウム，酸化バリウム，酸化マグネシウム，無定形炭素，硫黄，セレン，フッ化マグ
ネシウム，フッ化カルシウム，酸化カルシウム，それらの混合物，それらの合金ま
たは化合物から成る群から選択される無機材料で作られる」層であり，引用文献の
【０１０７】～【０１１２】に記載された実施例では，特にＳｉＯ２を用いること
が記載されている。
したがって，相違点１は実質的な相違点ではない。
あるいは，引用発明において，「無機コーティング１４」として，上記各無機材
料のうち「ＳｉＯ２」，「ＳｉＯｘ」，「ＳｉＯｘＣｙ」，「Ｓｉ３Ｎ４」，「Ｓｉｘ
ＮｉｙＣｚ」，「ＳｉＯｘＮｙ」といった材料を用い，上記相違点１に係る本願発明
の構成とすることは当業者が容易に想到し得た事項である。
イ相違点２について
引用発明において，「無機コーティング１４」は「厚さが４５ｎｍから３５０ｎ
ｍ」であり，「有機コーティング１６」は「厚さが２０ｎｍから５００ｎｍ」であ
り，引用発明において，「無機コーティング１４」及び「有機コーティング１６」
が取り得る膜厚の範囲は，厚さ４５ｎｍから３５０ｎｍの範囲で重複しているから，
「無機コーティング１４」及び「有機コーティング１６」が実質的に同じ厚さを有
していてもよく，引用発明において，「無機コーティング１４」及び「有機コーテ
ィング１６」の膜厚を同一とすることは，引用発明を具体化するに際して当業者が
容易に想到し得た事項である。
(4)本願発明の効果について
相違点１及び２に係る本願発明の発明特定事項により奏される効果について，格
別顕著な点は見い出せない。
なお，相違点２に係る本願発明の発明特定事項により奏される効果に関して，本
願明細書（【００３１】参照）には，「多層水障壁封止構造体の各層は，実質的に
同じ厚さを有してもよい。」と記載されているが，その構成をとることによる効果
は記載されていない。また，「多層水障壁封止構造体の各層」の厚さを同じ厚さに
することで何らかの格別な効果を奏するという技術常識はなく，そのような効果は
当業者に自明なものでもない。
(5)まとめ
本願発明は，引用発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたもので
ある。
第３原告主張の審決取消事由
１取消事由１（引用発明の認定の誤り）
引用発明は，有機層と無機層とを備える多層水障壁封止構造体において，有機層
に，①無機コーティング内の欠陥の近くの浸透を阻止し，②有機コーティングに達
した浸透物分子を広い表面積にわたって分散させるという，２つの機能を持たせて
いる。そして，①の機能を持つ有機コーティングは，薄いほどよく（例えば，１０
０ｎｍよりも薄い。），②の機能を持つ有機コーティングは，平均欠陥サイズよりも
厚い有機層（例えば，１０００ｎｍよりも厚い。）の方がよいとされている（【００
６４】）。したがって，引用発明では，少なくとも２種類の厚さの有機層が必要であ
る。
引用文献では，厚い有機層は，装置の寿命を延ばす働きがあるとされているから
（【００８０】，【００８１】），引用発明の多層障壁構造をＯＬＥＤの障壁として適用
する場合には，数年の寿命が要求され，そのためには，薄い有機コーティング（例
えば，１００ｎｍ以下）以外に１μｍよりも厚い有機コーティングを含む構成を出
発点とするしかない。
上記のとおり，引用発明においては，有機層として少なくとも２種類の厚さの有
機層が必要であるから，引用発明に相違点に係る本願発明の構成を適用することは
できない。よって，本願発明が引用発明から容易想到であるという審決の判断は誤
りである。
２取消事由２（本願発明と引用発明との対比判断の誤り）
(1)審決は，引用文献の「有機膜基板１２」を除いた，「無機コーティング１
４」及び「有機コーティング１６」からなる層のみを，本願発明の「多層水障壁封
止構造体」に相当すると認定した。
しかし，引用発明は，有機膜基板１２と，当該有機膜基板層に接する無機コーテ
ィング１４と，当該無機コーティング１４に接する有機コーティング１６から構成
される多層構造であって，水蒸気及び酸素に対する浸透障壁を形成する（【００２
６】）。また，「可とう性包装技術分野では，ポリマー膜またはシートを薄い有機コー
ティング，たとえば金属酸化物コーティングで被覆し，ポリマー膜またはシートを
基本的に酸素および水蒸気を浸透させないようにすることが知られている。」（【００
１７】）との記載，及び，「本発明では，上記の文献に記載されている多層コーティ
ングとは異なる多層コーティングについて説明する。本発明によれば，無機障壁コ
ーティングは，基板に直接接触している。」（【００２３】）との記載によれば，引用
発明は，有機膜基板１２の存在を前提とした上で，その上に無機コーティング１４，
有機コーティング１６を形成して，全体として浸透障壁を形成した多層構造体であ
る。さらに，引用発明の構成要素である，有機膜基板１２と，無機コーティング１
４と，有機コーティング１６は，それぞれに固有の機能を有しており（【００５８】
～【００６０】），請求項１に記載されているとおり，いずれもが発明の必須の構成
要素である。引用文献に記載の多層障壁構造（１００）という用語は，有機膜基板
１２を含む多層構造を指すものとして用いられており（【００９９】，図５），引用発
明の「様々な装置に用いることのできる，水蒸気および酸素に対する浸透障壁を形
成する多層構造を提供する」（【００２６】）という課題との関連において考えるなら，
有機膜基板層のない多層浸透障壁は，引用文献に記載も示唆もされていない。引用
発明の多層構造の障壁機能が有機膜基板層の浸透障壁機能を前提として成立してい
ることは，「基板は・・・浸透をいくらか阻止する。基板と同様に，有機樹脂は，・・・
浸透をいくらか阻止する。薄い無機コーティングは，・・・浸透が可能な領域を著し
く制限し・・・」（【００５８】～【００６０】）との記載，及び，多層構造の浸透を
表す数式に関して，「上記の数式は，被覆された膜における浸透が基板膜の拡散パラ
