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判決言渡平成２０年４月７日
平成１９年（行ケ）第１０１７１号審決取消請求事件
口頭弁論終結日平成２０年３月２６日
判決
原告ＮＥＣトーキン株式会社
訴訟代理人弁理士池田憲保
同福田修一
同山本格介
同佐々木敬
被告特許庁長官
肥塚雅博
指定代理人重田尚郎
同藤内光武
同小林正明
同小池正彦
同内山進
主文
１原告の請求を棄却する。
２訴訟費用は原告の負担とする。
事実及び理由
第１請求
特許庁が不服２００４−７２７４号事件について平成１９年３月２７日にし
た審決を取り消す。
第２事案の概要
本件は，原告が発明の名称を「複合磁性体及びその製造方法ならびに電磁干
渉抑制体（ただし，その後の補正により「電磁干渉抑制体及びその製造方」
法」と変更）として後記特許の出願をしたところ，拒絶査定を受けたので，こ
れに対する不服の審判請求をしたが，特許庁が請求不成立の審決をしたことか
ら，その取消しを求めた事案である。
争点は，本願明細書の発明の詳細な説明の欄に，いわゆる実施可能要件の記
載があるか（特許法３６条４項，である。）
第３当事者の主張
１請求の原因
(1)特許庁における手続の経緯
原告は，平成８年９月３０日，名称を「複合磁性体及びその製造方法なら
びに電磁干渉抑制体」とする発明につき特許出願（特願平８−２５８３１０
号，請求項の数７，甲２。以下「本願」という）をしたところ，特許庁から
拒絶査定を受けたので，平成１６年４月９日，これに対する不服の審判請求
をした。
特許庁は上記請求を不服２００４−７２７４号事件として審理し，その中
で原告は平成１８年６月１６日付けで発明の名称を「電磁干渉抑制体及びそ
の製造方法」と変更するとともに特許請求の範囲等を変更（請求項の数２）
することを内容とする補正（甲５，以下「本件補正」という）を行うとと。
もに，同日付けで意見書（甲４）を提出したが，特許庁は，平成１９年３月
２７日「本件審判の請求は，成り立たない」との審決をし，その謄本は，。
平成１９年４月１１日原告に送達された。
(2)発明の内容
本件補正後の特許請求の範囲は，上記のとおり請求項１及び２から成るが，
その各請求項に記載された発明（以下「本願発明」といい，その明細書を
「本願明細書」という）は，下記のとおりである。。
記
【請求項１】粒子が扁平状であり，形状異方性を有する軟磁性体粉末を有
機結合剤中に分散して複合磁性体とし，該複合磁性体を立方体と成したと
きの磁化困難軸方向の反磁界Ｈddと磁化容易軸方向の反磁界Ｈdeとの比Ｈ
dd／Ｈdeを測定したときに，前記比Ｈdd／Ｈdeが４以上を呈する複合磁性
体を材料とした電磁干渉抑制体。
【請求項２】前記軟磁性体粉末と前記有機結合剤を溶媒と共に混練し，塗
工時ないし塗工後の乾燥前の段階で塗工方向に剪断応力を加える，若しく
は塗工時ないし塗工後の乾燥前の段階で塗工面方向に外部磁界を印加する，
若しくはロール圧延するのいずれかの方法によって作られた複合磁性体を
材料とした請求項１記載の電磁干渉抑制体の製造方法。
(3)審決の内容
審決の内容は，別添審決写しのとおりである。その要点は，本願明細書の
発明の詳細な説明は，当業者がその実施をすることができる程度に明確かつ
十分に記載されているとは認められないから，特許法３６条４項に規定する
要件を満たしていない，としたものである。
＜判決注，本件に適用される平成１１年法律第１６０号による改正前の特許
法〔以下「法」という〕３６条４項の規定は，次のとおりである。，。
「前項第３号の発明の詳細な説明は，通商産業省令で定めるところにより，
その発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者がその実施をす
ることができる程度に明確かつ十分に，記載しなければならない」。
(4)審決の取消事由
しかしながら，以下のとおり，本願発明は，法３６条４項に規定する要件
を満たしていることが明らかであるから，審決の認定判断は誤りであり，審
決は違法として取り消されるべきである。
ア取消事由１（実施可能要件の判断の誤り１）
(ｱ)審決は「本願明細書には「電磁干渉抑制体及びその製造方法」の，
一般的な製造方法が記載されているにすぎず，本願でいう「電磁干渉抑
制体」の要件を満たすためには，一般的な製造方法の中から，如何なる
製造条件によって得られるかという，製造条件と本願でいう「電磁干渉
抑制体」の要件とを結びつける記載は認められない（８頁１５行∼。」
１９行）とするが誤りである。
(ｲ)一般に，電磁干渉抑制体としての複合磁性体は，その磁気損失特性
を改善すれば，電磁干渉抑制体としての特性が改善される。ここで，複
合磁性体の磁気損失特性は，複素透磁率μの虚数部（即ち，虚数部透磁
率μ）によって決定される。すなわち，複素透磁率μの実部μ’が大”
きくなれば，これに伴って虚数部透磁率μも大きくなり，虚数部透磁”
率μが大きくなれば，複合磁性体の磁気損失も大きくなるという関係”
にある。
一方，複合磁性体の磁気損失は，当該複合磁性体に含まれている軟
磁性体粉末の形状異方性を始めとする種々の磁気異方性に強く関連し
ている。しかし，軟磁性体粉末における形状異方性等を個別に制御し
ても，複雑なメカニズムによって決定される複合磁性体全体の磁気損
失を保証することはできない。
本願発明は，このような電磁干渉体として使用される複合磁性体の
磁気損失を評価する目安を与えることを目的とするものである（本願
明細書（甲２，５）の段落【０００８】を参照。）
(ｳ)また，複合磁性体中に含まれる軟磁性体粉末を形成する個々の粒子
に外部から高周波磁界が侵入して高周波磁界が印加されると，円板状
の扁平な軟磁性体粉末の粒子の場合，厚さ方向に大きな反磁界，長さ
方向に小さな反磁界が発生する。しかるに，多数の軟磁性体粒子を集
合させ軟磁性体粉末とし，有機結合剤中に分散させた複合磁性体では，
軟磁性体粒子における反磁界を測定することはできない。また，複合
磁性体の外形形状に依存して生じる形状異方性が加わるため，単純な
測定によって得られる複合磁性体全体の反磁界は複合磁性体を評価す
る基準として不十分である。
そこで，本願発明では，請求項１に記載したように，複合磁性体を
立方体形状に切り出し，複合磁性体自体の形状異方性を無くした状態
で，立方体形状の複合磁性体における磁化容易軸方向及び磁化困難軸
方向の反磁界Ｈｄｅ，Ｈｄｄを測定したのである。そして，反磁界の
測定結果を反磁界の比Ｈｄｄ／Ｈｄｅで表し，反磁界の比と磁気損失
をあらわす虚数部透磁率μとの関係を検討したところ，驚くべきこと”
に，反磁界の比Ｈｄｄ／Ｈｄｅが４以上において，虚数部透磁率μが”
大きく変化するという事実を見出したのである。この知見は，比較的
測定容易な反磁界の比Ｈｄｄ／Ｈｄｅを測定するだけで，複合磁性体
の磁気損失性能を評価できることを意味し，例えば，比Ｈｄｄ／Ｈｄ
ｅが４以上のとき良品と判定するような良品，不良品の判定基準とし
て製造工程内で利用できる。
(ｴ)すなわち，本願発明でいう電磁干渉抑制体は，反磁界の比Ｈｄｄ／
Ｈｄｅが４以上である複合磁性体を指し，反磁界の比Ｈｄｄ／Ｈｄｅ
を測定する前の複合磁性体は，電磁干渉抑制体とは呼ばず，単に複合
磁性体と呼んでいることは本願明細書（甲２，５）の記載からも明ら
かである。つまり，本願発明に係る電磁干渉抑制体は，軟磁性体粉末
と有機結合剤を含む複合磁性体のうち，特定の特性，即ち，反磁界Ｈ
ｄｄとＨｄｅの比Ｈｄｄ／Ｈｄｅが４以上の複合磁性体を選別するこ
とによって得られるのである。すなわち，本願発明の趣旨は，製造条
件によって特定された電磁干渉抑制体を得ることにあるのではなく，
製造された複合磁性体のうち，特定の特性を備えた複合磁性体を選別
することによって本願発明でいう電磁干渉抑制体を得ることにあるの
であって，製造条件によって特定された複合磁性体ではないのである。
したがって，本願発明に係る電磁干渉抑制体の製造方法としては，
本願発明の電磁干渉抑制体に対する示唆及びその特性に対する目標値
を与えれば，周知技術を使用している限り当業者が容易にかつ任意に
実現できるのである。
(ｵ)このように，本願発明は，新規な知見に基づく産業上極めて有用な
発明であるにもかかわらず，審決は，本願発明が，新規な知見に基づ
くものであることについて全く審理することなく本願発明の趣旨を誤
解した点で違法であり，この結果，誤った結論を導き出したものであ
る。
(ｶ)被告は，各製造条件での製造及び確認作業は当業者に過度の試行錯
誤を強いるから，本願明細書（甲２，５）がその物を当業者が製造す
る程度に明確かつ十分に記載されているとはいえないと主張する。
しかし，本願明細書（甲２，５）の実施例に記載された製造条件と
そこから一義的に定まる条件に，当業者の技術常識を加味すれば，下
記直交表を用いるまでもなく，本願発明に係る電磁干渉抑制体を容易
に得ることができる。しかも，甲７の２（矢野宏「品質工学計算法入
門，財団法人日本規格協会・２００２年４月３０日第７刷発行，甲」）
８（田口玄一・横山巽子「経営工学シリーズ１８実験計画法」財団法
人日本規格協会・１９７９年１０月２５日初版第１刷発行）等におけ
る直交表を用いれば，各製造条件での製造及び確認作業は，当業者に
過度の試行錯誤を強いるものでないことは明らかである。
イ取消事由２（実施可能要件の判断の誤り２）
(ｱ)審決は「したがって，本願明細書には「電磁干渉抑制体及びその，
製造方法」の一般的な製造方法が記載されているにすぎず，本願でいう
「電磁干渉抑制体」の要件を満たすためには，一般的な製造方法の中か
ら，如何なる製造条件によって得られるかという，製造条件と本願でい
う「電磁干渉抑制体」の要件を結びつける記載は認められない。また，
本願でいう「電磁干渉抑制体」の要件を満たすための製造方法が，当業
者の技術常識であるともいえない。したがって，本願明細書の発明の詳
細な説明は，当業者がその実施をすることができる程度に明確かつ十分
に記載されているとは認められない（８頁１５行∼２３行）とする。」
が，誤りである。
(ｲ)すなわち，本願発明の請求項１では「…該複合磁性体を立方体と，
成したときの磁化困難軸方向の反磁界Ｈｄｄと磁化容易軸方向の反磁
界Ｈｄｅとの比Ｈｄｄ／Ｈｄｅを測定したときに」と記載しているこ
とからも明らかなとおり，本願発明は，製造条件によって一義的に特
定された「電磁干渉抑制体」を趣旨とするものではない。すなわち，
本願発明は，比Ｈｄｄ／Ｈｄｅを測定した結果，当該比Ｈｄｄ／Ｈｄ
