戻る

平成１０年（行ケ）第３４７号審決取消請求事件（平成１２年１月１９日口頭弁論
終結）
判決
原告シーゲートテクノロジーインコーポレイテッド
代表者【Ａ】
訴訟代理人弁理士【Ｂ】
同【Ｃ】
同【Ｄ】
同【Ｅ】
同【Ｆ】
同【Ｇ】
被告特許庁長官【Ｈ】
指定代理人【Ｉ】
同【Ｊ】
同【Ｋ】
同【Ｌ】
主文
原告の請求を棄却する。
訴訟費用は原告の負担とする。
この判決に対する上告及び上告受理の申立てのための付加期間を３０日
と定める。
事実及び理由
第１当事者の求めた判決
１原告
特許庁が、平成７年審判第１２２０８号事件について、平成１０年６月２２
日にした審決を取り消す。
訴訟費用は被告の負担とする。
２被告
主文１、２項と同旨
第２当事者間に争いのない事実
１特許庁における手続の経緯
シーゲートテクノロジーインターナショナル（以下「出願会社」とい
う。）は、平成２年１１月３０日（優先権主張１９９０年３月１２日、アメリカ
合衆国）、名称を「選択的に組織化された磁気記録媒体およびその製造方法」とす
る発明につき特許出願をした（特願平２ー３３６９９７号）が、平成７年２月１４
日に拒絶査定を受けたので、同年６月１２日、これに対する不服の審判の請求をし
た。
特許庁は、同請求を平成７年審判第１２２０８号事件として審理したうえ、
平成１０年６月２２日に「本件審判の請求は、成り立たない。」との審決をし、そ
の謄本は、同年７月１５日、出願会社に送達された。
出願会社は、平成１０年９月１５日、本願出願に係る出願中の権利を原告に
譲渡し、原告は、本願出願に係る出願会社の地位を承継した。
２請求項１に記載された発明（以下「本願発明」という。）の要旨
磁気データを記録し、読出すための磁気変換ヘッドと関連して作動される磁
気媒体の製造方法において、非磁化性の基層本体上に鏡面仕上げの実質的に平らの
基層面を形成し、磁化可能の記録層を、実質的に厚さが均一な層として前記基層面
上に沈着させて基層面に実質的に平行な記録面を形成し、前記基層面又は記録面の
いずれか上の処理面積部分にわたる多数の位置にパルス状のエネルギーを選択的に
集中させ、各位置に丸い凹部を有する痕跡を形成し、痕跡は、前記処理面積部分全
体にわたって、表面粗さを、パルス状のエネルギーを集中させる前の値の少なくと
も２倍の値で増加させる、諸工程を含んでいる磁気媒体の製造方法。
３審決の理由の要点
審決は、別添審決書写し記載のとおり、本願発明が、特開平１ー３１７２２
６号公報（以下「引用例１」といい、そこに記載された発明を「引用例発明」とい
う。）及び特開昭５４ー２３５０８号公報（以下「引用例２」という。）にそれぞ
れ記載された発明並びにいずれも周知技術である「非磁化性のAl合金製の基層本体
上にNi-P合金メッキ層の基層面を形成し、この基層面を鏡面仕上げした磁気ディス
ク基板の表面を磁気ヘッドとの吸着を防止するために適度な粗面に形成すること」
及び「鏡面仕上げされた磁気ディスクの基層面を、磁気ヘッドが磁気ディスクに吸
着するのを防止するために粗面処理する場合、処理後の表面粗さを処理前の２倍近
辺に増加させること」に基づき、当業者が容易に発明をすることができたものであ
るので、特許法２９条２項の規定により特許を受けることができないとした。
第３原告主張の審決取消事由の要点
審決の理由中、本願発明の要旨の認定、引用例１の記載事項の認定、本願発
明と引用例発明との相違点(ａ)～(ｃ)の各認定並びに相違点(ａ)についての判断は
認める。
審決は、相違点(ｂ)、(ｃ)についての判断を誤り（取消事由１、２）、さら
に、本願発明の作用効果を看過して（取消事由３）、本願発明が引用例１、２に記
載された発明及び周知技術に基づき当業者が容易に発明をすることができたとの誤
った結論に至ったものであるから、違法として取り消されなければならない。
１取消事由１（相違点(ｂ)についての判断の誤り）
本願発明の要旨における「エネルギー」が「レーザビーム」であること、及
び引用例２に「コンタクト・スタート・ストップ（ＣＳＳ）形の浮動磁気ヘッドと
記録媒体の吸着現象を改善するために、ＣＳＳゾーンにレーザ装置からのレーザビ
ームを照射して該ゾーンを加熱し、ＣＳＳ時に浮動磁気ヘッドが吸着しない程度に
荒仕上げすること」（審決書９頁２０行～１０頁５行）が記載されていることは認
める。
審決は、本願発明と引用例発明との相違点(ｂ)、すなわち「『痕跡の形成』
に関し、本願発明においては、処理面積部分にわたる多数の位置にパルス状のエネ
ルギーを選択的に集中させ、各位置に丸い凹部を有する痕跡として形成するのに対
し、引用例１に記載された発明（注、引用例発明）においては、基層面上をエッチ
ング処理して凹部として形成するものである点」（同８頁９～１４行）につき、
「レーザビームの照射はパルス状のエネルギーを選択的に集中することであるか
ら、引用例１に記載された発明において、磁気ディスクの基層面をエッチング処理
する代わりに引用例２に記載された発明のように所定の粗さが必要な部分にレーザ
ビームを照射、すなわちパルス状のエネルギーを選択的に集中させて荒仕上げする
ことは、当業者が容易に想到できたものである」（同１０頁６～１３行）と判断し
たが、次のとおり、それは誤りである。
(1)引用例１（甲第６号証）の第１図(Ｂ)、第３図(Ｂ)に示され、また、金属
製基板をエッチングすると金属組織における各結晶粒の粒界部分が難エッチング部
分として鋭い突出部となって残るという合金組織の特性からも説明されるように、
引用例発明に記載された「クレーター状の凹み」は、本願明細書において、従来技
術として問題とされている「鋭い縁部」（甲第２号証１８頁４行）を有するもので
ある。
他方、引用例２（甲第７号証）の第４図には、「レーザー装置８」を用い
た例が記載されているが、該レーザ装置は、「ＣＳＳゾーン４に存在する一定以上
の潤滑剤を飛散させたり、表面層を焼きつけたり」（同号証２頁右上欄１８～１９
行）するために用いられており、本願発明のような「基層面又は記録面のいずれか
上の処理面積部分にわたる多数の位置にパルス状のエネルギーを選択的に集中さ