メータおよび吸着パラメータに依存することを明確に示している。」（【００４３】）
との記載によれば明確である。
したがって，引用発明の多層障壁構造は，有機膜基板１２をその必須の構成要素
として含めたものと理解すべきである。そして，有機膜基板１２は，ＯＬＥＤを直
接搭載するためのガラス基板５４とは別物である。
(2)本願発明は，（有機発光ダイオードを支持する）基板と，基板上に配置さ
れた有機発光ダイオードと，厚さの同じ，シリコンを含む１以上の層と炭素を含む
１以上の層を含む多層水障壁封止構造体を含む構造体に関するものであり，引用発
明は，有機膜基板層と，多層浸透障壁とを含む多層構造に関するものである。本願
発明と引用発明を比較すれば，基板有機発光ダイオードの部分をさておけば，引用
発明は，少なくとも，本願発明の請求項には記載されていない有機膜基板層が記載
されている点において異なる。
したがって，本願発明と先行技術とを対比するに当たっては，相違点のうちの１
つとして，引用発明には有機膜基板層を含む多層構造が記載されているが，本願発
明には有機膜基板層に相当するものがない点を認定した上で，引用文献に接した当
業者にとって本願発明は想到容易であったかを判断すべきである。
審決は，本願発明の要素たる「炭素を含む層」を引用発明と対比するに当たって，
引用発明の多層障壁構造から炭素を含む層である有機膜基板１２を除外した上で，
一致点及び相違点の認定をしたものであって，誤っている。
(3)本願発明と引用発明とを上記のとおり対比すれば，引用発明の有機膜基板
は，少なくとも５０００ｎｍとなる（甲１【００６８】）から，例えば，１００ｎｍ
よりも薄い有機層（甲１【００６４】）と厚さが明確に異なり，多層障壁構造を構成
する各層の厚さが均一とはなり得ない。
３取消事由３（相違点に関する判断の誤り）
本願発明の多層水障壁封止構造体はシリコンを含む１以上の層及び炭素を含む
１以上の層を含むものであるのに対して，引用発明の多層構造は無機コーティング
１４，有機コーティング１６と有機膜基板１２を含むものなので，本願発明は，少
なくとも，引用発明の有機膜基板１２を含まない点において異なる。
そして，基本的に同じＯＬＥＤに対して，同じ課題を解決するための手段として，
従来技術が必須の構成としていた有機膜基板１２がなくても同様の目的を達し得る
ことを，他の文献等による示唆あるいは動機付けもなく容易に相当し得たと考える
べき根拠は存在しないから，引用発明に接した当業者が，容易に有機膜基板１２の
ない多層水障壁封止構造体を想到し得ない。
第４被告の反論
１取消事由１に対し
(1)審決は，「請求項１を引用する請求項６を引用する請求項８を引用する請
求項１４に係る発明をＯＬＥＤに適用した例」を引用発明として認定している。
引用文献の請求項１，６，８及び１４の記載中で，有機コーティング１６の厚さ
を規定しているのは，請求項８の「有機コーティング１６は厚さが２０ｎｍから５
００ｎｍである」という記載のみであって，（例えば，１０００ｎｍより厚い。）「厚
い有機コーティング」に相当する構成は，引用発明の認定の基礎として用いていな
い請求項１１には記載されているものの，請求項１，６，８及び１４には記載され
ていない。
したがって，引用発明において，原告が主張する「厚い有機コーティング」は，
必須の構成ではない。
(2)また，発光ダイオードを有する有機発光装置について規定する請求項２４
は，「厚い有機コーティング」を必須の構成とする請求項１１のみを引用するもので
はなく，引用発明の認定の基礎とした請求項１を引用する請求項６を引用する請求
項８を引用する請求項１４をも引用するものであるから，引用文献の各請求項の記
載から，「厚い有機コーティング」を設けることが必須でない有機発光装置の発明を
把握できる。
(3)引用発明において「厚い有機コーティング」が必須の構成でない以上，異
なる膜厚の有機コーティングを形成する必要はなく，引用発明において「無機コー
ティング１４」及び「有機コーティング１６」の膜厚を同一とすることに阻害要因
はないから，審決における相違点２についての判断にも誤りはない。
２取消事由２に対し
本願明細書の請求項１には，有機発光ダイオード構造体が，「基板」，「有機発光ダ
イオード部分」及び「多層水障壁封止構造体」を「含む」と規定しているだけで，
これら以外の構成要素の存否については任意であるから，前記３つの構成要素以外
に他の構成要素を有するものも，本願発明に包含される。したがって，本願発明が
「多層水障壁封止構造体」の外側や内側に他の層を形成することを排除するもので
はない。
審決が認定した引用発明の「多層浸透障壁」は，「ＯＬＥＤアセンブリ」の一構成
要素であり，「封止機能」を有する「多層構造体」だから，隣接する位置における「有
機膜基板」の存在にかかわらず，引用発明の「多層浸透障壁」が本願発明の「多層
水障壁封止構造体」に相当する。引用発明の「有機膜基板」は，本願発明で存否が
任意とされている他の構成要素である。
よって，引用発明において「多層浸透障壁」を構成する「無機コーティング１４」
及び「有機コーティング１６」の各層の厚さを同一にしたものは，たとえ当該各層
の厚さと「有機膜基板１２」の厚さが異なっているとしても，相違点２に係る本願
発明の構成を具備していることになる。
審決の，本願発明と引用発明との対比判断に誤りはない。
３取消事由３に対し
審決における引用発明の認定に誤りはなく，審決における本願発明と引用発明と
の対比にも誤りはなく，阻害要因は存在せず，相違点２についての判断にも誤りは
ない。したがって，本願発明は，引用発明に基づいて，当業者が容易に発明をする
ことができたものであるから，特許法２９条２項の規定により特許を受けることが
できないとの審決の判断に誤りはない。
第５当裁判所の判断
１本願発明の認定
(1)本願明細書（甲２）には，以下の記載がある。
【技術分野】【０００１】本発明の実施形態は一般に，有機発光ダイオード（ＯＬ