ｅが４以上の複合磁性体を選別して電磁干渉抑制体とすることを趣旨
とするものであり，特定の製造条件によって得られた複合磁性体を電
磁干渉抑制体とするものではない。
(ｳ)さらに，本願発明の請求項２は「剪断応力を加える」こと「外部，，
磁界を印加する」こと，或いは「ロール圧延する」ことによって，上，
記比Ｈｄｄ／Ｈｄｅを４以上にできることを明記している。即ち，本
願の請求項２は，４以上の比Ｈｄｄ／Ｈｄｅを有する電磁干渉抑制体
は一般的な製造方法を用いても実現できることを例示的に開示してい
るのである。
(ｴ)以上によれば，本願発明に係る電磁干渉抑制体は，当業者の技術常
識である一般的な製造方法における製造条件を特定することを必須の
要件とするものではないことは明らかであるにもかかわらず，本願で
いう「電磁干渉抑制体」の要件を満たすための製造条件に関する記載
がないとして拒絶した審決は，本願発明の趣旨を明らかに誤解してい
る。
ウ取消事由３（本願明細書の試料１∼４の記載の評価の誤り）
(ｱ)試料１につき
①審決は「発明の詳細な説明の段落【００３６】には［試料１］，，
に関する説明として「以下の配合からなる軟磁性体ペーストを調合，
し，これをドクターブレード法により支持体上に製膜し，塗工方向
に引っ張り力を与え剪断力を加えた。これに熱プレスを施して後，
８５℃にて２４時間キュアリングを行い試料１を得た」とある。こ。
こで「ドクターブレード法により支持体上に製膜し」とあるが，上，
記「ドクターブレード法」により製膜する際のブレードの移動速度，
膜厚等の製造条件が明らかではなく，また，上記「製造条件」が当
業者の技術常識であるともいえないから，上記「ドクターブレード
法」を実施することができる程度に明確かつ十分に記載されている
とは認められない。また「塗工方向に引っ張り力を与え剪断力を加，
えた」とあるが，上記「塗工方向」が如何なる方向であるか「引っ，
張り力」の大きさや与える方法「剪断力」の大きさや加える方法等，
の製造条件が明らかではなく，また，上記「製造条件」が当業者の
技術常識であるともいえないから，上記「塗工方向に引っ張り力を
与え剪断力を加えた」を実施することができる程度に明確かつ十分
に記載されているとは認められない。また「これに熱プレスを施し，
て後」とあるが，上記「熱プレス」の温度，熱を加える方法等の製
造条件が明らかではなく，また，上記「製造条件」が当業者の技術
常識であるともいえないから，上記「熱プレス」を実施することが
できる程度に明確かつ十分に記載されているとは認められない」。
（６頁下１４行∼７頁６行）とするが，誤りである。
②すなわち「ドクターブレード法」は，３０年以上も前から知られ，
ている周知技術であって，当業者にとっては非常に馴染みの深い技術
であり，当業者は非常に多くの知識，ノウハウを蓄積しておりかつ，
習熟している。そうすると「ドクターブレード法」におけるブレー，
ドの移動速度，膜厚等を選択することは，当業者が任意に選択できる
事項であるから，ブレードの移動速度，膜厚等が記載されていないこ
とを理由に実施可能要件を満たしていないとする審決は，ドクターブ
レード法が当業者には周知の技術であること，また，ドクターブレー
ド法に関する技術知識が当業者には高度に集積されていることを無視
している。
また，周知のドクターブレード法によって製膜された本願発明に
係る試料１では，さらに，機械的な剪断力を加え，さらに，熱プレ
スを施すことによって，４以上の反磁界の比Ｈｄｄ／Ｈｄｅを有す
るものが得られるものであるから，試料１は周知技術を組み合わせ
ることによって得られるものである。
また，本願発明に係る試料１では，塗工方向に引っ張ることによ
って引っ張り力が与えられていることは明らかであり，この引っ張
り力によって，塗工された軟磁性ペースト内部及び基材と軟磁性体
ペースト間に剪断力が発生することも自明のことである。また「熱，
プレス」自体も，当業者には周知の技術であって，当業者であれば，
熱プレスの対象となる材料（ここでは，軟磁性体粉末と有機結合剤
を含む複合磁性体）を明らかにすれば，当該材料に応じて熱プレス
の温度，熱を加える方法等の製造条件は，当業者がその製造環境に
応じて任意に選択できるものである。
したがって，本願明細書（甲２，５）では，周知技術を組み合わ
せることによって試料１が得られることを開示すると共に，得られ
るべき目標値として反磁界の比Ｈｄｄ／Ｈｄｅが４以上であること
を開示しており，この開示に基づけば，当業者の製造環境に応じて，
周知技術の条件を設定して本願発明でいう電磁干渉抑制体を得るこ
とは極めて容易である。すなわち，周知のドクターブレード法によ
って製膜された軟磁性体ペーストに対して，引っ張り力を与えると
共に，熱プレス及びキュアリングを施すことにより，所望のＨｄｄ
／Ｈｄｅ比を有する試料１が得られることを本願発明では開示して
いる。ここでは，理由を完全には解明できないが，例えば，引っ張
り力及び熱プレスを加えれば，反磁界の比Ｈｄｄ／Ｈｄｅを４以上
にできたと云う事実を明らかにしているのである。したがって，理
由を解明できない場合であっても，所望の特性を有する電磁干渉抑
制体が実際に得られていれば，発明は成立するはずであり，かつ，
本願明細書（甲２，５）の記載内容から，当業者が所望の特性を有
する複合磁性体を得ることは，極めて容易である。
(ｲ)試料２につき
①審決は「発明の詳細な説明の段落【００３８】には［試料２］，，
に関する説明として「以下の配合からなる軟磁性体ペーストを調合，
し，これをドクターブレード法により支持体上に製膜した。これに
面内方向の磁場を印加した後に，８５℃にて２４時間キュアリング
を行い試料２を得た」とある。ここで「ドクターブレード法によ。，
り支持体上に製膜した」とあるが，上記「ドクターブレード法」に
より製膜する際のブレードの移動速度，膜厚等の製造条件が明らか
ではなく，また，上記「製造条件」が当業者の技術常識であるとも
いえないから，上記「ドクターブレード法」を実施することができ
る程度に明確かつ十分に記載されているとは認められない。また，
「これに面内方向の磁場を印加した後に」とあるが，上記「面内方
向」が如何なる方向であるか「磁場を印加」する際の磁場の大きさ，
や印加する方法等の製造条件が明らかではなく，また，上記「製造
条件」が当業者の技術常識であるともいえないから，上記「これに
面内方向の磁場を印加した後に」を実施することができる程度に明
確かつ十分に記載されているとは認められない（７頁９行∼２３。」
行）とするが，誤りである。
②すなわち，試料１について述べたのと同様に，ドクターブレード
法自体，当業者には周知の技術であり，その条件を選択することは，
当業者が任意に選択できることである。しかも，本願発明は，ドク
ターブレード法によって塗工された複合磁性体に対して，更に，他
の処理を施すことが必要であることを開示している。このことは，
ドクターブレード法の製造条件によらず，ドクターブレード法によ
って製膜された複合磁性体に対して他の処理を施すことが必要であ
ることを開示したものである。したがって，ドクターブレード法に
より製膜する際のブレードの移動速度，膜厚等の製造条件に特徴が
あるとはいえないから，これらの製造条件の記載がないからといっ
て「ドクターブレード法」を実施できないとする審決は誤っている。，
また「面内方向」とは，板状やシート状の物体の厚さに対して直，
角方向の面方向を指すことは当業者の技術常識であり，さらに，本
願明細書（甲２，５）には「磁場」の大きさや印加する方法等につ，
いても「面内方向」に対する磁場の大きさを調整すれば，Ｈｄｄ／，
Ｈｄｅ比が４以上になるという事実が明記されている。すなわち，
磁場の大きさは，複合磁性体の材料，サイズ，厚さを考慮して任意
に決定することができるものであり，要はＨｄｄ／Ｈｄｅ比が４以
上になるように，磁場の大きさを調整すれば良いのである。このよ
うな磁場の大きさは，得られた複合磁性体のＨｄｄ／Ｈｄｅ比の測
定結果をフィードバックする形で最適に調整しているのであり，こ
のことは，本願発明の特許請求の範囲の記載からも明白である。こ
のように，磁場の調整過程は，当業者が通常行う範囲であって，審
決はこのような事情を全く無視したものである。
(ｳ)試料３につき
①審決は「発明の詳細な説明の段落【００４０】には［試料３］，，
に関する説明として「以下の配合からなる軟磁性体ペーストを調合，
し，これをドクターブレード法により支持体上に製膜した。これに
熱プレスを施した後に，８５℃にて２４時間キュアリングを行い試
料３を得た」とある。ここで「ドクターブレード法により支持体。，
上に製膜した」とあるが，上記「ドクターブレード法」により製膜
する際のブレードの移動速度，膜厚等の製造条件が明らかではなく，
また，上記「製造条件」が当業者の技術常識であるともいえないか
ら，上記「ドクターブレード法」を実施することができる程度に明
確かつ十分に記載されているとは認められない（７頁下１０行∼。」
８頁３行）とするが，誤りである。
②すなわち「ドクターブレード法」については上記ア，イと同様で，
ある。また「熱プレス」の温度，熱を加える方法等の製造条件は，Ｈ
ｄｄ／Ｈｄｅ比の測定結果を参照して当業者が任意に調整できる範囲
であるから，熱プレスの温度，熱を加える方法の具体的な記載がなく
とも，当業者はドクターブレード法によって得られた複合磁性体に対
して熱プレスを施した後，反磁界の比Ｈｄｄ／Ｈｄｅを測定し，測定
結果をフィードバックして最適に調整することにより，本願発明に係
る電磁干渉抑制体を得ることは極めて容易である。したがって，当業
者の技術常識，蓄積された熱プレスに関する知識，習熟度，及びＨｄ
ｄ／Ｈｄｅ比の測定技術をもってすれば，本願発明は容易に実施でき
る。
(ｴ)試料４につき
①審決は「発明の詳細な説明の段落【００４２】には［試料４］，，
に関する説明として「以下の配合からなる軟磁性体を調合し，これ，
をミキシングロールを用いてロール圧延により，シート状に形成し，
試料４を得た」とある。ここで「これをミキシングロールを用い。，
てロール圧延により，シート状に形成し」とあるが，上記「ロール
圧延」する際のロールの形状やロールの移動速度，圧延する際の圧
力の大きさや圧力を加える方法，シート状に形成する際の膜厚等の
製造条件が明らかではなく，また，上記「製造条件」が当業者の技
術常識であるともいえないから，上記「ロール圧延」を実施するこ
とができる程度に明確かつ十分に記載されているとは認められな
