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平成１３年（行ケ）第１３１号　審決取消請求事件（平成１３年８月２９日口頭弁
論終結）
　　　　　　　　　　判　　　　　　　　　　決
　　　　　　　原　　　　　　告　　　Ａ
　　　　　　　訴訟代理人弁護士　　　上　谷　　　清
　　　　　　　同　　　　　　　　　　宇　井　正　一
　　　　　　　同　　　　　　　　　　笹　本　　　摂
　　　　　　　同　　　　弁理士　　　青　木　　　篤
　　　　　　　同　　　　　　　　　　勝　部　哲　雄
　　　　　　　同　　　　　　　　　　田　島　　　壽
　　　　　　　同　　　　　　　　　　菊　池　桂　子
　　　　　　　被　　　　　　告　　　月島機械株式会社
　　　　　　　訴訟代理人弁護士　　　牧　野　利　秋
　　　　　　　同　　　　　　　　　　鈴　木　　　修
　　　　　　　同　　　　　　　　　　伊　藤　玲　子
　　　　　　　同　　　　弁理士　　　柳　生　征　男
　　　　　　　　　　主　　　　　　　　　　文
　　　　　　原告の請求を棄却する。
　　　　　　訴訟費用は原告の負担とする。
　　　　　　　　　　事実及び理由
第１　当事者の求めた裁判
　１　原告
　　　特許庁が平成１１年審判第３０６５９号事件について平成１３年２月５日に
した審決を取り消す。
　　　訴訟費用は被告の負担とする。
　２　被告
　　　主文と同旨
第２　当事者間に争いのない事実
　１　特許庁における手続の経緯
　　　被告は、「ＴＳＫ」の欧文字を書してなり、設定登録時における指定商品を
平成３年政令第２９９号による改正前の商標法施行令別表による第９類「産業機械
（但し、金属加工機械器具、土木機械器具および荷役機械器具を除く）動力機械器
具、風水力機械器具、事務用機械器具、その他の機械器具で他の類に属しないも
の、機械要素（但し動力伝導装置、管継ぎ手、パッキングおよびガスケットを除
く）」とする登録第１７５００４７号商標（昭和５４年２月１６日登録出願、昭和
６０年２月２７日設定登録、平成７年１月３０日存続期間の更新登録、以下「本件
商標」という。）の商標権者である。なお、上記指定商品中「学校給食用配膳台、
ざる置き台、その他の業務用調理機械器具及びその類似品」については平成８年審
判第１３８１３号事件の審決の確定（平成９年４月２５日）により、同「発光式又
は機械式の道路標識及びこれに類似する商品並びに自動販売機及びこれに類似する
商品」については平成１１年審判第３０４７２号事件の審決の確定（平成１２年１
月１４日）により、それぞれ登録が取り消された。
　　　原告は、平成１１年６月１日、被告を被請求人として、本件商標の指定商品
中「半導体製造装置及びこれに類似する商品、石材加工機械器具及びこれに類似す
る商品、ガラス器製造機械及びこれに類似する商品」に係る登録につき不使用によ
る取消しの審判を請求した（以下「本件審判請求」という。）。なお、本件審判請
求の予告登録は、平成１２年５月３１日にされた請求の趣旨の記載の指定商品を誤
った登録を経て、同年８月２日に錯誤を原因として上記のとおり職権更正されたも
のである。
　　　特許庁は、本件審判請求を平成１１年審判第３０６５９号事件として審理し
た上、平成１３年２月５日に「本件審判の請求は、成り立たない。」との審決を
し、その謄本は同年３月３日原告に送達された。
　２　審決の理由
　　　審決は、別添審決謄本写し記載のとおり、本件商標は、被請求人（被告）に
より、本件審判請求の登録前３年以内に日本国内において同請求に係る指定商品で
ある「半導体製造装置」あるいはこれに類似する商品及び「石材加工機械器具」に
ついて使用されていたから、本件審判請求に係る指定商品について、商標法５０条
の規定により登録を取り消すことはできないとした。
第３　原告主張の審決取消事由
　　審決は、本件審判請求に係る指定商品である「半導体製造装置及びこれに類
似する商品」及び「石材加工機械器具及びこれに類似する商品」について本件商標