ＥＤ）構造体およびその製造のための方法に関する。
【背景技術】【０００２】ＯＬＥＤディスプレイは，液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）
と比較して，それらのより速い応答時間，より大きな視野角，より高いコントラス
ト，より軽い重量，より低い電力，およびフレキシブル基板への従順性を考慮して
ディスプレイ応用で最近かなりの関心を獲得した。・・・
【０００３】ディスプレイデバイスの・・・制限される寿命は，有機またはポリ
マー材料の劣化および非発光ダークスポットの形成に起因することもある。材料劣
化およびダークスポット問題は，水分および酸素侵入によって引き起こされること
もある。・・・いったん有機材料が水または酸素と反応すると，有機材料は，だめに
なる。
【０００４】したがって，当技術分野では劣化しないまたは非発光ダークスポッ
トを形成しないＯＬＥＤ構造体の必要性がある。そのような構造体を作製するため
の方法の必要性もまたある。
【発明を実施するための形態】・・・【００１４】図２は，本発明の一実施形態に
よるＯＬＥＤ構造体２００である。構造体２００は，基板２０２を含む。一実施形
態では，基板２０２は，フレキシブルなロールツーロール基板である。基板２０２
は，ロールツーロール基板として述べられるが，ソーダ石灰ガラス基板，シリコン
基板，半導体ウェハー，多角形基板，大面積基板，およびフラットパネルディスプ
レイ基板を含有する他の基板が，ＯＬＥＤを作製するために利用されてもよいこと
が理解されるべきである。
【００１５】基板２０２の上に，アノード２０４が堆積されてもよい。一実施形
態では，アノード２０４は，クロム，銅，またはアルミニウムなどの金属を含んで
もよい。・・・アノード２０４は，約２００オングストロームと約２０００オングス
トロームとの間の厚さを有してもよい。
【００１６】ホール注入層２０６が次いで，アノード２０４の上に堆積されても
よい。ホール注入層２０６は，約２００オングストロームと約２０００オングスト
ロームとの間の厚さを有してもよい。一実施形態では，ホール注入層２０６は，フ
ェニレンジアミン構造を有する直鎖オリゴマーを有する材料を含んでもよい。・・・
【００１７】ホール輸送層２０８は，ホール注入層２０６の上に堆積されてもよ
い。ホール輸送層２０８は，約２００オングストロームから約１０００オングスト
ロームの間の厚さを有してもよい。ホール輸送層２０８は，ジアミンを含んでもよ
い。一実施形態では，ホール輸送層２０８は，ナフチル置換ベンジジン（ＮＰＢ）
誘導体を含む。・・・
【００１８】発光層２１０は，ホール輸送層２０８の上に堆積されてもよい。発
光層２１０は，約２００オングストロームから約１５００オングストロームの間の
厚さに堆積されてもよい。発光層２１０のための材料は典型的には，蛍光性金属キ
レート錯体の類に属する。一実施形態では，発光層は，８－ヒドロキシキノリンア
ルミニウム（Ａｌｑ３）を含む。
【００１９】電子輸送層２１２は，発光層２１０の上に堆積されてもよい。電子
輸送層２１２は，金属キレートオキシノイド化合物を含んでもよい。一実施形態で
は，電子輸送層２１２は，オキシン自体（また通例８－キノリノールまたは８－ヒ
ドロキシキノリンとも呼ばれる）のキレートを含んでもよい。電子輸送層２１２は，
約２００オングストロームから約１０００オングストロームの間の厚さを有しても
よい。
【００２０】電子注入層２１４は，電子輸送層２１２の上に堆積されてもよい。
電子注入層２１４は，約２００オングストロームから約１０００オングストローム
の間の厚さを有してもよい。電子注入層２１４は，アルミニウムおよび少なくとも
１つのハロゲン化アルカリまたは少なくとも１つのハロゲン化アルカリ土類の混合
物を含んでもよい。・・・
【００２１】カソード２１６は，電子注入層２１４の上に堆積されてもよい。カ
ソード２１６は，金属，金属の混合物，または金属の合金を含んでもよい。一実施
形態では，カソード２１６は，マグネシウム（Ｍｇ），銀（Ａｇ），およびアルミニ
ウム（Ａｌ）の合金を含んでもよい。カソード２１６は，約１０００オングストロ
ームと約３０００オングストロームとの間の厚さを有してもよい。電気的バイアス
は，光が放出され，基板２０２を通って見えることになるように電源２１８によっ
てＯＬＥＤ構造体２００に供給されてもよい。・・・
【００２７】図４は，本発明の別の実施形態による封止層４０６を組み込むＯＬ
ＥＤ構造体４００である。ＯＬＥＤ構造体４００は，その上に堆積されるＯＬＥＤ
部分４０４を有する基板４０２を含む。有機封止層４０６は，ＯＬＥＤ部分４０４
および基板４０２の上に堆積されてもよい。堆積の後，封止層４０６は，ＯＬＥＤ
部分４０４との界面と反対側の表面が実質的に平らであるように平坦化されてもよ
い。封止層４０６はこのようにして，ＯＬＥＤ部分４０４の上の矢印「Ａ」によっ
て示されるような薄い部分および基板４０２のすぐ上の矢印「Ｂ」によって示され
るような，薄い部分と比べてより厚い部分を有することになる。
【００２８】封止層４０６より上側には，多層水障壁封止構造体が・・・堆積さ
れてもよい。封止層４０６上に堆積される第１の層４０８は，シリコンを含んでも
よく，矢印「Ｄ」によって示される厚さに堆積されてもよい。一実施形態では，第
１の層４０８は，窒化シリコンを含んでもよい。一実施形態では，第１の層４０８
は，約０．１ミクロンから約０．６ミクロン厚の間であってもよい。
【００２９】第２の層４１０は，第１の層４０８の上に堆積されてもよい。第２
の層４１０は，炭素を含んでもよい。一実施形態では，第２の層４１０は，約０．
１ミクロンと約０．６ミクロンとの間の矢印「Ｅ」によって示されるような厚さを
有してもよい。第３の層４１２は，第２の層４１０の上に堆積されてもよい。第３
の層４１２は，矢印「Ｆ」によって示されるような厚さに堆積されてもよい。一実