い（８頁６行∼１４行）とするが，誤りである。。」
②すなわち，審決の認定は「ロール圧延」に関する当業者の技術常
識及び蓄積された知識，習熟度，ノウハウ等を全く無視したもので
あり，ロール圧延と反磁界Ｈｄｄ／Ｈｄｅ比の関係が示唆されれば，
この示唆に基づき，圧延されるべき複合磁性体に応じて製造条件を
変化させて所望の特性を実現できることは当業者には極めて容易で
ある。
エ取消事由４（平成１８年６月１６日付け原告意見書〔甲４〕記載の主張
に対する判断の誤り）
(ア)審決は「本願明細書の発明の詳細な説明の段落【００３２】∼，「
【００４４】の実施例には，具体的な製造条件，製造工程，軟磁性体
粉末の形状，配列のされ方及び充填量等が記載されていますので，審
判長殿のこのご認定にも全く承服できません」とする請求人の上記。
主張は，上記「３−２実施例について」で判断したとおり，本願明
細書の発明の詳細な説明は，当業者がその実施をすることができる程
度に明確かつ十分に記載されているとは認められず，よって，採用す
ることができない（９頁下６行∼１０頁１行）とするが，これは，。」
本願発明が製造条件によって規定される電磁干渉抑制体であるものと
誤認しており，この誤認に基づいたものであるから，誤りである。
(イ)また審決は「本願明細書の発明の詳細な説明の段落【００２，「
８】以外の段落【００３２】∼【００３８】に記載された実施例には，
製造条件，製造工程，剪断応力を加える方向等に具体的に記載しており
ます。したがって，審判官殿のこのご認定にも全く承服できません」。
とする請求人の上記主張は，上記「３−２実施例について」で判断し
たとおり，本願明細書の発明の詳細な説明は，当業者がその実施をする
ことができる程度に明確かつ十分に記載されているとは認められず，よ
って，採用することができない。そして「剪断応力の大きさにつきま，
しては，比Ｈｄｄ／Ｈｄｅを４以上とするような大きさであることは，
出願当初の明細書の記載から明白であります」とする請求人の上記主。
張は「比Ｈｄｄ／Ｈｄｅを４以上とするような大きさ」が如何なる量，
の大きさであるか明確でなく，当業者がその実施をすることができる程
度に明確かつ十分に記載されているとは認められず，よって，採用する
ことができない（１０頁２行∼１４行）とするが，これも，本願発。」
明の特許請求の範囲の記載を無視した結果，本願発明の趣旨を誤認した
ものであるから，誤りである。
(ウ)また審決は「本願明細書の発明の詳細な説明の段落【００３，「
２】∼【００３５】及び【００３８】∼【００４０】の実施例には，製
造条件，製造工程，外部磁界の印加する方向等に具体的に記載していま
すので，審判長殿のこのご認定にも全く承服できません」とする請求。
人の上記主張は，上記「３−２実施例について」で判断したとおり，
本願明細書の発明の詳細な説明は，当業者がその実施することができる
程度に明確かつ十分に記載されているとは認められず，よって，採用す
ることができない（１０頁１５行∼２１行）とするが，これも，本。」
願発明の特許請求の範囲の記載を誤認したことに基づくものであるから，
誤りである。
(エ)さらに審決は「また「本願明細書の発明の詳細な説明の段落【０，
０３２】∼【００３５】及び【００４２】∼【００４４】の実施例には，
製造条件，製造工程等を具体的に記載しておりますので，審判長殿のこ
のご認定にも全く承服できません」とする請求人の上記主張は，上記。
「３−２実施例について」で判断したとおり，本願明細書の発明の詳細
な説明は，当業者がその実施をすることができる程度に明確かつ十分に
記載されているとは認められず，よって，採用することができない」。
（１０頁２２行∼２８行）と認定するが「３−２実施例について」，
における判断は，上記ウのとおり，誤った前提に立つ誤った判断である。
２請求原因に対する認否
請求原因(1)∼(3)の各事実は認めるが，同(4)は争う。
３被告の反論
審決の認定判断は正当であり，原告主張の取消事由はいずれも理由がない。
(1)取消事由１に対し
ア原告は，本願発明でいう「電磁干渉抑制体」は製造条件によって特定さ
れるものではない，本願発明は，製造方法及び得ようとする特性を開示す
れば，その製造方法自体，周知技術を用いたものであるから，製造条件ま
でも詳しく開示するまでもなく，当業者には容易に実現可能である，と主
張する。
しかし，比Ｈｄｄ／Ｈｄｅは，熱処理の有無，製造方法，偏平化時間な
どの様々な要因によって変化し，その製造条件によっては本願請求項１に
係る発明の特性を満たさないことがある（平成１６年７月１３日付け手続
補正書（甲６，審判請求書の請求の理由の変更）３頁３０行∼４頁１４行
等参照）から，単に比Ｈｄｄ／Ｈｄｅが４以上を呈するという目標値を与
えるだけでなく，具体的な製造条件の設定が重要であり，その製造条件の
設定についてまで明確かつ十分に明らかにされなければ当業者といえども
本願発明の特性を満たす電磁干渉抑制体を製造することはできない。
そして，本願発明でいう「電磁干渉抑制体，すなわち「比Ｈｄｄ／Ｈ」
ｄｅを４以上とする複合磁性体」を製造するための製造条件，即ち，具体
的な製造方法は周知技術ではない。
イ原告は，本願発明では，複合磁性体を立方体形状に切り出し，複合磁性
体自体の形状異方性を無くした状態で，立方体形状の複合磁性体における
磁化容易軸方向及び磁化困難軸方向の反磁界Ｈｄｄ，Ｈｄｅを測定してい
る，そして，反磁界の測定結果を反磁界の比Ｈｄｄ／Ｈｄｅで表し，反磁
界の比と磁気損失をあらわす虚数部透磁率μ”との関係を検討したところ，
驚くべきことに，反磁界の比Ｈｄｄ／Ｈｄｅが４以上において，虚数部透
磁率μ”が大きく変化するという事実を見出した，この知見は，比較的測
定容易な反磁界の比Ｈｄｄ／Ｈｄｅを測定するだけで，複合磁性体の磁気
損失性能を評価できることを意味し，例えば，比Ｈｄｄ／Ｈｄｅが４以上
のとき良品と判定するような良品・不良品の判定基準として製造工程内で
利用できるのである，このように，本願発明は，新規な知見に基づく産業
上極めて有用な発明なのである，しかるに審決は，本願発明が，新規な知
見に基づくものであることに全く審理することなく本願発明の趣旨を誤解
した点で違法性があり，この結果，誤った結論を導き出していると主張す
る。
しかし，後記ウに記載したとおり，法３６条４項は，明細書の発明の詳
細な説明の記載について，その発明の属する技術の分野における通常の知
識を有する者（当業者）がその実施をすることができる程度に明確かつ十
分に記載しなければならないとしているのであり，発明に新規な知見があ
るかどうかとは関係がなく，新規な知見があることがその発明の属する技
術の分野における通常の知識を有する者が十分にその実施をすることがで
きるというものでもない。また，既存の電磁干渉抑制体から特定の物性を
有するものを選択する「評価基準」に関する発明であるのなら，特定の評
価基準に基づく複合磁性体の選択方法として特許請求の範囲を記載すべき
であるが，本願発明は，そのようには記載されていないから，この点にお
いて，原告の主張は根拠を欠くものである。
ウ原告は，本願発明の趣旨は，製造条件によって特定された電磁干渉抑制
体を得ることにあるのでは無く，製造された複合磁性体のうち，特定の特
性を備えた複合磁性体を選別することによって本願発明でいう電磁干渉抑
制体を得ることにあるのであって，製造条件によって特定された複合磁性
体ではないから，本願発明に係る電磁干渉抑制体の製造方法としては，本
願発明の電磁干渉抑制体に対する示唆及びその特性に対する目標値を与え
れば，周知技術を使用している限り当業者が容易にかつ任意に実現できる
と主張する。
(ｱ)しかし，法３６条４項は，明細書の発明の詳細な説明の記載につい
て，その発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者（当業
者）がその実施をすることができる程度に明確かつ十分に記載しなけれ
ばならないとしているところ，ここでいう「実施」とは，本願発明のよ
うな「物の発明」の場合，その物を製造，使用等することであるから，
当業者がその物を製造することができる程度に記載しなければならない
ことはいうまでもなく，そのためには，明細書，図面全体の記載及び技
術常識に基づき特許出願時の当業者がその物を製造できるような場合を
除き，具体的な製造方法を記載しなければならないと解すべきである。
(ｲ)①しかるに，まず，本願発明において，比Ｈｄｄ／Ｈｄｅを測定し
たときに比Ｈｄｄ／Ｈｄｅが４以上を呈する複合磁性体を材料とする
電磁干渉抑制体を得るためには，比Ｈｄｄ／Ｈｄｅが４以上の複合磁
性体を製造する必要があることは明らかである。ここで，比Ｈｄｄ／
Ｈｄｅを測定すること自体が従来知られていなかったのであるから，
当業者が周知技術を用いて複合磁性体を製造しただけでは，比Ｈｄｄ
／Ｈｄｅが４以上を呈する複合磁性体が得られるかどうかは不明であ
り，具体的な製造条件の設定を行って初めて比Ｈｄｄ／Ｈｄｅが４以
上を呈する複合磁性体が得られるものである。しかるに，比Ｈｄｄ／
Ｈｄｅは，熱処理の有無，製造方法，偏平化時間などの様々な要因に
よって変化し，その製造条件によっては本願発明の特性を満たさない
ことがあるから，単に比Ｈｄｄ／Ｈｄｅが４以上を呈するという目標
値を与えるだけでなく，具体的な製造条件の設定が重要であり，その
製造条件の設定についてまで明確かつ十分に明らかにされなければ，
当業者は各製造条件を各々独立させて考え得る全ての範囲にわたって
変更させて製造し，製造した複合磁性体について逐一計測をして比Ｈ
ｄｄ／Ｈｄｅが本願発明の特性の数値に該当するものであるか否かを
確認する必要がある。このような各製造条件での製造及び確認作業は，
当業者に過度の試行錯誤を強いるものであるといわざるを得ないから，
本願明細書が，その物を当業者が製造する程度に明確かつ十分に記載
されているとはいえない。
②また，本願発明では，比Ｈｄｄ／Ｈｄｅが４以上を呈する複合磁性
体が得られるように，材料の「粒子が扁平状であり，形状異方性を有
する軟磁性体粉末」と「有機結合剤」とをも選択する必要があるが，
これらの材料についても，明確かつ十分に明らかにされなければ，当
業者は考え得る全ての軟磁性体粉末及び有機結合剤を材料として複合
磁性体を製造し，製造した複合磁性体について逐一計測をして比Ｈｄ
ｄ／Ｈｄｅが本願発明の特性の数値に該当するものであるか否かを確
認する必要がある。このような考え得る全ての軟磁性体粉末及び有機