が使用されたとの誤った認定判断をした（取消事由１、２）ものであるから、違法
として取り消されるべきである。
　１　取消事由１（「半導体製造装置及びこれに類似する商品」について本件商標
の使用を認めた誤り）
　(1)「高純度薬液自動充填装置」について
　　　ア　審決は、「高純度薬液自動充填装置」の商品カタログ（審判乙第３号
証、本訴甲第４号証の３）に示されている商品（以下「本件高純度薬液自動充填装
置」という。）は、「半導体製造装置」の下位概念である「半導体製造用関連装
置」中の「薬液用装置」の範疇に属する商品あるいはこれに類似する商品であると
判断する（審決謄本４頁２５行目～５頁２３行目）が、誤りである。
　　　イ　商標の指定商品としての「半導体製造装置」とは、専ら半導体製造に用
いられる装置であり、「半導体製造用関連装置」とは、半導体製造工程に直接供さ
れる装置と解すべきである。
　　　　　ところが、同カタログの「本システムは、当社の薬液ハンドリング技術
及びノウハウをもとに、高純度薬品の取扱いで必要とされる品質要求を、充分に満
足した画期的なボトリングシステムです。」との記載にあるように、本件高純度薬
液自動充填装置は、瓶に薬液を詰める装置にすぎない。すなわち、本件高純度薬液
自動充填装置は、薬液製造業者が、瓶を洗浄及び乾燥させ、薬液を充填し、蓋をし
てラベリングをして出荷するという薬液の出荷工程において、薬液を瓶に充填する
ための装置であるから、半導体製造メーカーにおいて行われる半導体製造工程で用
いられるものではなく、半導体の洗浄液を製造する化学薬品メーカー等において用
いられ、瓶に詰められた洗浄液が半導体メーカーに販売されるものと考えられるの
であって、半導体製造工程に直接供される装置ではない。しかも、当該薬液自体、
半導体製造工程において半導体ウェーハ等を洗浄する薬液に限られていないのであ
るから、本件高純度薬液自動充填装置が専ら半導体製造に用いられる装置であると
いうこともできない。
　　　　　そうすると、本件高純度薬液自動充填装置は、むしろ「包装用機械器
具」に該当するものであって、「半導体製造装置」ないし「半導体製造用関連装
置」に当たるとはいえない。なお、日本標準商品分類（甲第５号証）においても、
「びん詰め機械」は「包装機械及び荷造り機械」に属するものとされ、「半導体製
造装置」に属するものとはされていない。
　　　ウ　また、本件審判請求に係る指定商品は「半導体製造装置に類似する商
品」を含むところ、「包装用機械器具」に属する本件高純度薬液自動充填装置と、
「半導体製造装置」とは、商品の機能、用途、使用分野等において著しく異なって
おり類似する商品ということはできない。とりわけ半導体製造装置の市場は、特殊
な専門業者であるその関連企業同士の取引として包装用機械器具とは全く別個の著
しく特化した市場を形成しており、その需要者も専門家である企業であって、商品
の出所を誤認することはあり得ない。なお、特許庁の「類似商品・役務審査基準」
においても、「包装用機械器具」と「半導体製造装置」とは非類似の商品とされて
いる。
　　　エ　被告は、本件高純度薬液自動充填装置の広告が業界誌「電子材料」に掲
載されたこと、同装置は「半導体製造装置・材料の国際エキシビジョン」に出品展
示されたことを主張するが、そのような雑誌広告やエキシビジョンにおいて半導体
製造装置以外の商品が掲載ないし出品展示されることは十分あり得ることであっ
て、本件高純度薬液自動充填装置が半導体装置に該当することを何ら立証すること
にはならない。
　　　　　しかも、上記エキシビジョンは平成１１年１２月１日～３日に開催され
たものであるから、同エキシビジョンでの出品展示に係る本件商標の使用は、商標
法５０条２項に定める「審判の請求の登録前３年以内」の使用を示すものとはいえ
ない。すなわち、本件審判請求は平成１１年６月１日にされ、その請求書副本の被
告への送達は同年７月２６日に行われているところ、特許庁は予告登録を失念し、