施形態では，第３の層４１２の厚さは，約０．１ミクロンと約０．６ミクロンとの
間であってもよい。第３の層４１２は，シリコンを含んでもよい。一実施形態では，
第３の層４１２は，窒化シリコンを含んでもよい。
【００３０】第４の層４１４は，第３の層４１２の上に堆積されてもよい。第４
の層４１４は，炭素を含んでもよい。一実施形態では，第４の層４１４は，約０．
１ミクロンと約０．６ミクロンとの間の矢印「Ｇ」によって示されるような厚さを
有してもよい。第５の層４１６は，第４の層４１４の上に堆積されてもよい。第５
の層４１６は，矢印「Ｈ」によって示されるような厚さに堆積されてもよい。一実
施形態では，第５の層４１６の厚さは，約０．１ミクロンと約０．６ミクロンとの
間であってもよい。第５の層４１６は，シリコンを含んでもよい。一実施形態では，
第５の層４１６は，窒化シリコンを含んでもよい。
【００３１】多層水障壁封止構造体の各層は，実質的に同じ厚さを有してもよい。
封止層４０６の存在は，追加の水障壁を提供し，封止層４０６が存在しない状況と
比較して，多層水障壁封止構造体がより薄いことを許容する。封止層４０６がない
場合には，第１の層４０８，第２の層４１０，第３の層４１２，第４の層４１４，
および第５の層４１６はそれぞれ，約３ミクロンと約６ミクロンとの間の厚さを有
することもある。多層水障壁封止構造体は，それがＯＬＥＤ部分４０４内の欠陥，
微粒子または空隙を被覆する必要がないので，より薄くてもよい。
(2)以上から，本願発明の概要は，以下のとおりである。
本願発明は，有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）構造体に関する（【０００１】）。
ＯＬＥＤディスプレイは，液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）と比較して，より速い応
答時間，より大きな視野角，より高いコントラスト，より軽い重量，より低い電力，
及びフレキシブル基板への従順性を備えているため，最近，高い関心を集めている
（【０００２】）。
しかし，ディスプレイデバイスの寿命は，有機又はポリマー材料の劣化及び非発
光ダークスポットの形成に起因することがあり，このような材料劣化及びダークス
ポット形成の問題は，水分及び酸素侵入によって引き起こされることがある（【００
０３】）。
したがって，当技術分野では，劣化しない又は非発光ダークスポットを形成しな
い長寿命のＯＬＥＤ構造体が必要とされている（【０００４】）。
本願発明は，このような必要性に鑑みてなされたもので，基板と，前記基板の上
に配置される有機発光ダイオード部分（【００１４】～【００２１】，図２）と，前
記有機発光ダイオード部分上に配置される多層水障壁封止構造体とを含み，前記多
層水障壁封止構造体は，シリコンを含む１以上の層及び炭素を含む１以上の層を含
み（【００２８】～【００３１】，図４），前記多層水障壁封止構造体の各層は同一の
厚さである（【００３１】），有機発光ダイオード構造体であり，上記の多層水障壁封
止構造体により水分及び酸素の侵入が防止される。
２取消事由１（引用発明の認定の誤り）について
(1)引用文献（甲１）には，以下の記載がある。
【請求項１】
ⅰ）有機基板層と，
ⅱ）有機基板層上の多層浸透障壁とを含む多層構造であって，該障壁が，
ａ）該基板層の表面に接触する第１の無機コーティングと，
ｂ）第１の無機コーティングの表面に接触する第１の有機コーティングとを含む
多層構造。
【請求項６】無機コーティングは厚さが４５ｎｍから３５０ｎｍである，請求項
１，２，または５に記載の多層構造。
【請求項８】有機コーティングは厚さが２０ｎｍから５００ｎｍである，請求項
１，２，５，６，または７に記載の多層構造。
【請求項１１】各有機コーティングは厚さが２０ｎｍから５００ｎｍであり，第
２の浸透障壁の少なくとも１つの有機コーティングは，厚さが１μｍよりも厚く最
大で１０μｍである，請求項３，４，または９に記載の多層構造。
【請求項１４】各無機コーティングは，ＳｉＯ２，ＳｉＯｘ，ＳｉＯｘＣｙ，Ｓｉ３
Ｎ４，ＳｉｘＮｙＣｚ，ＳｉＯｘＮｙ，ＴｉＯ２，ＴｉＯｘ，ＺｒＯ２，ＺｒＯｘ，Ａｌ２
Ｏ３，ＳｎＯ２，Ｉｎ２Ｏ３，ＩＴＯ，ＰｂＯ，ＰｂＯ２，Ｂ２Ｏ３，Ｐ２Ｏ５，酸化タン
タル，酸化イットリウム，酸化バリウム，酸化マグネシウム，無定形炭素，硫黄，
セレン，フッ化マグネシウム，フッ化カルシウム，酸化カルシウム，それらの混合
物，それらの合金または化合物から成る群から選択される無機材料で完全にまたは
基本的に作られ，この場合ｘは１から３までの整数を表し，ｙは０．０１から５の
範囲の数を表し，ｚは０．０１から５の範囲の数を表す，請求項１から１３のいず
れか一項に記載の多層構造。
【技術分野】【０００１】技術分野本発明は，水蒸気および酸素を浸透させない
構造，ならびにその構造を含む装置と，そのような構造および装置を製造する方法
とに関する。
【背景技術】【０００２】背景技術障壁コーティングは，重合材料に対する気体
および蒸気の浸透度を数オーダー程度低減させることができる。このようなコーテ
ィングは，食品および薬品の包装ならびに電子用途においてガラスに代わることの
できる材料を作製するのに用いられる。・・・特に重要で要求のきびしい用途として，
有機半導体に基づく発光装置または光起電力装置に関する用途がある。
【０００３】有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）装置は，透明な基板が透明な導電
材料，たとえば，発光ダイオードの最下層として正孔注入電極を形成する酸化すず
インジウム（ＩＴＯ）で被覆される発光ディスプレイである。ダイオードの残りの
層は，ＩＴＯ層に隣接する層から始まり，正孔輸送層（ＨＴＬ），電子輸送層（ＥＴ
Ｌ），および電子注入電極を含む。
【０００７】このようなＯＬＥＤは，効率が高く，最も重要な点としてコストの