結合剤を材料とした製造及び確認作業もまた，当業者に過度の試行錯
誤を強いるものであるといわざるを得ないから，本願明細書が，その
物を当業者が製造する程度に明確かつ十分に記載されているとはいえ
ない。
③また，本願発明では，複合磁性体を立方体と成したときの比Ｈｄｄ
／Ｈｄｅを測定するが，本願明細書によれば製造にドクターブレード
法を用いることから，厚さが薄い膜状の複合磁性体を得ており，立方
体と成すには，この厚さに合わせて裁断するのか，裁断するならその
際に生じる剪断応力は比Ｈｄｄ／Ｈｄｅにどのように影響するのか，
それぞれ不明であり，本願明細書が，その物を当業者が製造する程度
に明確かつ十分に記載されているとはいえない。
④さらに，本願発明は，本願明細書の記載によれば，比Ｈｄｄ／Ｈｄ
ｅを得るために，試料１∼４の製造に先立って，その製造に用いられ
る偏平状軟磁性体微粉末Ａ，Ｂ，Ｃを得るにも「本発明の効果に密接
にかかわる延伸・引裂加工により生じる残留歪みの大きさを考慮して
加工手段及び加工条件を設定する必要がある（本願明細書（甲２，。」
５）の段落【００２１】参照）としており，許容できる残留歪みの大
きさを考慮した加工手段，加工条件についても，明らかでなく，やは
り当業者は加工手段，加工条件についても条件を各々独立させて考え
得る全ての範囲にわたって変更させて偏平状軟磁性体微粉末を得て，
該偏平状軟磁性体微粉末を用いて複合磁性体を製造し，製造した複合
磁性体について逐一計測をして比Ｈｄｄ／Ｈｄｅが本願請求項１に係
る発明の特性の数値に該当するものであるか否かを確認する必要があ
り，このような各製造条件での製造及び確認作業は，当業者に更なる
過度の試行錯誤を強いるものである。
(ｳ)以上のとおり，本願発明のように「物」の発明であっても，その物
を当業者が製造する程度に明確かつ十分に記載されているとはいえない
場合には，社会における産業の発達に寄与する程度に発明を公開したこ
とにならないというべきであり，本願明細書（甲２，５）が「その発，
明の属する技術の分野における通常の知識を有する者がその実施をする
ことができる程度に明確かつ十分に」記載されているものとはいえない。
(2)取消事由２に対し
ア原告は，本願発明の特許請求の範囲には「該複合磁性体を立方体と成し
たときの磁化困難軸方向の反磁界Ｈｄｄと磁化容易軸方向の反磁界Ｈｄｅ
との比Ｈｄｄ／Ｈｄｅを測定したときに」と記載していることからも明ら
かなとおり，本願発明は，製造条件によって一義的に特定された「電磁干
渉抑制体」を趣旨とするものではない，すなわち本願発明は，比Ｈｄｄ／
Ｈｄｅを測定した結果，当該比Ｈｄｄ／Ｈｄｅが４以上の複合磁性体を選
別して電磁干渉抑制体とすることを趣旨とするものであり，特定の製造条
件によって得られた複合磁性体を電磁干渉抑制体とするものではない，さ
らに，本願の請求項２は「剪断応力を加える」こと「外部磁界を印加，，
する」こと，あるいは「ロール圧延する」ことによって，上記比Ｈｄｄ，
／Ｈｄｅを４以上にできることを明記している，すなわち本願の請求項２
は，４以上の比Ｈｄｄ／Ｈｄｅを有する電磁干渉抑制体は，一般的な製造
方法を用いても実現できることを例示的に開示している，したがって，本
願発明に係る電磁干渉抑制体は，当業者の技術常識である一般的な製造方
法における製造条件を特定することを必須の要件とするものではないこと
は明らかであるにもかかわらず，本願でいう「電磁干渉抑制体」の要件を
満たすための製造条件に関する記載がないとして拒絶した審決は，本願発
明の趣旨を明らかに誤解している，と主張する。
イしかし，原告の上記主張のうち，本願発明に関する主張については，上
記(1)ウに記載したとおり失当である。また，本願の請求項２に係る発明
についての主張も失当である。すなわち，同発明は「前記軟磁性体粉末，
と前記有機結合剤を溶媒と共に混練し，塗工時ないし塗工後の乾燥前の段
階で塗工方向に剪断応力を加える，若しくは塗工時ないし塗工後の乾燥前
の段階で塗工面方向に外部磁界を印加する，若しくはロール圧延するのい
ずれかの方法によって作られた複合磁性体を材料とした請求項１記載の電
磁干渉抑制体の製造方法」であり，これらの製造工程は周知の製造工程。
のみを列記したにすぎず，その製造条件の設定についてまでは十分に明ら
かにされていないから，比Ｈｄｄ／Ｈｄｅを測定したときに比Ｈｄｄ／Ｈ
ｄｅが４以上を呈する複合磁性体を材料とする電磁干渉抑制体を得るため
の十分な製造方法が記載されているとはいえない。また，上記周知の製造
工程のみでは比Ｈｄｄ／Ｈｄｅを測定したときに比Ｈｄｄ／Ｈｄｅが４以
上を呈する複合磁性体を材料とする電磁干渉抑制体を必ず得られる訳でも
ないから，結局，上記請求項２に係る発明も比Ｈｄｄ／Ｈｄｅを測定した
ときに比Ｈｄｄ／Ｈｄｅが４以上を呈する複合磁性体を材料とする電磁干
渉抑制体を製造できるのか不明である。
(3)取消事由３に対し
ア試料１につき
(ｱ)原告は「ドクターブレード法」自体，３０年以上も前から知られ，
ている周知技術であって，当業者は非常に多くの知識，ノウハウを蓄
積しておりかつ，習熟しているのであるから「ドクターブレード，
法」におけるブレードの移動速度，膜厚等を選択することは，当業者
が任意に選択できる事項である，したがって，ブレードの移動速度，
膜厚等が記載されていないから実施可能要件を満たしていないとする
ことはできない，また，周知のドクターブレード法によって製膜され
た本願発明に係る試料１では，さらに，機械的な剪断力を加え，さら
に，熱プレスを施すことによって，４以上の反磁界の比Ｈｄｄ／Ｈｄ
ｅを有するものが得られるものであるから，本願明細書（甲２，５）
では，周知技術を組み合わせることによって試料１が得られることを
開示すると共に，得られるべき目標値として反磁界の比Ｈｄｄ／Ｈｄ
ｅが４以上であることを開示しており，この開示に基づけば，当業者
の製造環境に応じて，周知技術の条件を設定して本願発明でいう電磁
干渉抑制体を得ることは極めて容易である，また，本願発明は，理由
を完全には解明できないが，例えば，引っ張り力及び熱プレスを加え
れば，反磁界の比Ｈｄｄ／Ｈｄｅを４以上にできたという事実を明ら
かにしているところ，理由を解明できない場合であっても，所望の特
性を有する電磁干渉抑制体が実際に得られていれば，発明は成立する
はずであると主張する。
(ｲ)しかし，原告の上記主張に対しては，前記(1)ウの反論が当てはまる。
また，具体的には，比Ｈｄｄ／Ｈｄｅが４以上の複合磁性体を得るた
めには，以下の少なくとも７つの基本的な製造条件を全て調整する必
要がある。
１）ドクターブレード法における，ブレードの移動速度
２）ドクターブレード法における，膜厚
３）引っ張り力を与えて剪断応力を加える際の，引っ張り力
４）引っ張り力を与えて剪断応力を加える際に，基材の材質に応じ
て剪断応力が変化するから，基材の材質と引っ張り力の関係
５）熱プレスを施す際の，温度
６）熱プレスを施す際の，熱を加える時間
７）熱プレスを施す際の，熱を加える方法
本願明細書（甲２，５）には，これらの製造条件の記載がない上，
各製造条件と比Ｈｄｄ／Ｈｄｅとの相関さえも記載がないから，当業
者は各製造条件を各々独立させて考え得る全ての範囲にわたって変更
させて製造し，製造した複合磁性体について逐一計測をして比Ｈｄｄ
／Ｈｄｅが本願発明の特性の数値に該当するものであるか否かを確認
する必要がある。このような各製造条件での製造及び確認作業は，当
業者に過度の試行錯誤を強いるものであるといわざるを得ないから，
本願明細書が，その物を当業者が製造する程度に明確かつ十分に記載
されているとはいえない。
イ試料２につき
(ｱ)原告は，試料１について述べたのと同様に，ドクターブレード法自
体，当業者には周知の技術であり，その条件を選択することは，当業
者が任意に選択できることである，しかも，本願発明は，ドクターブ
レード法によって製膜された複合磁性体に対して他の処理を施すこと
が必要であることを開示しているから，ドクターブレード法により製
膜する際のブレードの移動速度，膜厚等の製造条件に特徴があるとは
いえない，また「面内方向」とは，板状やシート状の物体の厚さに，
対して直角方向の面方向を指すことは当業者の技術常識であり，さら
に，本願明細書（甲２，５）には「磁場」の大きさや印加する方法，
等についても「面内方向」に対する磁場の大きさを調整すれば，Ｈ，
ｄｄ／Ｈｄｅ比が４以上になるという事実が明記されている，すなわ
ち，磁場の大きさは，複合磁性体の材料，サイズ，厚さを考慮して任
意に決定することができるのであり，要はＨｄｄ／Ｈｄｅ比が４以上
になるように，磁場の大きさを調整すれば良いのであると主張する。
(ｲ)しかし，原告の上記主張に対しては，前記(1)ウの反論が当てはま
る。また，具体的には，比Ｈｄｄ／Ｈｄｅが４以上の複合磁性体を得
るためには，以下の少なくとも５つの基本的な製造条件を全て調整す
る必要があるから，上記ア(ｲ)と同様の反論が当てはまる。
１）ドクターブレード法における，ブレードの移動速度
２）ドクターブレード法における，膜厚
３）磁場を印加する際の，面内方向における，面内での磁場を印加
する方向，即ち，ドクターブレードの塗工方向と磁場を印加する方
向の角度
４）磁場を印加する際の，印加する磁場の大きさ
５）磁場を印加する際の，磁場を印加する手段
ウ試料３につき
(ｱ)原告は「ドクターブレード法」については試料１，２で述べたの，
と同様である，また「熱プレス」の温度，熱を加える方法等の製造条
件は，Ｈｄｄ／Ｈｄｅ比の測定結果を参照して当業者が任意に調整で
きる範囲であるから，熱プレスの温度，熱を加える方法の具体的な記
載がなくとも，当業者はドクターブレード法によって得られた複合磁
性体に対して熱プレスを施した後，反磁界の比Ｈｄｄ／Ｈｄｅを測定
し，測定結果をフィードバックして最適に調整することにより，本願
発明に係る電磁干渉抑制体を得ることは極めて容易である，と主張す
る。
(ｲ)しかし，原告の上記主張に対しては，前記(1)ウの反論が当てはまる。
また，具体的には，比Ｈｄｄ／Ｈｄｅが４以上の複合磁性体を得るた
めには，以下の少なくとも５つの基本的な製造条件を全て調整する必
要があるから，上記ア(ｲ)と同様の反論が当てはまる。
１）ドクターブレード法における，ブレードの移動速度
２）ドクターブレード法における，膜厚
３）熱プレスを施す際の，温度
４）熱プレスを施す際の，熱を加える時間
５）熱プレスを施す際の，熱を加える方法
エ試料４につき