せ、各位置に丸い凹部を有する痕跡を形成」（本願発明の要旨）するためのもので
はない。審決は、「レーザビームの照射はパルス状のエネルギーを選択的に集中す
ることである」とするが、レーザの発振にルビー等の固体を用いる場合にはパルス
発振が多いものの、気体等を用いる場合には連続発振が普通であり、レーザビーム
の照射が直ちにパルス状のエネルギーを選択的に集中することにはならない。そし
て、引用例２の上記記載によれば、そのレーザビーム照射による処理は、連続的に
レーザビームを照射するものとしか考えられないから、引用例発明において、磁気
ディスクの基層面をエッチング処理する代わりに引用例２に記載された発明のよう
にレーザビームを照射してみても、本願発明の上記構成要件は実現されない。
被告は、特開昭６３ー１３２７０２号公報、特開平１ー１２７１０４号公
報、特開平１ー１２９９９６号公報を挙げて、平滑な金属材表面を回転又は移動さ
せつつ、パルス状のレーザビームを選択的に照射して、該金属材表面にクレーター
とその周囲を取り囲むフランジの集合である粗面を形成することが本願出願前に周
知の技術であると主張し、また、特開昭５３ー１１５２０２号公報を挙げて、ディ
スク表面の所定面積部分にわたる多数の位置にパルス状のレーザビームを照射し各
位置に丸い凹部とその周囲を取り囲む盛り上がり部を有する痕跡を形成すること
も、本願出願前に周知の技術であると主張するが、特開昭６３ー１３２７０２号公
報、特開平１ー１２７１０４号公報、特開平１ー１２９９９６号公報は、本願発明
とは異なる技術分野における異なる課題を解決するための技術手段として、パルス
レーザが公知であることを示すにすぎず、また、特開昭５３ー１１５２０２号公報
には、パルスレーザスポットにより、磁気記録媒体表面において、先端が丸く仕上
げられたリムにより取り囲まれるクレーター状凹みを形成することの重要性につい
ての認識は、開示されていない。
(2)引用例１に、従来技術に関し「この方法では溝が同心円状に形成され、磁
気ヘッドスライダはその溝をなぞるように摺動し、磁気ヘッドスライダの進行方向
に長手状の線接触をするため十分な吸着防止効果が得られないという機能上の問題
点があった」（甲第６号証２頁左下欄１３～１７行）との記載、及び引用例発明に
つき「この発明は上記のような問題点を解消するためになされたもので、十分な吸
着防止効果を有する磁気ディスク用基板を得ることを目的とする。」（同頁左下欄
１８～２０行）との記載があるとおり、引用例発明は、溝を同心円状に形成するこ
と、すなわち、広義では連続的にレーザビームを照射することを否定して、エッチ
ング処理により「クレーター状の凹み」を形成することを採用している。しかると
ころ、引用例２の「ＣＳＳゾーン４に存在する一定以上の潤滑剤を飛散させたり、
表面層を焼きつけたりして、面精度を低下させて、目的とするあらさにＣＳＳゾー
ン４を形成する」（甲第７号証２頁右上欄１８行～左下欄１行）との記載によれ
ば、レーザビーム照射による処理は、連続的にレーザビームを照射するものとしか
考えられないから、引用例発明に、かかる引用例２記載のレーザビーム照射を採用
することは、引用例発明の目的に反するものであって、あり得ないことである。
(3)本願明細書には、従来技術における「生じた突出部は鋸歯状にされて鋭い
縁部を有する傾向」（甲第２号証１８頁４～５行）の問題性に関し、「一度頂部が
これらの多数の突出部から破壊し去られると、２つの問題が発生するが、これらの
両者は記録装置の長期間の信頼性を阻害する。すなわち先ず、多数の大体平らな面
状部分７１（元の尖った頂部でなく）は変換ヘッドとの面接触の全面積を増大させ
て、固着および摩擦の問題（通常摩擦の蓄積と称される）を増加させる。次に、多
数の破壊し去られた頂部は破壊される時に変換ヘッドに付着する傾向があり、谷部
６７に蓄積して突出部の範囲の磁気層を露出させて腐食される恐れのある場所を発
生させ、または粒子状態の汚損物として自由に保持されて、何れの場合にも記録装
置の信頼性を低減させるのである。」（同号証４５頁１４行～４６頁６行）との明
確な認識がなされているが、本願出願当時、当業者は、このような問題性を何ら認
識していなかった。したがって、当業者において、引用例２に開示されている連続
的なレーザビーム照射に代えて、引用例発明のような「クレーター状の凹み」を形
成させるべく、本願発明のような「基層面又は記録面のいずれか上の処理面積部分
にわたる多数の位置にパルス状のエネルギーを選択的に集中させ、各位置に丸い凹
部を有する痕跡を形成する」（本願発明の要旨）との構成要件を採用しようとする
技術的知見はなかったといわざるを得ない。
(4)本願発明の要旨に規定された「丸い凹部を有する痕跡」とは、本願明細書
に記載されているように「公称平面の内方に向かって伸長する丸い中心凹部および
この中心凹部を取巻いて公称平面の外方に伸長する大体円形の丸いリム」（甲第２
号証２１頁末行～２２頁３行）を意味する（なお、「丸い凹部」の「丸い」とは、
「中心凹部」と「リム」が、平面的に円形であることのみを意味するものではな
く、断面的に見た場合に角のない状態であることを表現するものである。）。上記
「丸い凹部を有する痕跡」との規定が「公称平面の外方に伸長する大体円形の丸い
リム」を含むことは、本願発明の要旨の「表面粗さを、パルス状のエネルギーを集
中させる前の値の少なくとも２倍の値で増加させる」との規定から明らかである。
すなわち、本願明細書に、「表面粗さ」につき「粗さなる用語は表面の公称水平平
面より上方の最も高い突出部の高さを意味する」（甲第２号証２９頁１６～１８
行）と定義されており、上記規定から公称水平面よりも高い突出部（隆起部、リ
ム）が存在することが明白であって、かつ、「丸い中心凹部」との語句と区別され
る上記「丸い凹部」との規定は、それが、「丸い中心凹部」とその縁部の「丸いリ
ム（隆起部）」とからなることを示しているのである。
しかるところ、このような「丸い凹部を有する痕跡」、すなわち公称平面
の内方に向かって伸長する丸い中心凹部と、この中心凹部を取り巻いて公称平面の