安いアクティブ有機ディスプレイの新しい世代を構成する。このようなディスプレ
イでは，透明な材料に密封された発光ダイオードのマトリックスによって高品質の
画像が形成される。
【０００８】ダイオードは，画素マトリックスを形成するようにパターン化され，
この場合，単一画素接合部またはＥＬが所与の色の光を放出する。現在までに設計
されているすべての有機ディスプレイは，酸素または水分の影響を受ける要素，す
なわち，有機半導体および電子注入金属を含んでいる。
【０００９】したがって，ダイオードは，酸素および水蒸気に対する障壁を形成
し，ダイオードの各層を覆う不浸透層と，好ましくは透明度が高く，不浸透性であ
り，酸素および水蒸気に対する障壁を形成する，覆われたダイオードの支持体によ
って保護する必要がある。
【００１０】従来，支持体としてガラス板が選択されている。これは，ガラス板
が優れた障壁および透明度特性を有するからである。一方，ガラス板は脆弱であり，
重量が重く，堅いという欠点を有している。
【００１１】装置の不浸透保護層と支持材料の両方として，プラスチック膜の需
要が高い。これは，プラスチック膜が可とう性であり，耐衝撃性が高く，重量が軽
く，特に，従来用いられているバッチ処理とは異なり，ロール・ツー・ロール処理
が可能であるからである。このようなプラスチック膜はもちろん，基本的に不浸透
性であり，酸素および水蒸気の透過率が低いべきである。
【００１５】したがって，問題は，基本的に酸素および水蒸気に対する障壁とな
り，エンベロープ機能に十分な小さい厚さになるように，かつ有機装置の商業的な
製造，好ましくはロール・ツー・ロール処理に容易に使用できるように作製するこ
とができる可とう性のポリマー膜の開発である。
【００１６】市場の要求を満たすために，ＯＬＥＤ用のポリマー膜は，酸素分子
および水分子の透過を，典型的な装置の寿命が少なくとも１０，０００時間になる
程度に制限する必要がある。
【００１７】可とう性包装技術分野では，ポリマー膜またはシートを薄い有機コ
ーティング（判決注：「無機コーティング」の誤り），たとえば金属酸化物コーティ
ングで被覆し，ポリマー膜またはシートを基本的に酸素および水蒸気を浸透させな
いようにすることが知られている。・・・しかし，食品およびその他の産業における
可とう性の包装の短い有効寿命において受け入れられる浸透性のレベルが・・・数
年の寿命を有さなければならない有機発光ダイオードに基づく有機ディスプレイに
対する厳密な要件を満たさないことは確かである。
【発明の開示】【００２６】発明の開示本発明の目的は，様々な装置に用いるこ
とのできる，水蒸気および酸素に対する浸透障壁を形成する多層構造を提供するこ
とである。
【００２７】本発明の他の目的は，そのような構造を組み込んだＯＬＥＤ装置な
どの装置を提供することである。
【００２８】本発明の他の目的は，この構造および装置を作製する方法を提供す
ることである。
【００４９】図１～４は，多層障壁コーティングで被覆された基板プラスチック
膜のいくつかの構成を示している。この構造は，さらにＯＬＥＤ要素またはその他
のディスプレイ要素を付着させるのに用いることができる。
【００５０】図４に示されているように，矢印で示されている浸透方向に沿って
見ると，浸透物は気相（たとえば，大気）から基板プラスチック膜１２に入る。次
いで，浸透物は，基板プラスチック膜１２を通って拡散し，第１の無機コーティン
グ１４内の不連続部または欠陥（開口部）を通過する。次に，浸透物は，第１の有
機コーティング１６を通って拡散し，第２の無機コーティング１４内の開口部を通
過し，次いで，第２の有機コーティング１６を通って拡散し，引き続き多層障壁コ
ーティングを通過し，このようにして連続するコーティングを通過していく。
【００５２】ＰＥＴなどのプラスチック基板膜の拡散係数はすでにかなり低い。
本発明によってこのような膜上に直接無機障壁コーティングを付着させると，浸透
度も何オーダーも低下する。しかし，従来技術と同様に，このような膜をまず，よ
り高い拡散係数を示すより浸透度の高い有機コーティングで被覆すると，障壁性能
が低下する。
【００５５】図１～４は，後でＯＬＥＤまたは他の電子装置を付着させるのに用
いることのできる，障壁で被覆されたプラスチック基板を示している。図５から８
は，すでに不浸透性の基板（図６）上に付着しているＯＬＥＤ（図５から７）また
は他の電子装置（図８）を密封する多層コーティングの構成を示している。図５か
ら７は，ガラス上に作製されたＯＬＥＤを示している。一般に，図５から７は，他
の剛性または可とう性の基板上に作製された他の装置を示す場合もある。ここで，
無機コーティング１４は，浸透方向に沿って見た場合，プラスチック膜，すなわち
有機基板１２にも接触する。このプラスチック膜は，図１から４の基板であっても，
上下逆さまに配置され接着剤によって固定された構造全体であっても，たとえば，
拡散係数の小さい硬化可能な樹脂の，厚いマルチマイクロメール・トップコート保
護層であってもよい。
【００５６】図７は，すでに本発明によって作製された可とう性の障壁－基板上
に付着させられ，同じ種類の障壁－基板を用いて密封され，上下逆さまに配置され，
接着剤を用いて接着されたＯＬＥＤ装置を示している。
【００６４】本発明の構造における有機コーティングは，果たすべき２つの役割
を有し，すなわち，（Ⅰ）無機コーティング内の欠陥の近くの浸透を阻止し，（Ⅱ）
有機コーティングに達した浸透物分子を広い表面積にわたって分散させる。役割
（Ⅰ）の場合，有機層は薄いほどよく（たとえば，１００ｎｍよりも薄い），役割（Ⅱ）
の場合，平均欠陥サイズよりも厚い有機層の方がよい（たとえば，１０００ｎｍよ
りも厚い）。厚い有機コーティング（厚さが１０００ｎｍを超える）が多層障壁内に
埋め込まれた中間層であり，かつ厚い有機コーティングが，有機構造に接触する第
１の無機層に接触しないことが特に好ましい。