平成１２年５月３１日に至って初めてその登録をしたものであるから、本件におい
て、上記「３年以内」の期間の基準日は、被告が本件審判請求を了知した平成１１
年７月２６日であると解すべきであり、上記エキシビジョンの開催が上記期間外で
あることは明らかである。
　　　　　また、被告は、本件高純度薬液自動充填装置を大手半導体メーカーの信
越化学工業株式会社に納入した旨主張するが、同社は大手化学メーカーであって、
「半導体メーカー」ではない。
　(2)「プラズマ成膜装置」及び「マルチスパッタ装置」について
　　　ア　被告は、本件商標の「プラズマ成膜装置」及び「マルチスパッタ装置」
についての使用を「半導体製造装置」についての使用であると主張するが、この点
は、審決において何ら判断が示されていないから、本訴において判断を求めること
は許されないというべきであるし、この点をおくとしても、以下のとおり、「プラ
ズマ成膜装置」及び「マルチスパッタ装置」に関して、「半導体製造装置」につい
ての本件商標の使用があったとはいえない。
　　　イ　被告の主張に係る「プラズマ成膜装置」は、小規模な実験用装置にすぎ
ず、実際上も大学や企業の研究機関を取引の相手方とするものであるから、製造業
者による大量かつ長期の使用を予定する「半導体製造装置」ではない。そもそもプ
ラズマ成膜装置は、レンズのコーティング、歯科医療その他の様々な用途に使用さ
れる多目的な装置であるところ、被告の主張に係る「プラズマ成膜装置」も、半導
体製造のみに特化しない多目的な商品であって、これを半導体製造装置であるとい
うことはできない。
　　　　　さらに、被告が上記「プラズマ成膜装置」について本件商標が使用され
たことを立証するために提出した甲第４号証の１３～１６の受取証明書は、証拠価
値が乏しく使用の事実の立証もないというべきである。
　　　ウ　被告の主張に係る「マルチスパッタ装置」は、研究開発段階の試作品に
すぎず、商標法上の商品とはいえない。すなわち、同装置は、新エネルギー・産業
技術総合開発機構から補助を受け、平成１０年度速効型提案公募事業採択プロジェ
クトの一環として、被告と東北大学大学院Ｂ研究室との共同研究に基づいて開発さ
れたものであるが、現実に半導体製造業者に販売された形跡はなく、研究報告書概
要（甲第１４号証）等に照らしても、いまだ生産装置としては未完成の研究開発段
階のものであることが明らかである。
　　　　　なお、被告は、その販売の事実を立証するため、被告が「マルチスパッ
タ装置」を東北大学に納入したことを紹介する平成１２年４月１９日付け業界紙の
記事（甲第４号証の１９）を提出するが、これが商標法５０条２項に定める「審判
の請求の登録前３年以内」の使用の事実を示す証拠といえないことは、前記(1)エで
述べたところと同様である。
　２　取消事由２（「石材加工機械器具及びこれに類似する商品」について本件商
標の使用を認めた誤り）
　(1)　審決は、「Ｅｃｏ－Ｃｈａｒｔ」の商品カタログ（審判乙第８号証・本訴
甲第４号証の８）には、「廃棄物を結晶化石材に加工する装置」を含むものであ
り、これは「石材加工機械器具」に該当する旨判断する（審決謄本５頁２５行目～
６頁２６行目）が、誤りである。
　(2)　まず、上記商品カタログは、「Ｅｃｏ－Ｃｈａｒｔ」の商標が使用された
外装壁タイルの商品カタログであって、その製造工程で「廃棄物を結晶化石材に加
工する装置」が用いられることは記載されているものの、当該装置自体が販売の対
象物であることを読み取ることはできない。この点は、平成１１年５月１１日付け
「化学工業日報新聞」の記事及び同月１９日付け「環境新聞」の記事についても同
様である。そうすると、「廃棄物を結晶化石材に加工する装置」は、対価をもって
他人に販売される物品である商標法上の「商品」には当たらないというべきであ
る。
　　　　また、審決は、「廃棄物を結晶化石材に加工する装置」が、５社の共同開
発に係る「Ｅｃｏ－Ｃｈａｒｔ」なる外装壁タイルの製造工程を構成する機械類の