(ｱ)原告は，審決の認定は「ロール圧延」に関する当業者の技術常識及
び蓄積された知識，習熟度，ノウハウ等を全く無視したものであり，
ロール圧延と反磁界Ｈｄｄ／Ｈｄｅ比の関係が示唆されれば，この示
唆に基づき，圧延されるべき複合磁性体に応じて製造条件を変化させ
て所望の特性を実現できることは当業者には極めて容易であると主張
する。
(ｲ)しかし，原告の上記主張に対しては，前記(1)ウの反論が当てはまる。
また，具体的には，比Ｈｄｄ／Ｈｄｅが４以上の複合磁性体を得るた
めには，以下の少なくとも７つの基本的な製造条件を全て調整する必
要があるから，上記ア(ｲ)と同様の反論が当てはまる。
１）ドクターブレード法における，ブレードの移動速度
２）ドクターブレード法における，膜厚
３）ロール圧延する際の，ロールの形状
４）ロール圧延する際の，ロールの移動速度
５）ロール圧延する際の，圧力の大きさ
６）ロール圧延する際の，圧力を加える方法
７）ロール圧延する際の，ロール後の膜厚
(4)取消事由４に対し
原告は，意見書記載の主張に対する判断の誤りについて主張するが，上記
(1)∼(3)に照らし同主張はすべて失当である。
第４当裁判所の判断
１請求原因(1)（特許庁における手続の経緯，(2)（発明の内容，(3)（審決））
の内容）の各事実は，いずれも当事者間に争いがない。
２本願明細書（甲２，５）の記載
(1)本願明細書（甲２，５）の【特許請求の範囲】には，前記第３，１，(2)
のとおりの本願発明が記載されているほか【発明の詳細な説明】には，以，
下の記載がある。
ア発明の属する技術分野
「本発明は，高周波領域に於いて優れた複素透磁率特性を有する複合磁性
材料およびその一応用例である電磁波吸収体に関し，詳しくは，高周波電
子回路／装置に於いて問題となる電磁干渉の抑制に有効な複素透磁率特性
の優れた複合磁性体と，及びその製造方法ならびに電磁干渉抑制体に関す
る（段落【０００１）。」】
イ従来の技術
「近年，デジタル電子機器をはじめ高周波を利用する電子機器類の普及が
進み，中でも準マイクロ波帯域を使用する移動通信機器類の普及がめざま
しい。このような携帯電話に代表される移動体通信機器では，小型化・軽
量化の要求が高く，電子部品の高密度実装化が最大の技術課題となってい
る。このような過密実装においては，電子部品類やプリント配線あるいは
モジュール間配線等が互いに極めて接近することになる。更に，信号処理
速度の高速化も図られている為，静電結合及び／又は電磁結合による線間
結合の増大化や放射ノイズによる干渉などが生じ，機器の正常な動作を妨
げる事態が少なからず生じている（段落【０００２）。」】
「このようないわゆる電磁障害に対して従来は，主に導体シールドを施す
事による対策がなされてきた（段落【０００３）。」】
ウ発明が解決しようとする課題
「しかしながら，導体シールドは，空間とのインピーダンス不整合に起因
する電磁波の反射を利用する電磁障害対策である為に，遮蔽効果は，得ら
れても不要輻射源からの反射による電磁結合が助長される欠点がある。そ
の欠点を解決するために，二次的な電磁障害対策として，磁性体の磁気損
失，即ち虚数部透磁率μ”を利用した不要輻射の抑制が有効である」。
（段落【０００４）】
「即ち，前記シールド体と不要輻射源の間に磁気損失の大きい磁性体を配
設する事で不要輻射を抑制することが出来る（段落【０００５）。」】
「ここで，磁性体の厚さｄは，μ”＞μ’なる関係を満足する周波数帯域
にてμ”に反比例するので，前述した電子機器の小型化・軽量化要求に迎
合する薄い電磁干渉抑制体即ち，シールド体と吸収体からなる複合体を得
るためには，虚数部透磁率μ”の大きな磁性体が必要となる（段落。」
【０００６）】
「磁気損失すなわち虚数部透磁率μ”を大きくするためには，実部透磁率
μ’を大きくすることが必要であり，そのためには，前記複合磁性体の反
磁界を小さくすることが必要である。ここで，複合磁性体の反磁界の大き
さは，前記扁平状軟磁性粉末の反磁界係数Ｎdと，前記扁平状軟磁性粉末
の前記複合磁性体中での配列のされ方，および前記軟磁性粉末の充填量等
により決定され，前記扁平状軟磁性粉末を前記複合磁性体の面内方向に高
い配向度で配列させることにより減少する。したがって，扁平状の形状を
有する軟磁性粉末をいかに同じ方向に並べるかがμ”の大きさを改善する
ための課題であり，また，配向の程度，すなわち軟磁性粉末の並び具合を
定量的に把握するための有効なパラメータの導入も工業的に重要であ
る（段落【０００７）。」】
「そこで，本発明は，さらに配向度が改善され，その結果として優れた磁
気損失特性を有する複合磁性体を提供すること，および磁性粉末の配向度
の目安となるパラメータの導入を目的とする（段落【０００８）。」】
エ課題を解決するための手段
「本発明によれば，粒子が扁平状であり，形状異方性を有する軟磁性体粉
末を有機結合剤中に分散して複合磁性体とし，該複合磁性体を立方体と成
したときの磁化困難軸方向の反磁界Ｈddと磁化容易軸方向の反磁界Ｈdeと
の比Ｈdd／Ｈdeを測定したときに，前記比Ｈdd／Ｈdeが４以上を呈する複
合磁性体を材料とした電磁干渉抑制体が得られる（段落【０００９）。」】
「又，本発明によれば，前記軟磁性体粉末と前記有機結合剤を溶媒と共に
混練し，塗工時ないし塗工後の乾燥前の段階で塗工方向に剪断応力を加え
る，若しくは塗工時ないし塗工後の乾燥前の段階で塗工方向に外部磁界を
印加する，若しくはロール圧延するのいずれかの方法によって作られた複
合磁性体を材料とした上記電磁干渉抑制体の製造方法が得られる（段。」
落【００１１）】
オ作用
「本発明者らは，軟磁性体の高周波透磁率が反磁界の大きさに強く依存す
ることに着目し，前記反磁界の大きさを定量的に把握できるパラメータと
して，磁化困難軸方向の反磁界Ｈddと磁化容易軸方向の反磁界Ｈdeとの比
Ｈdd／Ｈdeを求めることによって，複合磁性体試料中の磁性粉末の充填率
や，粉末その者の反磁界係数が変化した場合でも実効的な反磁界の大きさ
が把握できるようにし，さらに，その比率を試料形状を立方体としたとき
に４以上とすることで，優れた透磁率特性が得られることを見出した。ま
た，この比Ｈdd／Ｈdeの制御は，上のように複合磁性体の製造方法によっ
て行える（段落【００１５】。」
カ発明の実施の形態
「本発明に於いては，高周波透磁率の大きな鉄アルミ珪素合金（センダス
ト，鉄ニッケル合金（パーマロイ，或いはアモルファス合金等の金属））
軟磁性材料を原料素材として用いることが出来る（段落【００１９）。」】
「本発明では，これらの粗原料を粉砕，延伸・引裂加工等により扁平化し，
その厚みを表皮深さと同等以下にすると共に，粉末の反磁界係数Ｎdをほ
ぼ１にするために扁平化された軟磁性体材料のアスペクト比を概ね１０以
上とする必要がある。…（段落【００２０）」】
「…所望の表皮深さとアスペクト比を得るには，出発粗原料粉末の平均粒
径を特定するのが最も簡便な手段の一つである。この粉砕，延伸・引裂加
工に用いることの出来る代表的な粉砕手段として，ボ−ルミル，アトライ
タ，ピンミル等を挙げることが出来，前述した条件を満足する軟磁性体粉
末の厚さとアスペクト比が得られれば粉砕手段に制限はないが，本発明の
効果に密接にかかわる延伸・引裂加工により生じる残留歪みの大きさを考
慮して加工手段及び加工条件を設定する必要がある（段落【００２。」
１）】
「尚，軟磁性体としては，磁歪定数λがゼロのものでも，正のものでも，
負のものでもよいが，正の原料磁性体を用いた場合には，延伸・引裂加工
により形状磁気異方性が生じると共に，残留歪みによる歪磁気異方性（磁
気弾性効果）が生じ，両者の向きが同じとなる為，異方性磁界は両者の和
となる。従って，磁歪定数λがゼロである原料を用いた場合に比べて，異
方性磁界はより大きな値となり，磁気共鳴周波数もより高いものとなる。
ところでこの扁平化加工により生じる残留歪みは，適当な焼鈍処理を施す
ことにより緩和される…（段落【００２２）」】
「本発明の複合磁性体の一構成要素として用いる有機結合剤としては，ポ
リエステル系樹脂，ポリエチレン系樹脂，ポリ塩化ビニル系樹脂，ポリビ
ニルブチラール樹脂，ポリウレタン樹脂，セルロース系樹脂，ＡＢＳ樹脂，
ニトリル−ブタジエン系ゴム，スチレン−ブタジエン系ゴム，エポキシ樹
脂，フェノール樹脂，アミド系樹脂，イミド系樹脂，或いはそれらの共重
合体を挙げることが出来る（段落【００２７）。」】
「この混練・分散された磁性体混合物から複合磁性体を得るための一つの
方法は，磁性体混合物を支持体上に塗工して，乾燥することであるが，本
発明によれば，この塗工時に磁性粉の大きさと同等レベルないしそれ以下
のギャップを有するドクタブレード装置（アプレケータ）を用いるか，ま
たは乾燥の前に支持体を引っ張るなどして，剪断応力を加える。これによ
って，製造された複合磁性体を立方体に成した時の磁化困難軸方向の反磁
界Ｈddと磁化容易軸方向の反磁界Ｈdeとの比Ｈdd／Ｈdeを４以上とするこ
とができ，優れた高周波透磁率を有する複合磁性体を得ることができ
る（段落【００２８）。」】
「比Ｈdd／Ｈdeを４以上とするために，この剪断応力を与える代わりに，
磁場を印加する方法を採用することもできる（段落【００２９）。」】
「又，塗工法を採用せず，混練・分散された磁性体を直接ロール圧延によ
って，シート状に形成してもよい。このロール圧延により，比Ｈdd／Ｈde
が４以上を実現することができる（段落【００３０）。」】
キ実施例
「水アトマイズ法により作製された複数の鉄アルミ珪素合金粉末を用意し，
アトライタ及びピンミルを用い様々な条件下にて粉砕，延伸・引裂加工を
行い，更に，炭化水素系有機溶媒中で酸素分圧３５％の窒素−酸素混合ガ
スを導入しながら８時間撹拌し液相中徐酸処理した後，複数の粉末試料を
得た。ここで得られた粉末を表面分析した結果，金属酸化物の生成が明確
に確認され，試料粉末の表面に於ける酸化被膜の存在が認められた」。
（段落【００３３）】
「尚，粉砕，延伸・引裂加工処理された鉄アルミ珪素合金粉末を減圧乾燥
し，これを酸素分圧２０％の窒素−酸素混合ガス雰囲気中で気相徐酸した
試料についてもその表面に金属酸化物が検出され，本発明の複合磁性体に
用いることの出来る少なくともその表面が酸化された軟磁性体粉末が液相
中徐酸法あるいは気相中徐酸法にて作成できることが確認された（段。」
落【００３４）】
「これらの試料粉末を用いて以下の複合磁性体試料を得た（段落【０。」
０３５）】
「試料１］以下の配合からなる軟磁性体ペーストを調合し，これをドク［