【００６５】・・・薄い無機コーティングの場合・・・コーティングは厚いほどよ
いが，コーティングが厚くなりすぎ，たとえば３５０ｎｍを超えた場合，応力が作
用し始め，応力によるひび割れのために障壁が劣化する。
【００６６】好ましい実施形態の詳細な説明多層障壁は，無機材料と有機材料
の交互のコーティングで構成され，無機障壁構成コーティングは有機基板に直接接
触する。
【００７２】ｂ）多層障壁コーティング・・・
【００７６】・・・無機コーティングは・・・より好ましくは４５ｎｍから３５０
ｎｍである。
【００７７】浸透物の曲がりくねった経路および分布を形成するのに好適な，各
有機コーティングの厚さは・・・好ましくは２０ｎｍから５０ｎｍ（判決注：「５０
０ｎｍ」の誤り）である。
【００７８】厚さが９０ｎｍよりも薄いかまたは１１００ｎｍよりも厚い有機コ
ーティングを使用すると特に有利である。
【００８０】厚さが１１００ｎｍよりも厚いとき，障壁システムの内部に達する
少量の浸透物を広い表面積にわたって拡散させることは，装置の寿命の点で有利で
ある。このために，多層障壁の内側の有機コーティングを好ましくは，平均欠陥サ
イズよりも厚くし，すなわち，１μｍよりも厚くすべきである。
【００８１】他の特に好ましい態様では，無機コーティングはそれぞれ厚さが１
０ｎｍから３５０ｎｍであり，有機コーティングはそれぞれ厚さが２０ｎｍから５
００ｎｍであり，少なくとも１つの有機コーティングは好ましくは，厚さが１μｍ
よりも厚い。
【００８７】本発明の多層無機／有機障壁構造は，プラスチック膜基板と，少な
くとも１つの無機コーティングおよび少なくとも１つの有機コーティングを含む多
層障壁とを含み，基板上に付着させた多層無機／有機障壁システムは，８５℃およ
び５０％ＲＨで１００時間よりも長い時間にわたって「カルシウム試験」に合格す
る。
【００８８】本発明の多層浸透－障壁構造は通常，ＡＳＴＭ法Ｆ１９２７および
Ｄ３９８５によって測定され，２ｃｍ３
／ｍ２
日よりも低く，好ましくは０．０１ｃ
ｍ３
／ｍ２
日よりも低い酸素浸透度を有する。
【００９０】この構造は，高障壁包装材料，ディスプレイ，光起電力装置，発光
装置，医療装置，保護コーティングなどを製造する際に用いることができる。
【００９１】ｃ）無機コーティングより堅い材料を形成する適切な無機コーテ
ィングは，ＳｉＯ２，ＳｉＯｘ，ＳｉＯｘＣｙ，Ｓｉ３Ｎ４，ＳｉｘＮｙＣｚ，ＳｉＯｘＮｙ，
ＴｉＯ２，ＴｉＯｘ，ＺｒＯ２，ＺｒＯｘ，Ａｌ２Ｏ３，ＳｎＯ２，Ｉｎ２Ｏ３，ＰｂＯ，
ＰｂＯ２，ＩＴＯ，酸化タンタル，酸化イットリウム，酸化バリウム，酸化マグネ
シウム，フッ化マグネシウム，フッ化カルシウム，酸化カルシウム，その他の金属
酸化物およびハロゲン化物，Ｐ２Ｏ５，Ｂｅ２Ｏ３，その他の非金属酸化物，無定形炭
素，硫黄，セレン，それらの混合物，合金，または化合物から成る群から選択され
る無機材料で完全にまたは基本的に作られる。この場合，ｘは好ましくは１から３
の範囲の整数を表し，ｙは，好ましくは０．０１から５の範囲の数を表し，ｚは，
好ましくは０．０１から５の範囲の数を表す。
【００９６】多層障壁内の層の数は有意であり，層の最小数は２つである。これ
よりも多い層における浸透度は一般により低くなるが，依存性は線形ではなく，多
層プラスチック内の拡散に関する規則に従わない。・・・
【００９７】通常，層の最大数は１０１であり，好ましくは層数は５から１１で
あり，無機コーティングと有機コーティングの両方を含む。
【００９８】図面の詳細な説明図１を参照すると，多層障壁構造１０は，無機
コーティング１４および有機コーティング１６を有する有機膜基板１２を含み，矢
印は浸透方向を示している。無機コーティング１４は，基板１２の表面１８に直接
接触する。
【００９９】図２において，多層障壁構造１００は，有機膜基板１２と，基板１
２に直接接触する無機コーティング１４と，コーティング１４上の有機コーティン
グ１６と，コーティング１６上の第２のコーティング１１４とを含んでいる。
【０１００】図３において，多層障壁構造２００は，所定の順序に付着させたい
くつかの異なる無機および有機コーティング層を有し，特に，第１の無機コーティ
ング１４は，基板１２に接触し，有機コーティング１６は無機コーティング１４に
接触し，第１の無機コーティング１４と同じ材料の第２の無機コーティング１１４
は有機コーティング１６と接触し，第２の種類の無機コーティング２４は第２の無
機コーティング１１４を被覆し，第２の種類の有機コーティング２６は無機コーテ
ィング２４に接触し，コーティング１４および１１４と同じ種類の最後の無機コー
ティング２１４は，有機コーティング２６に接触し，矢印は浸透方向を示している。
【０１０１】図４において，多層障壁構造３００は，無機コーティング１４と有
機コーティング１６との７つの交互の層をプラスチック膜基板上に含み，矢印は浸
透方向を示している。無機コーティングはすべて，有機コーティング１６と同じ種
類である。
【０１０２】図５において，ＯＬＥＤアセンブリ５０は，ガラス基板５４を有す
るＯＬＥＤ５２を密封する図２の多層障壁構造１００を有している。構造１００は，
ＯＬＥＤ５２上に密封カバー５６を形成し，矢印は拡散方向を示している。
【０１０３】図６は，構造１００の無機コーティング１４と，保護層５８と，低
仕事関数電極層６０と，電子輸送有機層６２と，正孔有機層６４と，透明導電電極，
たとえば，インジウム酸化すずＩＴＯ６６と，薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）を含む
典型的なアクティブ・マトリックス・ディスプレイの概略的に示されている他の構
成要素６８とを有する図５のＯＬＥＤ５２（図５の磁化された部分（判決注「図５
の拡大された部分」の誤り））の概略図である。ガラス基板は修飾することができ，
たとえばＳｉＮコーティングで不動態化することができる。
【０１０４】図７は，ガラス基板５４を持つＯＬＥＤ５２を密封する多層障壁構