いずれを指すものか特定しておらず、この点においても違法というべきである。
　(3)　次に、審決が、「廃棄物を結晶化石材に加工する装置」を「石材加工機械
器具」に該当するとした判断も誤りである。すなわち、商標の指定商品としての
「加工機械器具」には「製造装置」は含まないと解すべきであり、このことは、例
えば、製鉄用の「工業用炉」と「金属加工機械器具」、原料プラスチック製造用の
「化学機械器具」と「プラスチック加工機械器具」とがそれぞれ商標法施行規則別
表において別の商品に区分されていることからも明らかである。そして、上記「Ｅ
ｃｏ－Ｃｈａｒｔ」の商品カタログによれば、「廃棄物を結晶化石材に加工する装
置」は、原材料である廃棄物の焼却灰や下水汚泥を溶解し、結晶化装置によって原
材料とは全く別の結晶化石材という製品を製造するものであるから、「結晶化石材
製造装置」と解すべきものであって、「石材加工機械器具」ではない。
第４　被告の反論
　　　審決の認定判断は正当であり、原告主張の取消事由は理由がない。
　１　取消事由１（「半導体製造装置及びこれに類似する商品」について本件商標
の使用を認めた誤り）について
　(1)「高純度薬液自動充填装置」について
　　　　高純度薬液は半導体製造に不可欠であり、半導体製造の要となるシリコン
ウェーハにＩＣ回路を作り込む工程であるリソグラフィ工程や各工程間で必ず必要
となるウェーハ洗浄工程において、高純度薬液は決定的な役割を果たしている。そ
して、本件高純度薬液自動充填装置は、上記リソグラフィ工程に用いられるフォト
レジスト液、現像液、カラーレジスト液や、洗浄工程に用いられるイソプロビルア
ルコール液、アンモニア水溶液、過酸化水素水等、半導体製造工程に使用される高
純度薬液に特化した自動充填装置である。このことは、本件高純度薬液自動充填装
置の商品カタログ（甲第４号証の３）に、ＩＣ回路が焼き込まれた半導体ウェーハ
のイメージ映像が用いられているほか、「ＥＬ薬品（注、エレクトロニクス薬品）
をはじめ、高純度薬品を高いクリーン度に保持したままで充填する」と記載されて
いることからも明らかである。それゆえ、被告は、平成９年４月１日～平成１０年
３月３１日事業年度の有価証券報告書（乙第２号証）に「液体原料関連では、半導
体業界をはじめとするクリーン環境下での計量・充填・洗浄装置等の開発を進めて
いる」と報告しており、また、半導体業界専門誌「電子材料」に本件高純度薬液自
動充填装置の広告を掲載したり（甲第４号証の４、５）、平成１１年１２月１日～
３日に開催された「半導体製造装置・材料の国際エキシビジョン」（甲第４号証の
１８）にこれを出品展示するなどしたところである。さらに、被告は、平成９年７
月２８日、本件高純度薬液自動充填装置を大手半導体メーカーである信越化学工業
株式会社に販売納入した（乙第１０、第１１号証）。
　　　　なお、商標法５０条２項に規定する「審判の請求の登録前３年以内」の基
準日は、本件審判請求の当初の予告登録日である平成１２年５月３１日であるか
ら、上記エキシビジョンでの出品展示に係る本件商標の使用も上記期間内の使用に
当たるというべきである。
　　　　次に、指定商品の類似性は、商品自体の取引上の誤認混同のおそれがある
かどうかによって判断すべきものではなく、それらの商品が通常同一営業主により
製造又は販売されている等の事情により、それらの商品に同一又は類似の商標を使
用するときは同一営業主の製造又は販売に係る商品と誤認されるおそれがあるかど
うかによって判断すべところ（最高裁昭和３６年６月２７日第三小法廷判決・民集
１５巻６号１７３０頁）、本件商標は被告の商号の主要部である「月島機械」のロ
ーマ字表記「TsukiSimaKikai」の頭文字からなる「ＴＳＫ」とのハウスマーク商
標であって、被告は、この商標を本件高純度薬液自動充填装置に使用し、半導体業
界誌等に継続して広告を掲載するなどしているのであるから、第三者が同一又は類
似の商標を半導体製造装置に使用した場合に、その出所について誤認混同を生ずる