ターブレード法により支持体上に製膜し，塗工方向に引っ張り力を与え剪
断応力を加えた。これに熱プレスを施して後，８５℃にて２４時間キュア
リングを行い試料１を得た（段落【００３６）。」】
「尚，得られた試料１を走査型電子顕微鏡を用いて解析したところ，粒子
配列方向は試料膜面内方向であった（段落【００３７）。」】
「扁平状軟磁性体（Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金）微粉末Ａ・・・９５重量部
平均粒径：φ２０μｍ×０．３μｍt
磁歪の大きさ：＋０．７２
焼鈍処理：なし
ポリウレタン樹脂・・・８重量部
硬化剤（イソシアネート化合物）・・・２重量部
溶剤（シクロヘキサノンとトルエンの混合物）・・・４０重量部
［試料２］以下の配合からなる軟磁性体ペーストを調合し，これをドクタ
ーブレード法により支持体上に製膜した。これに面内方向の磁場を印加し
た後に，８５℃にて２４時間キュアリングを行い試料２を得た（段落。」
【００３８）】
「尚，得られた試料２を走査型電子顕微鏡を用いて解析したところ，粒子
配列方向は試料膜面内方向であった（段落【００３９）。」】
「扁平状軟磁性体（Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金）微粉末Ｂ・・・９５重量部
平均粒径：φ２０μｍ×０．３μｍt
磁歪の大きさ：＋０．７２
焼鈍処理：６５０℃×２ｈｒ
ポリウレタン樹脂・・・８重量部
硬化剤（イソシアネート化合物）・・・２重量部
溶剤（シクロヘキサノンとトルエンの混合物）・・・４０重量部
［試料３］
以下の配合からなる軟磁性体ペーストを調合し，これをドクターブレー
ド法により支持体上に製膜した。これに熱プレスを施した後に，８５℃に
て２４時間キュアリングを行い試料３を得た（段落【００４０）。」】
「尚，得られた試料３を走査型電子顕微鏡を用いて解析したところ，粒子
配列方向は試料膜面内方向であった（段落【００４１）。」】
「扁平状軟磁性体（Ｆｅ−Ｎｉ合金）微粉末Ｃ・・・９５重量部
平均粒径：φ３０μｍ×０．４μｍt
磁歪の大きさ：−１．０３
焼鈍処理：なし
ポリウレタン樹脂・・・８重量部
硬化剤（イソシアネート化合物）・・・２重量部
溶剤（シクロヘキサノンとトルエンの混合物）・・・４０重量部
［試料４］
以下の配合からなる軟磁性体を調合し，これをミキシングロールを用い
てロール圧延により，シート状に形成し，試料４を得た（段落【００。」
４２）】
「尚，得られた試料４を走査型電子顕微鏡を用いて解析したところ，粒子
配列方向は試料膜面内方向であった（段落【００４３）。」】
「扁平状軟磁性体（Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金）微粉末Ａ・・・６０重量部
平均粒径：φ２０μｍ×０．３μｍt
磁歪の大きさ：＋０．７２
焼鈍処理：なし
扁平状軟磁性体（Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金）微粉末Ｂ・・・３５重量部
平均粒径：φ２０μｍ×０．３μｍt
磁歪の大きさ：＋０．７２
焼鈍処理：６５０℃×２ｈｒ
ポリウレタン樹脂・・・８重量部
硬化剤（イソシアネート化合物）・・・２重量部
溶剤（シクロヘキサノンとトルエンの混合物）・・・４０重量部
以上の試料について，ＨddおよびＨdeを求めたところ，４以上であり，
又，試料をトロイダル形状に加工し，これに１ターンのコイルを巻回し，
コイルに高周波電流を流して，そのインピーダンスを測定して，透磁率を
求めた。透磁率は良好な高周波特性を示した（段落【００４４）。」】
ク発明の効果
「以上述べたように，本発明によれば，軟磁性体粉末と有機結合剤からな
る複合磁性体に於いて，軟磁性体粉末を形状磁気異方性のある扁平状とし，
複合磁性体の製造方法の際に，塗工時ないし乾燥前の段階で塗工方向に剪
断応力を加えることにより，あるいは，面内方向に磁界を印加することに
より，該複合磁性体を立方体と成した時の磁化困難軸方向の反磁界Ｈddと
磁化容易軸方向の反磁界Ｈdeとの比Ｈdd／Ｈdeが４以上となるようにする
ことによって，高周波透磁率特性に優れた複合磁性体を得ることができ
る（段落【００４５）。」】
「また，本発明によれば，軟磁性体粉末と有機結合剤からなる複合磁性体
に於いて，軟磁性体粉末を形状磁気異方性のある扁平状とし，複合磁性体
の製造方法の際に，ロール圧延法によりシート状に形成することによって，
該複合磁性体を立方体と成した時の磁化困難軸方向の反磁界Ｈddと磁化容
易軸方向の反磁界Ｈdeとの比Ｈdd／Ｈdeが４以上となるようにすることに
よって，高周波透磁率特性に優れた複合磁性体を得ることができる」。
（段落【００４６）】
「したがって，この複合磁性体を用いて，優れた電磁干渉抑制に有効な薄
厚の電磁干渉抑制体を得ることが出来る（段落【００４７）。」】
(2)上記(1)ア∼クの各記載によれば，本願明細書（甲２，５）には，電磁障
害対策として，不要輻射を抑制するために必要な電磁干渉抑制体に関し，そ
の磁気損失，すなわち虚数部透磁率μ”を大きくするために実部透磁率μ’
を大きくすることが必要であり，さらにそのために前記複合磁性体の反磁界
を小さくすることが必要であったこと，そして，複合磁性体の反磁界の大き
さは，前記扁平状軟磁性体粉末の反磁界係数Ｎdと，前記扁平状軟磁性体粉
末の前記複合磁性体中での配列のされ方，及び前記軟磁性体粉末の充填量等
により決定され，前記扁平状軟磁性体粉末を前記複合磁性体の面内方向に高
い配向度で配列させることにより減少することから，扁平状の形状を有する
軟磁性体粉末をいかに同じ方向に並べるか（配向度の改善）がμ”の大きさ
を改善し優れた磁気損失特性を有する複合磁性体を得るための課題であった
こと，かかる技術的課題を解決するため，前記反磁界の大きさを定量的に把
握できるパラメータとして，磁化困難軸方向の反磁界Ｈddと磁化容易軸方向
の反磁界Ｈdeとの比Ｈdd／Ｈdeを求めることによって，複合磁性体試料中の
磁性粉末の充填率や，粉末そのものの反磁界係数が変化した場合でも実効的
な反磁界の大きさが把握できるようにし，さらに，その比率を試料形状を立
方体としたときに４以上とすることで，優れた透磁率特性が得られることを
見出し，また，この比Ｈdd／Ｈdeの制御が，前記軟磁性体粉末と前記有機結
合剤を溶媒と共に混練し，塗工時ないし塗工後の乾燥前の段階で塗工方向に
剪断応力を加える，若しくは塗工時ないし塗工後の乾燥前の段階で塗工方向
に外部磁界を印加する，若しくはロール圧延するのいずれかの方法によって
作られた複合磁性体を材料とした上記電磁干渉抑制体の製造方法によって行
うことができることを見出したこと，が記載されていると認められる。
そうすると，本願明細書（甲２，５）における開示事項が，本願発明の実
施可能要件を満たすといえるためには，上記比Ｈdd／Ｈdeが４以上を呈する
優れた磁気損失特性を有する複合磁性体を得るための手段としての，各製造
方法において扁平状の形状を有する軟磁性体粉末をできる限り同じ方向に並
べるようにしてその配向度を改善するために設定する条件等についての技術
的事項が，本願明細書（甲２，５）において，当業者（その発明の属する技
術の分野における通常の知識を有する者）がその実施をすることができる程
度に明確かつ十分に記載されていることを要するというべきである。
(3)しかるに，本願明細書（甲２，５）における，本願発明の電磁干渉抑制
体の材料となる複合磁性体を作るための方法に関する記載について見ると，
以下のとおりである。
アまず，本願発明の複合磁性体が，粒子が扁平状で形状異方性を有する軟
磁性体粉末を有機結合剤中に分散したものである点に関して，本願明細書
（甲２，５）が実施可能要件を満たすかについて検討する。
前記(1)によれば，本願明細書（甲２，５）の発明の詳細な説明に，ボ
−ルミル等の粉砕手段により，粗原料（原料素材）である，センダストや
パーマロイ等の金属軟磁性材料を扁平化して，例えばポリウレタン樹脂の
ような有機結合剤により，混練・分散した磁性体混合物から複合磁性体を
得るようにするとの内容が記載されている。そして，軟磁性体粉末が，粒
子が扁平状で形状異方性を有するようにするため「粉砕，延伸・引裂加，
工等により扁平化し，その厚みを表皮深さと同等以下にすると共に，粉末
の反磁界係数Ｎdをほぼ１にするために扁平化された軟磁性体材料のアス
ペクト比を概ね１０以上とする必要がある（段落【００２０）ことか」】
ら，かかる軟磁性体粉末の厚みとアスペクト比を所望のものとするために，
「出発粗原料粉末の平均粒径を特定するのが最も簡便な手段の一つであ
る（段落【００２１）ところ「粉砕手段に制限はないが，本発明の効」】，
果に密接にかかわる延伸・引裂加工により生じる残留歪みの大きさを考慮
。」】），して加工手段及び加工条件を設定する必要がある（段落【００２１
「…軟磁性体としては，…正の原料磁性体を用いた場合には，延伸・引裂
加工により形状磁気異方性が生じると共に，残留歪みによる歪磁気異方性
（磁気弾性効果）が生じ，…（段落【００２２）と記載されている。」】
そうすると，本願発明を実施するためには，比Ｈdd／Ｈdeが４以上を呈
する優れた磁気損失特性を有する複合磁性体を得るため，出発粗原料粉末
の平均粒径の特定に加えて，本願発明の効果に密接にかかわる延伸・引裂
加工により生じる残留歪みの大きさを考慮し，同加工等により扁平化する
際の加工手段及び加工条件の設定が必要であることになるところ，この点
については，本願明細書（甲２，５）には「アトライタ及びピンミルを，
用い様々な条件下にて粉砕，延伸・引裂加工を行い」との記載（段落【０
０３３）が存するにすぎず，実施例にも「磁歪の大きさ」の記載が存す】
るにすぎないから，当業者がその実施をすることができる程度に明確かつ
十分に上記加工手段及び加工条件が記載されているものとは認められない。
イ次に，本願発明の複合磁性体において，それを立方体と成したときの比
Ｈdd／Ｈdeが４以上を呈する点に関して，本願明細書（甲２，５）が実施
可能要件を満たすかについて検討するに，比Ｈdd／Ｈdeが４以上を呈する
複合磁性体を得るため，本願明細書（甲２，５）に開示されている方法に
ついて見ると，以下のとおりである。
(ア)塗工時ないし塗工後の乾燥前の段階で塗工方向に剪断応力を加える
方法
①上記方法は，本願明細書（甲２，５）の段落【００１１，同【０】
０４５】に記載があり，具体的には「塗工時に磁性粉の大きさと同，