外方に伸長する大体円形の丸いリムとは、引用例１、２のいずれにも開示されてい
ないし、示唆すらされていない。これを引用例発明における「クレーター状の凹
み」と対比すると、①本願発明のものは「丸い凹部」であるのに対し、引用例発明
のものは多角形の凹部（甲第６号証第２図）であること、②本願発明のものは、中
心凹部を取り巻いて公称平面の外方に伸長する大体円形の丸いリムが形成されてい
るのに対し、引用例発明のものは、エッチング方法で公称平面よりも下位の材料を
除去することにより凹部を形成するものであって、公称平面の外方に伸長するリム
を有していないのみならず、あえて、リム部に相当する部分を想定するとすれば、
引用例１（甲第６号証）の第２図の１２に示される公称平面内における六角形の
「稜線」がこれに当たるが、該「稜線」は同第１図Ｂに示されているように鋭い縁
部を有している点において、本願発明の丸いリムとは異なるものである。
さらに、本願発明の要旨には、「多数の位置に・・・、各位置に丸い凹部
を有する痕跡を形成」することが規定され、この規定は、本願明細書に記載されて
いるように「ディスクをパルス化されたレーザーの周波数に対応する制御された速
度で回転させることによって一連の凹部およびリムより成るリングが形成され、繰
返されて作られるリングが組合わされて環状帯域を形成する」（甲第２号証２２頁
３～８行）ことを意味する。
そして、このような多数の「丸い凹部を有する痕跡」のパターン又は配置
は、上記の「丸い凹部を有する痕跡」の特徴を前提とするものであるから、その技
術的意義も当然に引用例発明とは異なるものである。
２取消事由２（相違点(ｃ)についての判断の誤り）
審決は、本願発明と引用例発明との相違点(ｃ)、すなわち「『痕跡の表面粗
さ』に関し、本願発明においては、処理面積部分全体にわたって、パルス状のエネ
ルギーを集中させる前の値の少なくとも２倍の値で増加させるものであるのに対
し、引用例１に記載された発明（注、引用例発明）においては、硬質膜のエッチン
グ処理された後の表面粗さはエッチング処理される前の粗さより大きくなっている
ことは明らかであるが、具体的にどの程度粗くなっているかについては明示されて
いない点」（同８頁１５～９頁３行）につき、特開昭５９ー８２６２６号公報（以
下「周知例１」という。）及び特開昭６１ー２４６３８０号公報（以下「周知例
２」という。）を引用したうえ、「鏡面仕上げされた磁気ディスクの基層面を、磁
気へッドが磁気ディスクに吸着するのを防止するために粗面処理する場合、処理後
の表面粗さを処理前の２倍近辺に増加させることは周知の技術である」（同１１頁
３～７行）とし、これを前提として、「引用例１に記載された発明において、引用
例２に記載された発明のようにレーザビームを用いて基層面である硬質膜表面を粗
面化する場合にも、表面粗さを処理前の少なくとも２倍に増加させることは磁気ヘ
ッドの磁気ディスクに対する吸着力をどの程度に抑えるかに応じて当業者が適宜な
し得た事項である」（同頁１０～１６行）と判断したが、それは誤りである。
すなわち、一般論として、処理後の表面粗さを処理前の２倍近辺に増加させ
ることが周知の技術であるといい得るとしても、そのことは、本願発明における
「表面粗さを、パルス状のエネルギーを集中させる前の値の少なくとも２倍の値で
増加させる」場合の表面粗さを示唆するものではない。なぜなら、本願明細書は
「表面粗さ」につき特に定義を設けており、引用例１及び周知例１、２記載のもの
とその技術的意義を異にするからである。
本願明細書には「粗さなる用語は表面の公称水平平面より上方の最も高い突
出部の高さを意味する」（甲第２号証２９頁１６～１８行）との記載がある。さら
に、本願明細書には「第５図にてｈで示されるこのリム６２の公称平面５８からの
高さは１．２７×１０－５ないし２．０３×
１０－５ｍｍ（０．５ないし０．８マイクロインチ）の範囲であるのが望ましい
が、リムの高さが２．５４×
１０－５ｍｍ（１マイクロインチ）を僅かに超える場合のヘッド接触面積部分も満
足に作動できる。第５図にてｄで示される平面５８から下方へのピット６０の深さ
は通常リムの高さの約２倍である。従って、ヘッド接触面積部分３２の表面粗さｈ
は１．２７×１０－５ないし２．５４×
１０－５ｍｍ（０．５ないし１．０マイクロインチ）の範囲である」（同３６頁４
～１５行）との記載があり、これらの記載から明らかなように、本願発明における
「表面粗さ」とは、「丸い凹部を有する痕跡」の周囲の「公称水平平面」から最も
高く突出する「突出部の高さ」なのである。
これに対し、引用例発明における「エッチングによって形成されたクレータ
ー状の凹み」では、本願発明でいう基準面が最も高い位置にあって、その位置に対
して凹みが形成されており、いわば、基準面から穴底に至る凹みの深さが粗さとな
る。周知例１、２の粗さも同様である。
そうすると、少なくとも、引用例１及び周知例１、２に「丸い凹部を有する
痕跡」の周囲の「突出部」に対する言及がなされていない限り、本願発明でいう特
定「粗さ」を示唆するものではない。
したがって、審決が、「鏡面仕上げされた磁気ディスクの基層面を、磁気へ
ッドが磁気ディスクに吸着するのを防止するために粗面処理する場合、処理後の表
面粗さを処理前の２倍近辺に増加させることは周知の技術である」故に、「表面粗
さを処理前の少なくとも２倍に増加させることは・・・当業者が適宜なし得た事項
である」とした判断は、相違点(ｃ)についての判断としては誤りである。
３取消事由３（作用効果の看過）
審決が、本願発明が、引用例１、２及び周知技術に基づいて当業者が容易に
発明をすることができたものであるとした判断は、本願発明の有する顕著な作用効
果を看過したものであって、誤りである。
すなわち、本願発明は、磁気媒体の「基層面又は記録面のいずれか上の処理
面積部分にわたる多数の位置にパルス状のエネルギーを選択的に集中させ」との構
成を採用したことにより、記録面に対するＣＳＳ領域の境界（輪郭）を高精度で設
定でき、ＣＳＳ領域全体を均一粗さで粗面化できるとともに、凹みの相互間隔、口