造４００を有する，他の態様におけるＯＬＥＤアセンブリ１５０の概略図である。
構造４００は，ＯＬＥＤ５２上に密封カバー１５６を形成し，プラスチック膜１２
上に複数の無機コーティング１４および有機コーティング１６を有している。接着
剤構成層４０２，たとえば，硬化可能な接着剤樹脂は構造４００をＯＬＥＤ５２に
結合しており，矢印は拡散方向を示している。
【０１０５】図８において，一対の多層障壁構造５００および６００は可とう性
の電子装置７０を密封している。構造５００は，図１と同様に無機コーティング１
４と有機コーティング１６の多層障壁を含む底部障壁を，有機膜基板１２，すなわ
ち可とう性のプラスチック膜基板上に形成している。
【０１０６】構造６００は，それぞれ可とう性のプラスチック基板２２上のコー
ティング１４および１６とは異なる無機コーティング２４および有機コーティング
２６の多層障壁と，構造６００を装置７０に結合する接着供与層４０２，たとえば，
硬化可能な接着剤樹脂とを含む頂部障壁システムを形成しており，矢印は拡散方向
を示している。
【０１０８】実施例Ⅰこの実施例では，ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）
膜の表面上に順次付着させた無機層（実施例ではＳｉＯ２と呼ばれるプラズマ付着
シリカ）と有機層（プラズマ重合ヘキサメチルジシロキサンＰＰ－ＨＭＤＳＯ）の
多層構造を含む高障壁材料の作製について説明する。
【０１１１】・・・ＰＥＴ／ＳｉＯ２／ＰＰＨＭＤＳＯ／ＳｉＯ２／ＰＰＨＭＤ
ＳＯ／ＳｉＯ２の５層高障壁材料の最終構造を得た。連続する層の厚さは表１に示
されている。
【０１１３】実施例Ⅱこの実施例では，ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）
膜の表面上に順次付着させた無機層（プラズマ付着シリカ）と有機層（プラズマ重
合ヘキサメチルジシロキサンＰＰ－ＨＭＤＳＯ）の多層構造を含む高障壁材料の作
製について説明する。
【０１１６】・・・ＰＥＴ／ＳｉＯ２／ＰＰＨＭＤＳＯ／ＳｉＯ２／ＰＰＨＭＤ
ＳＯ／ＳｉＯ２の５層高障壁材料の最終構造を得た。連続する層の厚さは表２に示
されている。
【０１１８】実施例Ⅲこの実施例では，ポリシクロオレフィン膜基板の表面上
に順次付着させた無機層（プラズマ付着シリカ）と有機層（プラズマ重合ヘキサメ
チルジシロキサンＰＰ－ＨＭＤＳＯ）の多層構造を含む高障壁材料の作製について
説明する。
【０１１９】・・・連続する層の厚さは実施例Ｉに示されている厚さと同様である。
【０１２１】実施例Ⅳ上記の実施例ⅠおよびⅡに示されているパラメータと同
様のパラメータを用いて，２種類のサンプル，すなわち，ａ）ＰＥＴ／ＳｉＯ２／
ＰＰ－ＨＭＤＳＯ，およびｂ）ＰＥＴ／ＰＰ－ＨＭＤＳＯ／ＳｉＯ２を作製した。
【０１２２】・・・タイプｂのサンプルの場合は約３ｃｍ３
／ｍ２
日であったが，
タイプａのサンプルの場合は計器の感度限界（すなわち，０．１ｃｍ３
／ｍ２
日）に
近い透過率であることが分かった。このことは，ＰＥＴ基板に直接接触するＳｉＯ
２コーティングを含む２層構造が，中間プラズマ・ポリマー（ＰＰＨＭＤＳＯ）層
上にＳｉＯ２コーティングを付着させた構造よりも小さいＯＴＲ値を示すことを明
確に示している。
(2)以上から，引用発明の概要は，以下のとおりである。
引用発明は，水蒸気及び酸素を浸透させない構造を含む装置に関する（【０００
１】）。
有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）は，効率が高く，新しい世代の低コスト有機デ
ィスプレイを構成するところ（【０００７】），現在までに設計されている全ての有機
ディスプレイは，ＯＬＥＤに酸素又は水分の影響を受ける有機半導体及び電子注入
金属を含むため（【０００８】），酸素及び水蒸気に対する障壁を形成し，ＯＬＥＤの
各層を覆う不浸透層と，好ましくは透明度が高く，不浸透性であり，酸素及び水蒸
気に対する障壁を形成する支持体によって，ＯＬＥＤを保護する必要がある（【００
０９】）。
不浸透保護層と支持材料の両方として，従来のガラス板に代わり，プラスチック
膜の需要が高いが（【００１１】），プラスチック膜は，金属酸化物コーティングで被
覆しても，酸素及び水蒸気に対する浸透性のレベルが，数年の寿命を有さなければ
ならないＯＬＥＤ有機ディスプレイに求められる要件を満たすことができない（【０
０１５】～【００１７】）。
そこで，引用発明は，水蒸気及び酸素に対する浸透障壁を形成する多層構造を組
み込んだＯＬＥＤ装置を提供することを目的とする（【００２６】，【００２７】）。
引用発明は，ガラス基板５４を有するＯＬＥＤ５２を密封し，水蒸気を浸透させ
ない多層障壁構造１００をＯＬＥＤ５２上に有するＯＬＥＤアセンブリであって，
当該多層障壁構造１００は，有機膜基板１２と，有機膜基板１２上の多層浸透障
壁とを含む多層障壁構造１００であって，
該多層浸透障壁は，前記有機膜基板１２の表面に接触する無機コーティング１４
と，前記無機コーティング１４の表面に接触する有機コーティング１６とを含み
（【０１０２】，【０００１】，請求項１，図５，６），
前記無機コーティング１４は，厚さが４５ｎｍから３５０ｎｍであり（請求項６，
【００７６】），前記有機コーティング１６は，厚さが２０ｎｍから５００ｎｍであ
り（請求項８，【００７７】），
前記無機コーティング１４は，ＳｉＯ２，ＳｉＯｘ，ＳｉＯｘＣｙ，Ｓｉ３Ｎ４，Ｓ
ｉｘＮｉｙＣｚ，ＳｉＯｘＮｙ，ＴｉＯ２，ＴｉＯｘ，ＺｒＯ２，ＺｒＯｘ，Ａｌ２Ｏ３，Ｓ
ｎＯ２，Ｉｎ２Ｏ３，ＩＴＯ，ＰｂＯ，ＰｂＯ２，Ｂ２Ｏ３，Ｐ２Ｏ５，酸化タンタル，
酸化イットリウム，酸化バリウム，酸化マグネシウム，無定形炭素，硫黄，セレン，
フッ化マグネシウム，フッ化カルシウム，酸化カルシウム，それらの混合物，それ
らの合金又は化合物からなる群から選択される無機材料で作られる（請求項１４，