等レベルないしそれ以下のギャップを有するドクタブレード装置（ア
プレケータ）を用いるか，または乾燥の前に支持体を引っ張るなどし
て，剪断応力を加える（段落【００２８）との記載があることか。」】
ら，塗工方向に剪断応力を加えるため，ドクタブレード装置（アプレ
ケータ）を用いる方法と，乾燥の前に支持体を引っ張る方法が開示さ
れていると認められる。
②この点，ドクタブレード法自体は，当該技術分野では周知の技術で
あるとしても，本願発明のように比Ｈdd／Ｈdeが４以上を呈する優れ
た磁気損失特性を有する複合磁性体を得る目的で，扁平状の形状を有
する軟磁性体粉末をできる限り同じ方向に並べるようにしてその配向
度を改善するために設定する条件等として，ブレード移動速度と膜厚
が重要な事項であることは技術的に自明である。しかるに，本願明細
書（甲２，５）には「塗工時に磁性粉の大きさと同等レベルないし，
それ以下のギャップを有する」として，ギャップ長，すなわち膜厚に
ついてのある程度の示唆があるにすぎず，ブレードの移動速度につい
ての記載又は示唆は何ら認められない。また上記のような配向度改善
のためにブレードの移動速度や膜厚をいかに設定するかが自明の技術
事項であるともいえない。また同様に，支持体を引っ張ることについ
ても，剪断応力を加えることの方法であることは理解できても，それ
を奏するための構成や条件等についての記載や示唆がなく，自明の技
術事項でもない。
③本願明細書（甲２，５）の実施例の記載（前記(1)キ）を見ると，
［試料１］については「以下の配合からなる軟磁性体ペーストを調，
合し，これをドクターブレード法により支持体上に製膜し，塗工方向
に引っ張り力を与え剪断力を加えた。これに熱プレスを施して後，８
５℃にて２４時間キュアリングを行い試料１を得た」という記載が。
あり，塗工方向に剪断応力を加える方法として，ドクターブレード法
を用いること，及び，熱プレスを施すことを記載しているに止まる。
また［試料２］についても「以下の配合からなる軟磁性体ペース，，
トを調合し，これをドクターブレード法により支持体上に製膜した。
これに面内方向の磁場を印加した後に，８５℃にて２４時間キュアリ
ングを行い試料２を得た」という記載があり，ドクターブレード法。
を用いること，及び，外部磁界を印加することを記載しているに止ま
る。さらに［試料３］についても「以下の配合からなる軟磁性体，，
ペーストを調合し，これをドクターブレード法により支持体上に製膜
した。これに熱プレスを施した後に，８５℃にて２４時間キュアリン
グを行い試料３を得た」という記載があり，ドクターブレード法を。
用いること，及び，熱プレスを施すことを記載しているに止まる。
以上によれば，本願明細書（甲２，５）の実施例の記載を見ても，
上記②の説示は左右されるものではない。
(イ)塗工時ないし塗工後の乾燥前の段階で塗工（面内）方向に外部磁界
を印加する方法
本願明細書（甲２，５）の発明の詳細な説明には，その段落【００１
１，同【００２９】及び同【００４５】に，塗工時ないし塗工後の乾】
燥前の段階で塗工（面内）方向に外部磁界を印加するとの記載があり，
またその実施例の記載（前記(1)キ）を見ると［試料２］について，，
「ドクターブレード法により支持体上に製膜した」ものに対して「面内
方向に磁界を印加した」ことの記載がある。
しかし，塗工（面内）方向に外部磁界を印加するとしても，本願発明
のように比Ｈdd／Ｈdeが４以上を呈する優れた磁気損失特性を有する複
合磁性体を得る目的で，扁平状の形状を有する軟磁性体粉末をできる限
り同じ方向に並べるようにしてその配向度を改善するために設定する条
件等として，印加する磁界の大きさ，印加時間，印加する磁界の向き等
が重要な事項であることは技術的に自明である。しかるに「塗工（面，
内）方向」という文言のみから，当然に印加する磁界の向きという重要
な事項が明らかになっているということはできず，その他，本願明細書
（甲２，５）には，実施例の記載も含めて，上記の各事項についての記
載や示唆がなく自明の技術事項ともいえないから，当業者が実施し得る
程度に明確かつ十分に記載されているものとは認められない。
(ウ)混練物をロール圧延する方法
本願明細書（甲２，５）の発明の詳細な説明には，段落【００１３】
に混練物をロール圧延することの記載があり，段落【００３０，同】
【００４６】には，混練・分散された磁性体を直接ロール圧延によって，
シート状に形成することが記載され，また，本願明細書（甲２，５）の
実施例の記載（前記(1)キ）によれば［試料４］について「ミキシン，，
グロールを用いてロール圧延により，シート状に形成し」たとの記載が
ある。
しかし，ロール圧延自体は，当該技術分野では周知の技術であるとし
ても，本願発明のように比Ｈdd／Ｈdeが４以上を呈する優れた磁気損失
特性を有する複合磁性体を得る目的で，扁平状の形状を有する軟磁性体
粉末をできる限り同じ方向に並べるようにしてその配向度を改善するた
めに設定する条件等として，ロール圧延によって得る膜厚，そのための
ロールの移動速度等が重要な事項であることは技術的に自明である。し
かるに，本願明細書（甲２，５）には，実施例の記載も含めて，これら
についての記載や示唆がなく自明の技術事項ともいえないから，当業者
が実施し得る程度に明確かつ十分に記載されているものとは認められな
い。
ウ以上によれば，本願発明（請求項１）の電磁干渉抑制体については，そ
の材料としての，比Ｈdd／Ｈdeが４以上を呈する優れた磁気損失特性を有
する複合磁性体を得る目的のために，扁平状の形状を有する軟磁性体粉末
をできる限り同じ方向に並べるようにしてその配向度を改善するために設
定する条件等として，出発粗原料粉末を粉砕，延伸，引裂加工等により扁
平化する際の加工手段及び加工条件を具体的にどのように設定するか，ま
た，具体的にどのような条件で剪断応力を加えたり，外部磁界を印加した
り，ロール圧延をするのか，について，本願明細書（甲２，５）には，当
業者がその実施をすることができる程度に明確かつ十分に記載されていな
いというべきである。
３取消事由に対する判断
(1)取消事由１（実施可能要件の判断の誤り１）について
ア原告は，本願発明に係る電磁干渉抑制体は，軟磁性体粉末と有機結合剤
を含む複合磁性体のうち，特定の特性，即ち，反磁界ＨddとＨdeの比Ｈdd
／Ｈdeが４以上の複合磁性体を選別することによって得られるのであり，
本願発明の趣旨は，製造条件によって特定された電磁干渉抑制体を得るこ
とにあるのではなく，製造された複合磁性体のうち，特定の特性を備えた
複合磁性体を選別することによって本願発明でいう電磁干渉抑制体を得る
ことにあるのであって，製造条件によって特定された複合磁性体ではない，
したがって，本願発明に係る電磁干渉抑制体の製造方法としては，本願発
明の電磁干渉抑制体に対する示唆及びその特性に対する目標値を与えれば，
周知技術を使用している限り当業者が容易にかつ任意に実現でき，本願明
細書（甲２，５）の実施例に記載された製造条件とそこから一義的に定ま
る条件に，当業者の技術常識を加味すれば，本願発明に係る電磁干渉抑制
体を容易に得ることができるし，甲７の２（矢野宏「品質工学計算法入
門」財団法人日本規格協会・２００２年４月３０日第７刷発行，甲８）
（田口玄一・横山巽子「経営工学シリーズ１８実験計画法」財団法人日
本規格協会・１９７９年１０月２５日初版第１刷発行）等における直交表
を用いれば，各製造条件での製造及び確認作業は，当業者に過度の試行錯
誤を強いるものでないことは明らかであると主張する。
イしかし，本願発明の特許請求の範囲は，前記第３,１,(1)のとおりであ
り，本願発明は，所定の条件下で測定した比Ｈdd／Ｈdeが４以上を呈する
という特性を有する複合磁性体を材料とする電磁干渉抑制体及びその製造
方法の発明であると認められる。そうすると，本願発明（請求項１）にお
いて，所定の条件下で測定した比Ｈdd／Ｈdeが４以上を呈するという複合
磁性体の特性は，あくまでその磁気損失特性が優れていることの数値的指
標として，複合磁性体を特定する意味を有しているものであって，かかる
特性自体が開示されたからと言って，同複合磁性体の製造方法が開示され
たことにはならない。そして，物の発明については，どのように作るかに
ついて具体的な記載がなくても明細書の記載や技術常識に基づき当業者が
その物を製造できる場合を除き，製造方法を具体的に記載しなければなら
ないというべきであり，本願発明（請求項１）も物の発明であるから，製
造条件によって特定された複合磁性体を内容としていないとしても，本願
明細書（甲２，５）の実施可能要件を満たすため，上記のような意味で，
製造方法の具体的な記載が必要であることを左右することはできない。さ
らに，原告が，本願明細書（甲２，５）の実施例に記載された製造条件と
そこから一義的に定まる条件に当業者の技術常識を加味すれば決定できる
旨主張する条件は，前記２(3)ア，イ(ア)∼(ウ)，ウで説示したとおり，
本願発明（請求項１）の電磁干渉抑制体の材料としての，比Ｈdd／Ｈdeが
４以上を呈する優れた磁気損失特性を有する複合磁性体を得る目的のため
に，扁平状の形状を有する軟磁性体粉末をできる限り同じ方向に並べるよ
うにしてその配向度を改善するために設定する条件として開示すべき重要
な事項であると認められる。そして，これらが，本願明細書（甲２，５）
の実施例に記載された製造条件とそこから一義的に定まる条件に当業者の
技術常識を加味すれば容易に決定される事項とみることができる具体的な
根拠もないから，原告が主張するように，本願発明の電磁干渉抑制体に対
する示唆及びその特性に対する目標値を与えれば周知技術を使用している
限り当業者が容易にかつ任意に実現できるということはできない。
ウさらに原告は，上記甲７，甲８等における直交表を用いれば，各製造条
件での製造及び確認作業は，当業者に過度の試行錯誤を強いるものでない
ことは明らかであると主張するが，このような一般的な品質工学，経営工
学の文献に記載された統計学的な手法について言及したとしても，前記２
(3)ア，イ(ア)∼(ウ)，ウで説示したとおり，本願発明において，高周波
透磁率特性，電磁干渉抑制に優れるという効果を有する複合磁性体を製造
するという目的のために，出発粗原料粉末を粉砕，延伸，引裂加工等によ
り扁平化する際の加工手段及び加工条件を具体的にどのように設定するか，
また，比Ｈdd／Ｈdeを４以上とするために，具体的にどのような条件で剪