径、深さ及び隆起する縁の高さを高精度で制御（調整）することができ、かつ、隆
起する縁が丸いため、変換ヘッド及びディスクの摩耗が低減化されるとの作用効果
を奏するものであって、記録密度の向上と摩耗の減少という相反する要求を達成す
ることができるものである。
本願発明において得られる磁気媒体の「中心凹部と、その中心凹部を取巻い
て公称平面の外方に伸張する大体円形の丸いリム（隆起部）」は、レーザを代表例
とする高密度エネルギーのパルス状照射によって、金属材料の表面に形成されるそ
の照射に固有な痕跡の形状である。このような固有な痕跡形状を有する痕跡の形成
は、該照射技術における当然の結果的事実的問題であり、本願発明の要旨に規定さ
れた方法の発明で得られる結果物の特長であって、発明の要旨の表現の如何にかか
わらず、避けることのできないものである。そして、本願発明が各引用例及び周知
例の記載によって示唆されるものではないことを勘案すると、本願発明の作用効果
は当業者の予期できないものであるということができる。
第４被告の反論の要点
審決の認定・判断は正当であり、原告主張の取消事由は理由がない。
１取消事由１（相違点(ｂ)についての判断の誤り）について
(1)引用例１と引用例２とは、ともに浮動形磁気ヘッドを対象とし、磁気ディ
スクとの吸着現象を改良するという共通の技術課題を有するものであるから、エッ
チング処理することにより基板表面にクレーター状の凹部を形成し、基板表面の粗
さを大とする引用例発明において、基板表面をエッチング処理することに代えて、
引用例２に記載されたディスクのＣＳＳゾーンにレーザビームを照射して荒仕上げ
用の凹部を形成することを適用することには、何ら技術上の困難性を見出すことが
できず、当業者が容易に想到することができたものである。
しかるところ、磁気ディスク基板表面にレーザビームを照射して、引用例
発明のようなクレーター状の凹みを形成しようとするときには、レーザビームを、
磁気ディスクに対し相対的に移動させながら照射することになるが、この場合にお
いて、レーザビームを、磁気ディスク基板表面に対し連続的に照射すると、ディス
ク基板表面に形成される凹みは、クレーター状の凹みではなく連続的な線状のもの
となってしまうから、磁気ディスク基板表面にクレーター状の凹みを形成するため
には、少なくとも該磁気ディスク基板表面の凹みを形成すべき箇所の中央部近傍に
レーザビームを照射し、凹み相互の境界部分となる箇所の近傍にはレーザビームを
照射しないか、クレーター状の凹みが形成されない程度の極く小さなエネルギーと
するようレーザビームの照射を制御すること、すなわち、レーザビームの磁気ディ
スク基板に対する相対的移動に合わせて、レーザビームのエネルギーを、少なくと
も磁気ディスク基板表面のクレーター状の凹みを形成すべき箇所の中央部近傍で集
中させ、該凹み相互の境界部分となる箇所の近傍ではエネルギーを集中させないよ
うにすることが必要である。これを時間的に見れば、磁気ディスク基板に対してレ
ーザビームのエネルギーを集中している時間と集中していない時間が存在し、磁気
ディスク基板に対するレーザビームの照射は、パルス状のエネルギーを選択的に集
中させるものとなることが明らかである。
そして、平滑な金属材表面を回転又は移動させつつ、パルス状のレーザビ
ームを選択的に照射して、該金属材表面にクレーターとその周囲を取り囲むフラン
ジの集合である粗面を形成することは、特開昭６３ー１３２７０２号公報、特開平
１ー１２７１０４号公報、特開平１ー１２９９９６号公報に見られるように、本願
出願前に周知の技術であり、また、ディスク表面の所定面積部分にわたる多数の位
置にパルス状のレーザビームを照射し各位置に丸い凹部とその周囲を取り囲む盛り
上がり部を有する痕跡を形成することも、特開昭５３ー１１５２０２号公報にみら
れるように、本願出願前に周知である。
そうすると、引用例発明において、基板表面の多数の位置にクレーター状
の凹みを形成するのに、基板表面をエッチング処理することに代えて、引用例２に
記載された発明のようにレーザビームを照射したとき、磁気ディスク基板表面に丸
い凹部を有する痕跡が形成されることは、上記周知事項を勘案すれば、当業者が十
分に予測し得た範囲の技術的事項であって、格別のものとはいうことはできない。
(2)原告は、本願発明において「中心凹部を取巻いて公称平面の外方に伸長す
る大体円形の丸いリム」が形成されると主張し、さらに、「ディスクをパルス化さ
れたレーザーの周波数に対応する制御された速度で回転させることによって一連の
凹部およびリムより成るリングが形成され、繰返されて作られるリングが組合わさ
れて環状帯域を形成する」旨主張するが、本願発明の要旨には、「中心凹部を取巻
いて公称平面の外方に伸長する大体円形の丸いリム」及び「一連の凹部およびリム
より成るリングが形成され、繰返されて作られるリングが組合わされて環状帯域を
形成する」ことは規定されておらず、原告の該主張は、発明の要旨に基づかないも
のである。
それのみならず、「中心凹部を取巻いて公称平面の外方に伸張する大体円
形の丸いリム」は、上記周知事項を勘案すれば、引用例発明において、基板表面の
多数の位置にクレーター状の凹みを形成するために、基板表面をエッチング処理す
ることに代えて、引用例２に記載された発明のようにレーザビームを照射したと
き、当業者が十分に予測し得た範囲の技術的事項であって、格別のものとはいうこ
とはできない。
２取消事由２（相違点(ｃ)についての判断の誤り）について
原告は、本願明細書に「粗さなる用語は表面の公称水平平面より上方の最も
高い突出部の高さを意味する」との記載があるから、本願発明における表面粗さ
は、引用例１及び周知例１、２記載の一般的に用いられる表面粗さと技術的意義を
異にすると主張する。
しかしながら、本願発明の要旨は、単に「表面粗さ」と規定するのみであっ
て、本願明細書中の原告主張の記載は、実施例の説明において示されているにすぎ
ないから、原告の上記主張は失当である。
のみならず、審決の判断のとおり、磁気ディスク基板上に形成する粗面をど