おそれがあるといわざるを得ない。
　　　　したがって、本件高純度薬液自動充填装置が「半導体製造装置及びこれに
類似する商品」に該当することは明らかである。
　(2)「プラズマ成膜装置」及び「マルチスパッタ装置」について
　　　　被告は、本件審判請求の予告登録日である平成１２年５月３１日前３年以
内に、本件商標を「半導体製造装置」である「プラズマ成膜装置」及び「マルチス
パッタ装置」について使用した。このことは、被告から「プラズマ成膜装置」のカ
タログを受領した旨を証明する東北大学大学院工学研究科教授ほかの証明書（甲第
４号証の１３～１６）、被告が「マルチスパッタ装置」を東北大学に納入したこと
を紹介する平成１２年４月１９日付け業界紙「Business＆Technology」の記事（同
号証の１９）等によって証明されるものである。
２　取消事由２（「石材加工機械器具及びこれに類似する商品」について本件商
標の使用を認めた誤り）について
　(1)　原告は、「Ｅｃｏ－Ｃｈａｒｔ」の商品カタログ（甲第４号証の８）から
は、「廃棄物を結晶化石材に加工する装置」が販売の対象物であることを読み取る
ことはできない旨主張するが、同カタログには、タイルの製造工程における「廃棄
物を結晶化石材に加工する装置」を含む各種機械が詳しく図式で示されており、被
告としては、同装置を商品として製造販売することを前提としていたものである。
現に、被告は、公的事業団や地方公共団体からの受注を受け、「Ｅｃｏ－Ｃｈａｒ
ｔ」加工装置用の溶融炉を納入した実績がある。
　(2)　次に、原告は、商標の指定商品としての「加工機械器具」には「製造装
置」は含まないとして、「廃棄物を結晶化石材に加工する装置」を「石材加工機械
器具」に該当するとした審決の判断が誤りである旨主張する。しかし、「製造」と
「加工」にニュアンスの相違はあるとしても、商標法上の商品区分も含めて厳密に
区別して使用されているわけではなく、例えば、商標法施行規則別表第７類中「食
料加工用又は飲料加工用の機械器具」の下位概念に「アイスクリーム製造機、チー
ズ製造機、バター製造機」等が記載されている。そうすると、「加工」が「製造」
を含む広い概念ということもできるのであって、「石材加工機械器具」は「石材製
造機械器具」を含むとした審決の判断に誤りはない。
第５　当裁判所の判断
　１　取消事由１（「半導体製造装置及びこれに類似する商品」について本件商標
の使用を認めた誤り）について
　(1)　証拠（甲第４号証の３、５、６、８、１３～１６、１８、２０、乙第７号
証の１、２）並びに弁論の全趣旨によれば、平成１１年６月１日株式会社工業調査
会発行の雑誌「電子材料」に掲載されている本件高純度薬液自動充填装置の広告に
は被告の商号と並んで「ＴＳＫ」との本件商標が付されていること、同年１２月１
日～３日に幕張メッセにおいて開催された「セミコン・ジャパン９９」（半導体製
造装置・材料の国際エキシビジョン）の被告のブースには被告の商号と並んで本件
商標が大きく表示されるとともに同装置が出品展示されていること、本件商標の構
成は、被告の商号の主要部である「月島機械」のローマ字表記「TsukiSima
Kikai」の頭文字からなるものであって、その商標権者である被告がこれを被告の商
号と併記する形でその製造販売に係る各種の商品について使用しており、被告の代
表的出所標識（いわゆるハウスマーク商標）であることが認められる。
　　　　以上の事実によれば、被告が、商標権者として、本件審判請求の登録前３
年以内に日本国内において本件商標を本件高純度薬液自動充填装置に使用したこと
は明らかである。
　　　　なお、商標法５０条２項に規定する「審判の請求の登録前３年以内」の期
間の基準日は、本件においては、本件審判請求の予告登録が指定商品について職権
更正された平成１２年８月２日であると解すべきである。原告は、上記基準日は被
告が本件審判請求を了知した平成１１年７月２６日（審判請求書副本の送達日）で