【００９１】），ＯＬＥＤアセンブリである。
引用発明では，多層障壁構造１００が水蒸気及び酸素に対する浸透障壁となるた
め，上記の目的が達成される。
(3)ア原告は，引用文献の【００６４】を根拠に，引用発明における「有機コ
ーティング１６」には，異なる２つの役割があり，それに応じて２種類の厚さが必
要となるにもかかわらず，審決は，この点を看過して引用発明を認定した，と主張
する。
しかし，引用文献の【００６４】に「有機コーティングに達した浸透物分子を広
い表面積にわたって分散させる。」役割を果たすとされる「平均欠陥サイズよりも厚
い有機層」である，例えば，１０００ｎｍよりも厚い有機コーティングを有する構
成は，引用文献の請求項１１に記載されているものの，引用発明の認定の基礎とな
った，請求項１，６，８及び１４には記載されていない。そして，審決が，上記請
求項のみを基礎として引用発明を認定したことに，格別の問題はない。なお，引用
文献の【００６４】の記載は，「有機層は薄いほどよく」「平均欠陥サイズよりも厚
い有機層の方がよい」と好ましい態様を示すにとどまっている。
したがって，引用発明において，２種類の厚さの有機層が必須であると解するこ
とはできない。
イまた，原告は，引用発明の多層障壁構造をＯＬＥＤの障壁として適用す
る場合には，薄い有機コーティング以外に，装置の寿命を延ばす働きがある厚い有
機コーティングを含む構成を出発点とするしかない，と主張する。
しかし，原告がその根拠とする引用文献の【００８０】及び【００８１】には，
厚い有機コーティングが１μｍよりも厚いことが好ましい旨が記載されているにと
どまり，必須の事項として記載されているわけではない。
また，引用文献の請求項１，６，８及び１４の記載中で，有機コーティング１６
の厚さを規定しているのは，請求項８の「有機コーティングは厚さが２０ｎｍから
５００ｎｍである」という記載のみであって，「厚い有機コーティング」（例えば，
１０００ｎｍより厚い。）に相当する構成は，上記アのとおり，引用発明の認定の基
礎として用いていない請求項１１には記載されているものの，請求項１，６，８及
び１４には記載されていない。したがって，引用文献では，原告が主張する「厚い
有機コーティング」を含む構成が示されてはいるが，引用発明では，これを必須の
構成としていないから，厚い有機コーティングを含む構成を出発点とするしかない，
とはいえない。
ウよって，取消事由１には，理由がない。
３取消事由２（本願発明と引用発明との対比判断の誤り）について
(1)原告は，審決が，引用発明の有機膜基板１２は炭素を含む層であるにもか
かわらず，これを除いた有機コーティング１６のみを，本願発明の「炭素を含む層」
に相当するとして，本願発明と引用発明とを対比判断したことは，誤っている，と
主張する。
(2)ア審決は，引用発明の有機膜基板１２を，本願発明の「多層水障壁封止構
造」に含めず，「基板」又は「有機発光ダイオード」でもない，本願発明の請求項１
に記載されていない任意の構成であるとして，本願発明と引用発明を対比したもの
である。
イ本願発明の有機発光ダイオードは，請求項１の文言上，「基板」，「基板の
上に配置される有機発光ダイオード部分」及び「有機発光ダイオード部分上に配置
される多層水障壁封止構造体」を「含む」ものである。「基板」の下，「基板」と「有
機発光ダイオード部分」との間，「有機発光ダイオード部分」と「多層水障壁封止構
造体」との間，及び，「多層水障壁封止構造体」の上に何らかの構成を有することを
排除するものではない。本願明細書には，「多層水障壁封止構造」の基板と反対側に
特段の構造を有しないことに何らかの効果その他の意味があるとの示唆もない。
また，本願明細書【００２７】は，上記１のとおり，「基板」「有機発光ダイオー
ド部分」又は「多層水障壁封止構造体」に含まれない，「封止層４０６」が存在する
ものを本願発明の実施形態としており，「封止層４０６」は「有機」封止層であり（【図
４】），水障壁機能を有する（【００３１】）ものである。したがって，本願発明は，
「多層水障壁封止構造体」に含まれないが，「有機」の層であって水障壁機能を有し
ない構成を有していてもよいものである。
ウ上記イのとおり，本願発明は，「基板」「有機発光ダイオード」及び「多
層水障壁封止構造」以外の構成が存在することを排除していないし，当該他の構成
は「有機」であって，水障壁機能を有していてもよい。そうすると，本願発明は，
本願明細書【図４】のような，「多層水障壁封止構造」と「基板」との間に，「有機
発光ダイオード」を包み込むような態様ではなく，「多層水障壁封止構造」の「基板」
側とは反対側に「有機」であって水障壁機能を有する構造があることをも許容する
と解するのが相当である。
したがって，審決が，引用発明の「有機膜基板１２」を，本願発明の「多層水障
壁封止構造」に含めず，本願発明と引用発明とを対比したことに，誤りはない。
(3)以上より，取消事由２には，理由がない。
４取消事由３（相違点に関する判断の誤り）について
原告は，本願発明は，引用発明の有機膜基板１２を含まない点において相違し，
当該相違点は容易想到ではないから，審決は，相違点に関する判断を誤った，と主
張する。
しかし，３(2)イ及びウのとおり，本願発明は，「多層水障壁封止構造体」に含ま
れない「有機」の水障壁機能を有する構造が，「多層水障壁封止構造」の「基板」の
側とは反対側に存在することも許容するから，引用発明の有機膜基板１２を含む実
施態様も，本願発明に含まれている。原告の主張は，その前提を欠く。
よって，取消事由３にも理由がない。
第６結論
以上のとおり，原告の請求には理由がないからこれを棄却することとし，主文の
とおり判決する。
知的財産高等裁判所第２部
裁判長裁判官
清水節
裁判官
片岡早苗
裁判官
古庄研

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