の程度の粗さとするかは、本来、磁気ヘッドと磁気ディスクとの吸着をどの程度防
止するかに応じて、当業者が適宜設定し得る事項であり、このような目的に沿っ
て、鏡面仕上げされた磁気ディスクの基層面の表面粗さを処理前の２倍近辺に増加
させることが本願出願前に周知の技術であるところ、この場合の表面粗さは、原告
主張に係る本願発明における表面粗さと、たとえ、粗さの測定の仕方（表現の仕
方）が異なるにしても、鏡面仕上げされた磁気ディスクの基層面の表面粗さを処理
前の２倍程度に増加させるものであるという点では、技術的に何ら実質上の差異は
ない。
したがって、相違点(ｃ)についての審決の判断に何ら誤りはない。
３取消事由３（作用効果の看過）について
原告は、本願発明が、磁気媒体の「基層面又は記録面のいずれか上の処理面
積部分にわたる多数の位置にパルス状のエネルギーを選択的に集中させ」との構成
を採用したことにより、記録面に対するＣＳＳ領域の境界（輪郭）を高精度で設定
でき、ＣＳＳ領域全体を均一粗さで粗面化できるとともに、凹みの相互間隔、口
径、深さ及び隆起する縁の高さを高精度で制御（調整）することができ、かつ、隆
起する縁が丸いため、変換ヘッド及びディスクの摩耗が低減化されるとの作用効果
を奏すると主張する。
しかしながら、引用例発明において、基板表面の多数の位置にクレーター状
の凹みを形成するのに、基板表面をエッチング処理することに代えて、引用例２に
記載された発明のようにレーザビームを照射して基層面を粗面化する場合、この照
射はパルス状のエネルギーを選択的に集中することであり、その場合に、記録面に
対するＣＳＳ領域の境界を高精度で設定でき、ＣＳＳ領域全体を均一粗さで粗面化
できるとともに、凹みの相互間隔、口径、深さを高精度で制御（調整）することが
できることは、当業者が十分に予測し得る作用効果である。
また、本願発明の要旨には、「隆起する縁」について規定されておらず、隆
起する縁が丸いため、変換ヘッド及びディスクの摩耗が低減化されるとの主張は、
発明の要旨に基づかないものであるのみならず、上記のように、引用例発明に引用
例２に記載された発明を適用してパルス状のエネルギーを選択的に集中する場合、
クレーター状の丸い凹部及びその周囲を取り囲む盛り上がり部を有する痕跡が形成
されることから、変換ヘッド及びディスクの摩耗が低減化されるとの作用効果を奏
することも、当業者が予測することができたものである。
したがって、審決が、本願発明の作用効果を看過したとの原告主張も誤りで
ある。
第５当裁判所の判断
１取消事由１（相違点(ｂ)についての判断の誤り）について
(1)本願発明の要旨における「エネルギー」が「レーザビーム」であること、
引用例１に「磁気ディスクの表面粗さの向上は著しく、・・・ところが、表面精度
の向上にともなって、別の問題が新たに生じてきた。それは磁気ディスク装置が停
止しているときに、磁気ヘッドスライダと磁気ディスクが吸着するという問題であ
る。」（審決書３頁９～１６行）、「この発明は・・・十分な吸着防止効果を有す
る磁気ディスク用基板を得ることを目的とする。」（同４頁９～１２行）、「第１
図Ａ、Ｂはこの発明の一実施例による磁気ディスク用基板の製造方法を説明する断
面図であり、・・・この基板を・・・エッチングすると、硬質膜(2)が２元合金のた
め、構成元素のエッチングレートの差から第１図Ｂに示すようなクレーター状の凹
み(11)が形成される。参考写真は上記実施例による磁気ディスク用基板の表面を示
し、第２図はこの写真を拡大して模式的に示す。基板表面にはモザイク状模様のク
レーター状の凹み(11)が形成されている。」（同４頁１４行～５頁６行）、「この
発明によれば、基材または硬質膜の表面にクレーター状の凹みを有するので、磁気
ヘッドスライダとの接触面積が非常に小さく、磁気ディスクと磁気ヘッドスライダ
間の吸着を効果的に防止できる磁気ディスク用基板が得られる」（同５頁８～１２
行）との各記載があること、引用例２に「コンタクト・スタート・ストップ（ＣＳ
Ｓ）形の浮動磁気ヘッドと記録媒体の吸着現象を改善するために、ＣＳＳゾーンに
レーザ装置からのレーザビームを照射して該ゾーンを加熱し、ＣＳＳ時に浮動磁気
ヘッドが吸着しない程度に荒仕上げすること」（同９頁２０行～１０頁５行）が記
載されていることは当事者間に争いがない。また、引用例１（甲第６号証）には、
さらに、「この発明におけるクレーター状の凹みは、磁気ヘッドスライダが磁気デ
ィスクに接触するときの・・・摩擦力が小さくなり吸着力が減少する。」（同号証
２頁右下欄６～９行）との記載があることが認められる。
前示引用例１、２の各記載によれば、引用例発明及び引用例２に記載され
た発明は、いずれも磁気記録媒体において、浮動形磁気ヘッド（磁気ヘッドスライ
ダ）と記録媒体（磁気ディスク）との吸着現象を改良することを目的とするもので
あって、その技術分野及び技術課題が共通であるものと認めることができる。そう
すると、引用例発明において、浮動形磁気ヘッドと記録媒体との吸着現象を改良す
るためディスク表面にクレーター状の凹みを形成するに当たって、エッチング処理
により該クレーター状の凹みを形成することに代えて、引用例２に記載された、デ
ィスクのＣＳＳゾーンにレーザビームを照射する技術を採用することが、当業者に
とって格別困難であると認めることはできない。
他方、特開昭６３ー１３２７０２号公報（乙第１号証）には、塗装用鋼板
及びその製造方法の発明に関して、「レーザによる加熱によってロール３を形成す
る金属は、大きな照射エネルギ密度のもとで瞬時に金属蒸気となり、このとき発生
する蒸気圧力によってロール表面の溶融金属が吹き飛ばされてクレータ１を形成
し、またその吹き飛ばされた溶融金属はクレータ１の周囲に再固着して、クレータ
１を取囲むフランジ２を形成する。」（同号証４頁右上欄１２～１８行）、「ロー
ルを回転もしくは軸方向移動させつつ規則的なレーザパルスを照射することより上
述のようなクレータ１が規則的に形成され、これらの次々に形成されるクレータの
集合によってロール表面は粗面を呈する」（同頁左下欄２～６行）との各記載が、