あることを前提として、上記エキシビジョンでの出品展示に係る本件商標の使用は
上記期間内の使用に当たらない旨主張するが、商標法５０条は、特定の指定商品又
は指定役務に係る商標登録について同条１項に基づく取消しの審判請求がされたこ
とを第三者に公示する予告登録の日をもって基準日とすることを定めたものと解す
べきであるから、原告の上記主張は、その前提において失当というほかはない。
　(2)　そこで、本件高純度薬液自動充填装置が、本件審判請求に係る指定商品の
一つである「半導体製造装置及びこれに類似する商品」に該当するかどうかについ
て判断する。
　　　　本件高純度薬液自動充填装置の商品カタログ（甲第４号証の３）は、本文
冒頭の「ファインマスターシステムとは・・・本システムは、当社の薬液ハンドリ
ング技術及びノウハウをもとに、高純度薬品の取扱いで必要とされる品質要求を、
充分に満足した画期的なボトリングシステムです」との記載に続いて、同システム
を構成する装置として、「液充填装置」、「瓶洗浄装置」、「薬液精製供給装
置」、「瓶乾燥装置」のそれぞれについて、特長、仕様等を記載したものである
が、このうち「液充填装置」に関しては、「本装置は、ファインマスターシステム
の一部として、ＥＬ薬品をはじめ、高純度薬品を高いクリーン度に保持したままで
充填する、画期的な重量式充填装置です」、「特長１クリーンルーム対応、かつ
防爆仕様　設置場所はクリーン度クラス１０で、防爆仕様に対応できます」との記
載があることが認められる。これによれば、本件高純度薬液自動充填装置は、高純
度薬品の取扱いにおいて必要とされる高度の品質要求を満たすための特殊な薬液自
動充填装置であると認められるが、当該カタログの記載自体において、半導体製造
装置との関連性に直接言及しているものではないので、進んで、本件高純度薬液自
動充填装置が被告の主張するように半導体製造工程に使用される高純度薬液に特化
した装置といえるかどうかについて検討する。
　(3)　まず、本件高純度薬液自動充填装置の平成１０年６月２４日作成の販売用
ＶＴＲ（乙第１号証）は、冒頭、半導体製品の製造ラインを背景画面として、「半
導体関連産業において高純度薬品の需要が高まり高品質化が要求されています」と
のナレーションで始まり、本件高純度薬液自動充填装置はそのような要求にこたえ
るための装置であることを説明していること、本件高純度薬液自動充填装置の上記
カタログ（甲第４号証の３）には、明らかにＩＣ回路が焼き込まれた半導体ウェー
ハを表していると考えられるイメージ映像が背景に用いられていること、被告は、
本件高純度薬液自動充填装置の広告を、半導体業界の専門誌であると認められる上
記「電子材料」の平成１０年１２月号及び平成１１年６月号に掲載し（甲第４号証
の４、５）、また、前記のとおり、平成１１年１２月１日～３日に幕張メッセにお
いて開催された「セミコン・ジャパン９９」（半導体製造装置・材料の国際エキシ
ビジョン）の半導体製造関連装置のビジネスショーに同装置を出品展示しているこ
と（甲第４号証の１８、乙第７号証の１、２）、被告の平成９年４月１日～平成１
０年３月３１日年度の有価証券報告書（乙第２号証）にも、研究開発活動の一環と
して、「液体原料関連では、半導体業界をはじめとするクリーン環境下での計量・
充填・洗浄装置等の開発を進めている」と記載していることが認められる。
　(4)　次に、本件高純度薬液自動充填装置の上記カタログ（甲第４号証の３）に
記載されている「ＥＬ薬品」の意味について見るに、インターネットの三菱化学株
式会社その他の関連ホームページ（乙第８号証）には、「ＥＬ（エレクトロニク
ス）薬品」の用途に関して「半導体デバイスの微細化・高集積化に伴い、洗浄プロ
セスで使用される薬品への要求は益々厳しくなっています」との記載があるほか、
具体的な薬品として、超純過酸化水素、超純アンモニア水、ポジ型フォトレジスト
現像液、有機アルカリ洗浄液、ポリマー除去用洗浄液、ポジ型フォトレジスト用剥
離液、ポリイミドエッチング液、化合物半導体用エッチング液及び電子工業用洗浄