断応力を加えたり，外部磁界を印加したり，ロール圧延をするのか，につ
いて，なお当業者がその実施をすることができる程度に明確かつ十分に記
載されているといえないことに変わりはない。
以上によれば，原告の上記主張は採用することができない。
エしたがって，取消事由１の主張は，理由がない。
(2)取消事由２（実施可能要件の判断の誤り２）について
ア原告は，本願発明が，製造条件によって一義的に特定された「電磁干渉
抑制体」を趣旨とするものではなく，当業者の技術常識である一般的な製
造方法における製造条件を特定することを必須の要件としないことは明ら
かであるにもかかわらず，発明の詳細な説明には製造条件に関する記載が
ないとして実施可能要件の不備で拒絶した審決は，本願発明の趣旨を誤解
したものである，本願発明は，電磁干渉抑制体として使用される複合磁性
体の評価基準を与えることを企図したもので，請求項１で「該複合磁性体
を立方体と成したときの磁化困難軸方向の反磁界Ｈddと磁化容易軸方向の
反磁界Ｈdeとの比Ｈdd／Ｈdeを測定したときに」と記載するように，比Ｈ
dd／Ｈdeを測定した結果，その値が４以上の複合磁性体を選別して電磁干
渉抑制体とすることを趣旨とし，特定の製造条件によって得られた複合磁
性体を電磁干渉抑制体とするものではない，更に，請求項２は「剪断応，
力を加える」こと「外部磁界を印加する」こと，或いは「ロール圧延，，
する」ことによって，比Ｈdd／Ｈdeを４以上にできることを明記して，４
以上の比Ｈdd／Ｈdeを有する電磁干渉抑制体は，一般的な製造方法を用い
ても実現できることを例示的に開示している，と主張する。
，イしかし，前記(1)イに説示したとおり，本願発明（請求項１）において
比Ｈdd／Ｈdeが４以上を呈するという複合磁性体の特性は，あくまでその
磁気損失特性が優れていることの数値的指標として，複合磁性体を特定す
る意味を有しているものであって，かかる特性自体が開示されたからとい
って，同複合磁性体の製造方法が開示されたことにはならないし，また，
物の発明については，どのように作るかについて具体的な記載がなくても
明細書の記載や技術常識に基づき当業者がその物を製造できる場合を除き，
製造方法を具体的に記載しなければならないというべきことは，物の発明
である本願発明にも当てはまるというべきである。また，本願発明の要旨
は，前記２(2)に記載したとおりであるから，同２(2)に説示したとおり，
本願明細書（甲２，５）における開示事項が，本願発明の実施可能要件を
満たすといえるためには，上記比Ｈdd／Ｈdeが４以上を呈する優れた磁気
損失特性を有する複合磁性体を得るための手段としての，各製造方法にお
いて扁平状の形状を有する軟磁性体粉末をできる限り同じ方向に並べるよ
うにしてその配向度を改善するために設定する条件等についての技術的事
項が，本願明細書（甲２，５）において，当業者がその実施をすることが
できる程度に明確かつ十分に記載されていることを要するというべきであ
るところ，前記２(3)ア，イ(ア)∼(ウ)，ウで説示したとおり，本願明細
書（甲２，５）はかかる記載要件を満たしていないものである。
ウ以上によれば，取消事由２の主張は理由がない。
(3)取消事由３（本願明細書の試料１∼４の記載の評価の誤り）について
ア原告は，試料１に関する開示条件としては，本願明細書（甲２，５）の
段落【００３８】において，扁平状軟磁性体粉末の組成，平均粒径，及び
形状，有機結合剤，硬化剤，溶剤，及び，これらを配合して得た軟磁性体
ペーストを開示し，また段落【００３６】では，ドクターブレード法を用
いることを開示している，そして，軟磁性体ペーストの材料と配合が定ま
ると，軟磁性体ペーストの粘度が一義的に定まり，ドクターブレード法に
より製膜することが開示されていることから，ドクターブレード装置を用
いることも一義的に定まり，さらに軟磁性体ペーストの粘度との関係から
使用に適したドクターブレード装置も決定されることから，軟磁性体ペー
ストの粘度とドクターブレード装置を用いることがここでいう一義的に定
まる条件である，また，試料１においては，ドクターブレード装置が定ま
ると，ドクターブレード装置で製膜できる膜厚，ブレードの移動速度も定
まり，剪断力が当業者の技術常識に基づいて調整される条件である，と主
張する。
しかし，前記２(3)ア，イ(ア)に説示したとおり，延伸・引裂加工によ
り扁平化する際の加工手段及び加工条件の設定，ドクターブレード装置で
製膜できる膜厚，ブレードの移動速度や剪断力が，当業者の技術常識に基
づいて調整されることの具体的根拠はなく，本願明細書（甲２，５）の発
明の詳細な説明の記載が，当業者がその実施をすることができる程度に明
確かつ十分とはいえないことに変わりはないから，原告の上記主張は失当
である。
イ原告は，試料２に関する開示条件としては，本願明細書（甲２，５）の
段落【００４０】において，扁平状軟磁性体粉末の組成，平均粒径，及び
形状，有機結合剤，硬化剤，溶剤，及び，これらを配合して得た軟磁性体
ペーストを開示し，また段落【００３８】では，この軟磁性体ペーストを
ドクターブレード法によって製膜し，かつ，面内方向に磁場を印加するこ
とを開示している，そして，軟磁性体ペーストの材料と配合によって粘度
が一義的に定まり，かつ，ドクターブレード法により製膜することの開示
により，ドクターブレード装置を用いることも一義的に定まり，さらに，
面内方向に磁場を印加するとの開示により，磁場印加装置を用いること及
びその配置が一義的に定まる，このように，軟磁性体ペーストの粘度，ド
クターブレード装置及び磁場印加装置を用いることがここでいう一義的に
定まる条件である，また，ドクターブレード装置が定まると，製膜できる
膜厚，ブレードの移動速度も定まり，磁場印加装置を用いることが決定し
ているから，印加される磁場の強度が当業者の常識に基づいて調整される
条件である，と主張する。
しかし，前記２(3)ア，イ(ア)，(イ)に説示したとおり，延伸・引裂加
工により扁平化する際の加工手段及び加工条件の設定，ドクターブレード
装置で製膜できる膜厚，ブレードの移動速度，印加される磁場の強度等が，
当業者の技術常識に基づいて調整されることの具体的根拠はなく，本願明
細書（甲２，５）の発明の詳細な説明の記載が，当業者がその実施をする
ことができる程度に明確かつ十分とはいえないことに変わりはないから，
原告の上記主張は失当である。
ウ原告は，試料３に関する開示条件としては，本願明細書（甲２，５）の
段落【００４２】において，扁平状軟磁性体粉末の組成，平均粒径，及び
形状，有機結合剤，硬化剤，溶剤，及び，これらを配合して得た軟磁性体
ペーストを開示し，また段落【００４０】では，この軟磁性体ペーストを
ドクターブレード法によって製膜し，且つ，熱プレスを施した後，８５℃
にて２４時間キュアリングすることを開示している，そして，試料１及び
２と同様に，軟磁性体ペーストの粘度とドクターブレード装置を用いるこ
とが特定でき，さらに，熱プレスを施したとの開示から熱プレス装置を用
いることも一義的に定まるから，これらが開示された条件から一義的に定
まる条件である，また，ドクターブレード装置が定まると，製膜できる膜
厚，ブレードの移動速度も定まり，熱プレス装置を用いることも決定して
おり，用いられる有機結合剤は開示されているから，熱プレスの条件が当
業者の技術常識に基づいて調整される条件である，と主張する。
しかし，前記２(3)ア，イ(ア)に説示したとおり，延伸・引裂加工によ
り扁平化する際の加工手段及び加工条件の設定，ドクターブレード装置で
製膜できる膜厚，ブレードの移動速度が，当業者の技術常識に基づいて調
整されることの具体的根拠はなく，本願明細書（甲２，５）の発明の詳細
な説明の記載が，当業者がその実施をすることができる程度に明確かつ十
分とはいえないことに変わりはない。さらに，熱プレスを用いる方法につ
いても，本願明細書（甲２，５）の発明の詳細な説明には，その実施例の
記載（前記(1)キ）中［試料３］について「…これに熱プレスを施し，，
…」との記載があるにすぎず，本願発明のように比Ｈdd／Ｈdeが４以上を
呈する優れた磁気損失特性を有する複合磁性体を得る目的で，扁平状の形
状を有する軟磁性体粉末をできる限り同じ方向に並べるようにしてその配
向度を改善するために設定する条件等として，どのような製造条件を設定
するのかについての記載や示唆はなく自明の技術事項ともいえないから，
当業者が実施し得る程度に明確かつ十分に記載されているものとは認めら
れない。
以上によれば，原告の上記主張は採用することができない。
エ原告は，試料４に関する開示条件としては，本件明細書（甲２，５）の
段落【００４４】において，２種類の扁平状軟磁性体粉末の組成，平均粒
径，及び形状，有機結合剤，硬化剤，溶剤を開示すると共にこれらの配合
を開示している，また段落【００４２】では，ミキシングロールを用いて，
ロール圧延によりシート状の試料を得たことを開示している，そして，開
示された軟磁性体ペーストの配合によって粘度が一義的に定まり，かつ，
ミキシングロールを用いてとの開示により，ミキシングロール圧延装置を
用いることが特定できることから，軟磁性体ペーストの粘度とミキシング
ロール圧延装置を用いることが開示された条件から一義的に定まる条件で
あり，ロール圧延の条件が当業者の技術常識に基づいて調整される条件で
ある，と主張する。
しかし，前記２(3)ア，イ(ウ)に説示したとおり，延伸・引裂加工によ
り扁平化する際の加工手段及び加工条件の設定，ロール圧延の条件が，当
業者の技術常識に基づいて調整されることの具体的根拠はなく，本願明細
書（甲２，５）の発明の詳細な説明の記載が，当業者がその実施をするこ
とができる程度に明確かつ十分とはいえないことに変わりはないから，原
告の上記主張は失当である。
オ以上によれば，取消事由３の主張は理由がない。
(4)取消事由４（平成１８年６月１６日付け原告意見書〔甲４〕記載の主張
に対する判断の誤り）について
取消事由４の主張は，本願発明の要旨認定の誤り等をいうものであるから，
上記２(2)，３(1)，(2)の説示に照らし，理由がない。
４結語
以上のとおり，原告主張の取消事由はいずれも理由がない。
よって，原告の請求を棄却することとして，主文のとおり判決する。
知的財産高等裁判所第２部
裁判長裁判官中野哲弘
裁判官今井弘晃
裁判官田中孝一

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