特開平１ー１２７１０４号公報（乙第２号証）には、高粗度・高鮮映性熱延鋼板及
びその製造方法の発明に関して、「表面を研磨加工により平滑に仕上げたワークロ
ール表面に、レーザービーム等の高密度エネルギ源を、上記ロールを定速度で回転
させながらパルス状に照射して規則的に連続した点状に溶融した微小クレータを形
成する。第３図(ａ)は、この点状に溶融されたロール表面の拡大断面図であって、
１はロールＲ表面に形成された微小クレータであり、このクレータ１の周囲には溶
融した母材金属がロール表面よりも盛り上がってフランジ２が形成される。」（同
号証３頁右上欄１１～２０行）との記載が、さらに、特開平１ー１２９９９６号公
報（乙第３号証）には、コンダクタロールの発明に関して、「高密度エネルギー源
を用いてロール表面粗さを所定の範囲内に正確に制御しつつ加工し、極めて均一な
粗度プロフィールのコンダクタロールを提供する」（同号証２頁右上欄３～６
行）、「高密度エネルギー源から細く絞った鋭利なビームをパルス状にしてロール
表面に投射すると、ビームで加熱された部分の金属が溶融し、その中心部は瞬時に
気化して金属蒸気となり、その蒸気圧力で中心部の溶融金属が吹き飛ばされて窪み
が形成される。一方、吹き飛ばされた溶融金属は窪みの周囲に再固着して、窪み周
縁を囲む形状に盛り上がりを生じる。」（同頁右上欄２０行～左下欄７行）、「ロ
ール円周方向のクレータ相互間の間隔は、投射される高密度エネルギーのパルスの
周波数をロール回転速度に関連させつつ制御することにより調節し、・・・クレー
タの分布密度を任意に設定することが可能である。かくして、ロール表面に、任意
の大きさに調整された多数のクレータが任意のピッチを保ち規則的に均一に分布し
て形成される。」（同頁左下欄１１行～右下欄１行）との各記載が、特開昭５３ー
１１５２０２号公報（乙第４号証）には、凹凸画像の形成方法の発明に関して、
「ガラスデイスク５を１８００ｒｐｍで回転させながら記録用ヘツド６をデイスク
に一定距離を保って接近させ、パルス状・・・のアルゴンイオンレーザ光７を記録
用ヘツド中のレンズで集光して照射した。・・・レーザスポツトの径は約０．９μ
ｍ、第４図ｂのように記録された楕円形の凹部の、底部の短径は約０．６μｍであ
つた。」（同号証３頁右下欄１５行～４頁左上欄５行）との記載があり、これらの
記載によれば、金属材表面に対しパルス状のレーザビームを相対移動させつつ照射
することにより、該金属材表面に、クレーター状の丸い凹部と、その周縁を囲み、
先端が丸くなった形状のフランジ（盛上がり部）が集合分布してなる粗面を形成す
ることは、本願出願当時、周知の技術事項であったものと認められる。
しかして、引用例発明において、ディスク表面にクレーター状の凹みを形
成するに当たり、エッチング処理に代えて、引用例２に記載されたディスクのＣＳ
Ｓゾーンにレーザビームを照射する技術を採用する場合に、磁気ディスク表面に対
し、レーザービームを相対移動させながら連続的に照射したとすれば、ディスク基
板表面には、クレーター状の凹みではなく、線状の凹みが形成されてしまうことが
明らかであるから、前示周知技術に基づいて、パルス状のレーザビームを相対移動
させつつ照射することにより、磁気ディスク表面上のクレーター状の凹みを形成さ
せる箇所に選択的にエネルギーを集中し、クレーター状の凹み相互の境界部分とな
る箇所にはエネルギーを集中しないようレーザビームの照射を制御して、クレータ
ー状の凹みが所定の間隔で集合分布してなる粗面を形成することは、技術上当然の
ことであるといわざるを得ない。そして、その場合に、各クレーター状の凹みが、
丸い凹部となり、その周縁にこれを囲み、先端が丸くなった形状のフランジ（盛上
がり部）が形成されることが周知の事項であることも前示のとおりである。
(2)原告は、前示特開昭６３ー１３２７０２号公報、特開平１ー１２７１０４
号公報、特開平１ー１２９９９６号公報が、本願発明とは異なる技術分野における
異なる課題を解決するための技術手段として、パルスレーザが公知であることを示
すにすぎず、また、特開昭５３ー１１５２０２号公報には、先端が丸く仕上げられ
たリムにより取り囲まれるクレーター状凹みを形成することの重要性についての認
識が開示されていないと主張する。しかしながら、これらの先行文献が、本願発明
とは異なる技術分野における異なる課題を解決するための技術手段についてのもの
であるとしても、一般に、金属材表面に対しパルス状のレーザビームを相対移動さ
せつつ照射する場合に関する周知の技術事項を開示したものであると認められるこ
とは前示のとおりであって、このことは、該技術事項の重要性についての認識が開
示されていないからといって、左右されるものでもない。
また、原告は、引用例１（甲第６号証）の、従来技術に関する「この方法
では溝が同心円状に形成され、磁気ヘッドスライダはその溝をなぞるように摺動
し、磁気ヘッドスライダの進行方向に長手状の線接触をするため十分な吸着防止効
果が得られないという機能上の問題点があった」（同号証２頁左下欄１３～１７
行）との記載、及び引用例発明についての「この発明は上記のような問題点を解消
するためになされたものであって、十分な吸着防止効果を有する磁気ディスク用基
板を得ることを目的とする。」（同頁左下欄１８～２０行）との記載が、広義では
連続的にレーザビームを照射することを否定するものであり、引用例２（甲第７号
証）の「ＣＳＳゾーン４に存在する一定以上の潤滑剤を飛散させたり、表面層を焼
きつけたりして、面精度を低下させて、目的とするあらさにＣＳＳゾーン４を形成
する」（同号証２頁右上欄１８行～左下欄１行）との記載が連続的にレーザビーム
を照射するものとしか考えられないから、引用例発明に、引用例２記載のレーザビ
ーム照射を採用することはあり得ないと主張するが、引用例２の前示記載から直ち
に、引用例２に記載された発明が、連続的にレーザビームを照射するものに限られ
るものとは解されず、他に、引用例２（甲第７号証）に、そこに記載された発明が
レーザビームをパルス状に照射することを排除していると認めるべき記載も見当た