液を紹介するとともに、超純過酸化水素に関して「シリコンウェハーなどの電子工
業用部品の洗浄液として高純度を誇る超純過酸化水素ＥＬＭ（注、商品名）は、高
集積化の進む半導体産業を支えます」、超純アンモニア水に関して「超純度過酸化
水素と共に電子工業用部品の洗浄液として幅広く使用されております」、ポリマー
除去用洗浄液に関して「Ａ１配線、ゲート電極、コンタクト／ビアホール形成工程
において、ドライエッチング、アッシング後、側壁保護膜（サイドウォールポリマ
ー）を除去する洗浄液です」、化合物半導体用エッチング液に関して「ガリウム、
ヒ素をはじめとする化合物半導体ウェハー、デバイスの洗浄やエッチングに使用さ
れる過酸化水素を含有した高純度な混酸系エッチング液です」との説明が記載され
ている。
　　　　そして、平成１１年１月１０日株式会社日本実業出版社発行の「半導体の
すべて」（甲第４号証の１２）には、半導体製造工程においては、フォトレジスト
液、露光部のレジストを溶かす溶剤、各工程間で必ず使用される洗浄液などの多様
な薬液が使用されることの記載に加え、例えば、フォトレジスト液については「エ
キシマ・レーザー露光用レジストには、化学増幅型と呼ばれる、樹脂と酸発生剤お
よび溶剤の混合液が最もポピュラーに使用されています。・・・化学増幅型レジス
トは、反応に酸を用いているため、アルカリ系不純物に極めて敏感です。このため
エキシマレーザー露光を用いるリソグラフィ・エリアでは、ケミカル・フィルター
などによる有機系微量不純物の除去が必須になります」（１２９頁）との記載が、
洗浄液については「ＩＣでは、ゴミや微量不純物（金属や有機物）は高歩留り、高
性能、高信頼性を確保する上で大敵となります。ＩＣの製造ラインであるクリーン
ルームは、もともと非常に清浄な環境ですが・・・何がしかの汚染が必ず導入され
てしまいます。このような汚染を除去するため、ウェーハの『あるプロセス工程か
ら次のプロセス工程』の間には、『洗浄』という工程が入れられています。洗浄法
としては、薬液を用いたウェット洗浄が主に用いられています。洗浄液にもいくつ
かの種類があり、それぞれ汚染の種類によって除去効果が異なります。したがっ
て、単独ではすべての汚染を除去できませんので、これらの薬液を組み合わせて用
います」（１４０頁）との記載がある。
　　　　そうすると、半導体製造工程においては、フォトレジスト液、各種の洗浄
液その他の薬液が不可欠であって、しかもその薬液については、クリーンルーム内
の製造ラインでの使用に対応し得るような高度の品質が要求されており、本件高純
度薬液自動充填装置の上記カタログ（甲第４号証の３）にある「ＥＬ薬品をはじ
め・・・」、「クリーンルーム対応」等の記載もこれを受けたものであることが明
らかである。
　　　　以上の認定を総合すれば、本件高純度薬液自動充填装置は、その取扱いに
係る薬液として、半導体製造工程に用いるフォトレジスト液、洗浄液その他の薬液
を想定し、クリーンルームで行われる半導体製造工程における高度の品質要求を満
たす仕様を備えたことを特長とする薬液充填装置として、半導体関連企業を主な需
要者として製造販売されていることが認められる。
　(5)　そこで、本件高純度薬液自動充填装置が本件審判請求に係る指定商品であ
る「半導体製造装置及びこれに類似する商品」に該当するかどうかについて判断す
るに、商標の指定商品としての「半導体製造装置」とは、審決も説示するとおり
（審決謄本４頁２５～２６行目）、専ら半導体製造に用いられる装置を意味すると
解すべきであるが、上記認定によれば、本件高純度薬液自動充填装置は、専ら半導
体製造に用いられる装置に当たるというべきである。
　　　　なお、商標法施行規則別表は、第７類中に規定する「半導体製造装置」の
下位概念を具体的に示していないが、その下位概念の射程を検討する上で、平成１
２年３月財団法人全国統計協会連合会発行、総務庁統計局統計基準部編集の「日本
標準商品分類（平成２年６月改訂）」（甲第５号証）が参考になるところ、これに
よれば、分類番号４３９１の「半導体製造装置」の下位概念として、分類番号４３
９１７の「半導体製造用関連装置」が、更にその下位概念として、分類番号４３９
１７３の「薬液用装置」が、更にその下位概念として、「薬液供給装置」、「薬液
純化装置」、「廃液処理装置」、「その他の薬液用装置」があることが認められ
る。さらに、平成１２年１１月２１日日刊工業新聞社発行の「半導体製造装置用語
辞典（第５版）」（甲第１０号証）には、「薬品自動供給装置」を「半導体製造工
程で使用される薬品を、製造装置に自動供給する装置」などと説明する記載があ
る。そうすると、本件高純度薬液自動充填装置は、「日本標準商品分類」上では、
「半導体製造装置」の下位概念としての「薬液用装置」（「その他の薬液用装
置」）に属する商品と考えられるのであって、この点からも、本件高純度薬液自動
充填装置が商標の指定商品としての「半導体製造装置」に該当するとの上記判断が
基礎付けられるというべきである。
　　　　この点について、原告は、商標の指定商品としての「半導体製造装置」と
は、専ら半導体製造に用いられる装置であり、「半導体製造用関連装置」とは、半
導体製造工程に直接供される装置と解すべきであるとした上、本件高純度薬液自動
充填装置は、半導体メーカーにおいて行われる半導体製造工程で用いられるもので
はなく、半導体製造工程に直接供される装置ではないから、「半導体製造用関連装
置」には該当しない旨主張する。
　　　　しかし、本件高純度薬液自動充填装置が、それ自体、直接には半導体の洗
浄液等を製造する化学薬品メーカー等において用いられ、瓶詰めされた薬液として
半導体製造業者に納入される場合があるとしても、専ら半導体製造に用いられる装
置であると認められる以上、商標の指定商品としては「半導体製造装置」の範ちゅ
うに入ると解すべきであり、このことは、例えば、「純水製造装置」が、上記「日
本標準商品分類」（甲第５号証）において、分類番号４３９１７２１として、「半
導体製造装置」及びその下位概念である「半導体製造用関連装置」の一つと位置付
けられていることに照らしても明らかである。
　　　　また、原告は、本件高純度薬液自動充填装置で使用される薬液は半導体製
造工程で用いられる薬液に限られないから、同装置は「半導体製造装置」ではな
く、「包装用機械器具」に該当する旨主張するが、本件高純度薬液自動充填装置
は、クリーンルームで行われる半導体製造工程で使用する薬液についての高度の品
質要求を満たす仕様を備えたことを特長とする薬液充填装置として、半導体関連企
業を主な需要者として製造販売されているものであることは上記のとおりであるか
ら、本件高純度薬液自動充填装置が、半導体製造工程で使用される薬液以外の薬液
の充填に使用することが可能であるとしても、これが専ら半導体製造工程に用いら
れる装置であるとの前記認定を妨げるものではない。
　(6)　したがって、本件高純度薬液自動充填装置は、本件審判請求に係る指定商
品の一つである「半導体製造装置及びこれに類似する商品」に該当するというべき
である。
　２　以上の認定判断によれば、被告が、本件審判請求の登録前３年以内に、日本
国内において、本件審判請求に係る指定商品の一つである「半導体製造装置及びこ
れに類似する商品」について、本件商標の使用をしていたことが明らかであるか
ら、その余の点について判断するまでもなく、原告主張の審決取消事由は理由がな
く、他に審決を取り消すべき瑕疵は見当たらない。
　　　よって、原告の請求は理由がないから棄却することとし、訴訟費用の負担に
つき行政事件訴訟法７条、民事訴訟法６１条を適用して、主文のとおり判決する。
　　　　　東京高等裁判所第１３民事部
　　　　　　　　　裁判長裁判官　篠　　原　　勝　　美
　　　　裁判官　長　　沢　　幸　　男
　　　　裁判官　宮　　坂　　昌　　利

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