らない。そして、引用例発明において、引用例２に記載されたディスクのＣＳＳゾ
ーンにレーザビームを照射する技術を採用する場合に、前示周知技術に基づいて、
パルス状のレーザビームを相対移動させつつ照射することが技術上当然であること
は前示のとおりであるから、原告の該主張も採用することができない。
原告は、本願出願当時、当業者は、本願明細書（甲第２号証）に記載され
た「生じた突出部は鋸歯状にされて鋭い縁部を有する傾向」（同号証１８頁４～５
行）の問題性を認識していなかったから、引用例発明のような「クレーター状の凹
み」を形成させるべく、「基層面又は記録面のいずれか上の処理面積部分にわたる
多数の位置にパルス状のエネルギーを選択的に集中させ、各位置に丸い凹部を有す
る痕跡を形成する」（本願発明の要旨）との構成要件を採用しようとする技術的知
見はなかったとも主張するが、引用例発明及び引用例２に記載された発明が、技術
分野及び技術課題を共通にするものである故に、引用例発明におけるクレーター状
の凹みを形成するに当たって、引用例２に記載された、ディスクのＣＳＳゾーンに
レーザビームを照射する技術を採用することが、当業者にとって格別困難であると
認めることができないこと、その場合に、前示周知技術に基づいて、パルス状のレ
ーザビームを相対移動させつつ照射し、エネルギーを選択的に集中することが技術
上当然であり、かつ、そうしたときに、各クレーター状の凹みが、丸い凹部を形成
することが周知の事項であることも前示のとおりである。
原告はさらに、本願発明の要旨に規定された「丸い凹部を有する痕跡」
が、公称平面の内方に向かって伸長する丸い凹部及びこの中心凹部を取り巻いて公
称平面の外方に伸長する大体円形の丸いリムを意味するところ、これらは引用例
１、２のいずれにも開示されていないし、示唆すらされていないと主張する。
しかしながら、前示のとおり、引用例発明において、引用例２に記載され
たディスクのＣＳＳゾーンにレーザビームを照射する技術を採用する場合に、前示
周知技術に基づいて、パルス状のレーザビームを相対移動させつつ照射し、エネル
ギーを選択的に集中することが技術上当然であり、そうしたときに、各クレーター
状の凹みが丸い凹部を形成すること、すなわち、公称平面の内方に向かって伸長す
る丸い凹部が形成されることは周知事項である。
また、中心凹部を取り巻いて公称平面の外方に伸長する大体円形の丸いリ
ムは、本願発明の要旨に規定されておらず、原告の該主張は、発明の要旨に基づか
ないものであるといわざるを得ない。この点につき、原告は、本願明細書（甲第２
号証）の「粗さなる用語は表面の公称水平平面より上方の最も高い突出部の高さを
意味する」（同号証２９頁１６～１８行）との記載が、本願発明の要旨の「表面粗
さを、パルス状のエネルギーを集中させる前の値の少なくとも２倍の値で増加させ
る」との規定の「表面粗さ」を定義したものであり、該規定から公称水平面よりも
高い突出部（隆起部、リム）が存在することが明白であると主張するが、後述のと
おり、本願明細書中の前示記載は、実施例の説明において示されているにすぎない
のみならず、該記載があるからといって、本願発明の「表面粗さを、パルス状のエ
ネルギーを集中させる前の値の少なくとも２倍の値で増加させる」との構成要件
が、前示凹部を取り巻いて公称平面の外方に伸長する大体円形の丸いリムの存在ま
で規定するものとは解されない。
それのみならず、前示のとおり、引用例発明において、引用例２に記載さ
れたディスクのＣＳＳゾーンにレーザビームを照射する技術を採用する場合に、前
示周知技術に基づいて、パルス状のレーザビームを相対移動させつつ照射し、エネ
ルギーを選択的に集中することが技術上当然であり、そうしたときに、各クレータ
ー状の凹みが丸い凹部を形成し、かつ、その凹部の周縁にこれを囲み、先端が丸く
なった形状のフランジ（盛上がり部）、すなわち、中心凹部を取り巻いて公称平面
の外方に伸長する大体円形の丸いリムが形成されることも、前示のとおり周知事項
である。
したがって、原告主張の、公称平面の内方に向かって伸長する丸い凹部及
びこの中心凹部を取り巻いて公称平面の外方に伸長する大体円形の丸いリムは、当
業者が引用例発明において、引用例２に記載されたディスクのＣＳＳゾーンにレー
ザビームを照射する技術を採用する場合に、当然予測し得る技術事項というべきで
あって、これを格別のものとすることはできない。
原告は、本願発明の要旨の「多数の位置に・・・、各位置に丸い凹部を有
する痕跡を形成」することが、ディスクをパルス化されたレーザーの周波数に対応
する制御された速度で回転させることによって一連の凹部およびリムよりなるリン
グが形成され、繰り返されて作られるリングが組合わされて環状帯域を形成するこ
とを意味し、このような多数の「丸い凹部を有する痕跡」のパターン又は配置の技
術的意義は引用例発明と異なるとも主張するが、原告主張のような多数の「丸い凹
部を有する痕跡」のパターン又は配置は、本願発明の要旨に規定されておらず、該
主張は、発明の要旨に基づかないものであるといわざるを得ない。そして、引用例
１の前示「第１図Ａ、Ｂはこの発明の一実施例による磁気ディスク用基板の製造方
法を説明する断面図であり、・・・この基板を・・・エッチングすると、硬質膜(2)
が２元合金のため、構成元素のエッチングレートの差から第１図Ｂに示すようなク
レーター状の凹み(11)が形成される。参考写真は上記実施例による磁気ディスク用
基板の表面を示し、第２図はこの写真を拡大して模式的に示す。基板表面にはモザ
イク状模様のクレーター状の凹み(11)が形成されている。」との記載並びに引用例
１（甲第６号証）の第１図(Ａ)、(Ｂ)及び第２図の表示に鑑みて、引用例１には、
多数の位置にクレーター状の凹みを形成することが開示されているものと認められ
るから、引用例発明において、引用例２に記載されたディスクのＣＳＳゾーンにレ
ーザビームを照射する技術を採用する場合に、「多数の位置に・・・、各位置に丸
い凹部を有する痕跡を形成」することは明らかである。
(3)したがって、審決の相違点(ｂ)についての判断に原告主張の誤りがあると
いうことはできない。
２取消事由２（相違点(ｃ)についての判断の誤り）について
本願明細書（甲第２号証）には、「粗さなる用語は表面の公称水平平面より
上方の最も高い突出部の高さを意味する」（同号証２９頁１６～１８行）、「第５
図にてｈで示されるこのリム６２の公称平面５８からの高さは１．２７×１０－５
ないし２．０３×１０－５ｍｍ（０．５ないし０．８マイクロインチ）の範囲であ
るのが望ましいが、リムの高さが２．５４×１０－５ｍｍ（１マイクロインチ）を
僅かに超える場合のヘッド接触面積部分も満足に作動できる。第５図にてｄで示さ
れる平面５８から下方へのピット６０の深さは通常リムの高さの約２倍である。従
って、ヘッド接触面積部分３２の表面粗さｈは１．２７×１０－５ないし２．５４
×１０－５ｍｍ（０．５ないし１．０マイクロインチ）の範囲である」（同３６頁
４～１５行）との各記載があるところ、原告は、これらの記載に基づいて、本願発
明における「表面粗さ」とは、丸い凹部を有する痕跡の周囲の公称水平平面から最
も高く突出する突出部の高さのことであり、基準面から穴底に至る凹みの深さのこ
とである引用例発明及び周知例１、２の粗さと異なるものであるから、引用例１及
び周知例１、２は、本願発明の「粗さ」を示唆するものではなく、審決の相違点
(ｃ)についての判断が誤りであると主張する。
しかしながら、本願明細書中の前示各記載は、本願発明に係る実施例の説明
において示されているにすぎないから、該各記載があるからといって、本願発明の
要旨における「表面粗さ」が、直ちに磁気ディスク表面の公称水平平面より上方の
最も高い突出部の高さを規定したものであると認めることはできない。
のみならず、周知例１（甲第８号証）の「磁気デイスク基板の表面粗さＲａ
とデイスク媒体の摩擦係数および磁気ヘツドの吸着力との関係を示すグラフ」（同
号証３頁左上欄１４～１６行）である図面第２図には、ディスク基板粗さＲａが
０．００５μｍから０．０１５μｍ近くまで増加すると、磁気ヘツドの吸着力が低
下することが表示され、また、周知例２（甲第９号証）には、磁気ヘッドの吸着を
防ぐことを目的とする磁気ディスク基板の製造方法の発明につき、実施例１として
「表面粗さＲａ０．００４μｍまで鏡面研磨した後・・・表面粗さＲａ０．００７
μｍの磁気ディスク基板を得た。」（同号証２頁右下欄５～９行）との、実施例２
として「実施例１と同様にして磁気ディスク基板を作製したが、・・・表面粗さは
Ｒａ０．００８μｍであり」（同欄１４～２０行）との各記載があり、これらの表
示及び記載によれば、周知例１、２には、磁気ディスク基板の表面を鏡面研磨した
後、表面粗さを２倍程度の値で増加させることが開示されており、このことは、本
願出願当時、周知の技術事項であったものと認めることができる。
しかるところ、仮に本願発明における「表面粗さ」が、原告主張のように、
磁気ディスク表面の公称水平平面より上方の最も高い突出部の高さを意味するとし
ても、該「表面粗さ」が、磁気ディスク上に、磁気ヘッドが接触する凸部と、該凸
部に遮られるため磁気ヘッドが接触しない凹部とを設け、磁気ディスク表面全体に
おける磁気ヘッドとの接触部分の面積を少なくするための、該凸部と凹部との相対
的な高低差を確保するとの技術的意義を有する点においては、引用例発明及び周知
例１、２記載のものの「表面粗さ」と差異がないことは明らかである。そして、か
かる技術的意義における「表面粗さ」をどの程度に設定するかは、本来、磁気ヘッ
ドと磁気ディスクとの吸着をどの程度防止するかに応じて、当業者が適宜設定し得
る事項であり、前示のとおり、鏡面研磨後の磁気ディスクの表面粗さを処理前の２
倍程度に増加させることが本願出願前に周知の技術であるから、本願発明における
表面粗さを２倍の値で増加させることは、たとえ、その表面粗さの定義において、
引用例発明及び周知例１、２記載のものとの間に、原告主張の相違があったとして
も、何ら格別のものということはできない。
したがって、審決の相違点(ｃ)についての判断に、原告主張の誤りがある
ということはできない。
３取消事由３（作用効果の看過）について
原告は、本願発明が、磁気媒体の「基層面又は記録面のいずれか上の処理面
積部分にわたる多数の位置にパルス状のエネルギーを選択的に集中させ」との構成
を採用したことにより、記録面に対するＣＳＳ領域の境界（輪郭）を高精度で設定
でき、ＣＳＳ領域全体を均一粗さで粗面化できるとともに、凹みの相互間隔、口
径、深さ及び隆起する縁の高さを高精度で制御（調整）することができ、かつ、隆
起する縁が丸いため、変換ヘッド及びディスクの摩耗が低減化されるとの作用効果
を奏すると主張するが、前示のとおり、隆起する丸い縁（リム）は本願発明の要旨
に規定されておらず、これに基づく作用効果の主張は、本願発明の要旨に基づくも
のということはできない。
のみならず、前示のとおり、引用例発明において、引用例２に記載されたデ
ィスクのＣＳＳゾーンにレーザビームを照射する技術を採用する場合に、前示周知
技術に基づいて、パルス状のレーザビームを相対移動させつつ照射し、エネルギー
を選択的に集中することが技術上当然であり、そうしたときに、各クレーター状の
凹みが丸い凹部を形成し、かつ、その凹部の周縁にこれを囲み、先端が丸くなった
形状のフランジ（盛上がり部）が形成されることは周知事項である。そうすると、
原告主張の前示作用効果は、隆起する丸い縁（リム）に基づくものを含め、当業者
が十分に予測し得たものであって、格別のものということはできない。
したがって、審決に原告主張の作用効果の看過があるということはできな
い。
４以上のとおりであるから、原告主張の審決取消事由は理由がなく、その他審
決にはこれを取り消すべき瑕疵は見当たらない。
よって、原告の請求を棄却することとし、訴訟費用の負担並びに上告及び上
告受理の申立てのための付加期間の指定につき行政事件訴訟法７条、民事訴訟法６
１条、９６条２項を適用して、主文のとおり判決する。
東京高等裁判所第１３民事部
裁判長裁判官田中康久
裁判官石原直樹
裁判官清水節

戻る