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平成１７年(行ケ)第１００７５号　審決取消（特許）請求事件
（旧事件番号　東京高裁平成１６年(行ケ)第２９１号）
口頭弁論終結日　平成１７年７月１４日
判決
原　　　　　　告　　　ニチゴー・モートン株式会社
訴訟代理人弁理士　　　西藤征彦
同　　　　井﨑愛佳
被　　　　　　告　　　株式会社名機製作所
訴訟代理人弁理士　　　萼　経夫
同　　　　宮崎嘉夫
同　　　　小野塚　　　薫
同　　　　高　昌宏
主文
１　特許庁が無効２００３－３５１３５号事件について平成１６年５月
３１日にした審決を取り消す。
２　訴訟費用は被告の負担とする。
事実及び理由
第１　請求
　主文と同旨
第２　事案の概要
　本件は，原告の有する発明の名称を「積層方法」とする後記特許につき，被
告が特許無効審判請求をしたところ，特許庁が無効審決をしたことから，原告が同
審決の取消しを求めた事案である。
第３　当事者の主張
１　請求の原因
(1)　特許庁における手続の経緯
　原告は，発明の名称を「積層方法」とする発明につき，平成１０年１１月
６日に特許出願し，平成１２年３月３１日に特許第３０５１３８１号として設定登
録を受けた（以下「本件特許」という。）。
　被告は，平成１５年４月１０日付けで，本件特許につき特許無効審判請求
をし，特許庁は，これを無効２００３－３５１３５号事件として審理した。
　原告は，審理の過程で，本件特許について，平成１６年３月１５日付けで
訂正請求を行い（以下「本件訂正」という。），これに対し特許庁は，平成１６年
４月２日付けで訂正拒絶理由通知を発した。
　そして，特許庁は，平成１６年５月３１日，本件訂正は認められないとし
た上で，「特許第３０５１３８１号の請求項１～８に係る発明についての特許を無
効とする。」との審決（以下「本件審決」という。）をし，その謄本は平成１６年
６月１０日原告に送達された。
(2)　発明の内容
ア　本件訂正前の発明（すなわち登録時の発明）の内容は，下記のとおりで
ある。
「【請求項１】凹凸を有する基板１に，フィルム状樹脂２を積層するに当
たり，真空積層装置３を用いて積層した後，真空状態を解放した状態でラミネータ
ーロール４又は平面プレス装置４′により加熱加圧処理することを特徴とする積層
方法。
【請求項２】上部プレート５及び下部プレート６を有し，上部プレート
５及び下部プレート６の対向面にそれぞれ膜体７，８を載置し，上部プレート５の
膜体７と下部プレート６の膜体８の間に狭持されるように凹凸を有する基板１とフ
ィルム状樹脂２を載置し，下部プレート６を持ち上げて上部プレート５と密封係合
状態にして，真空状態にした後，上部より大気を入れて積層する真空積層装置３を
用いることを特徴とする請求項１記載の積層方法。
【請求項３】真空積層装置３による真空度が２ｈＰａ以下であることを
特徴とする請求項１又は２記載の積層方法。
【請求項４】上部プレート５の膜体７とフィルム状樹脂２及び下部プレ
ート６の膜体８と基板１の間にそれぞれフィルム１３，１４を設けることを特徴と
する請求項２あるいは３記載の積層方法。
【請求項５】上部プレート５の膜体７とフィルム状樹脂２及び下部プレ
ート６の膜体８と基板１の間にそれぞれ設けたフィルム１３，１４が連続走行可能
なフィルムであることを特徴とする請求項４記載の積層方法。
【請求項６】上部プレート５の膜体７とフィルム状樹脂２及び下部プレ
ート６の膜体８と基板１の間にそれぞれ設けたフィルム１３，１４がポリエチレン
テレフタレートフィルム，ポリエチレンフィルム，ポリプロピレンフィルム，ナイ
ロンフィルム，ポリイミドフィルム，ポリスチレンフィルム，フッ素化オレフィン
フィルムのいずれかであることを特徴とする請求項４又は５記載の積層方法。
【請求項７】ラミネーターロール４による加熱加圧処理条件が圧力１～
１０ｋｇ／ｃ㎡，温度２０～２００℃，又は平面プレス装置４′による加熱加圧処
理条件が圧力１～５０ｋｇ／ｃ㎡，温度２０～２００℃であることを特徴とする請
求項１～６いずれか記載の積層方法。
【請求項８】フィルム状樹脂２が絶縁材料であること特徴とする請求項
１～７いずれか記載の積層方法。」
　なお，以下，本件訂正前の請求項を「旧請求項」と，本件訂正後のそれ
を「新請求項」といい，旧請求項１に係る発明を「訂正前発明１」等と，新請求項
１に係る発明を「訂正発明１」等という。
イ　本件訂正後の発明の内容
　平成１６年３月１５日付け請求に係る本件訂正後の発明の内容は，下記
のとおりである（下線部が訂正部分）。なお，旧請求項４は削除され，以下順次繰
り上げた。
「【請求項１】凹凸を有する基板１に，フィルム状樹脂２を積層するに当
たり，真空積層装置３を用いて積層した後，真空状態を解放した状態でラミネータ
ーロール４又は平面プレス装置４′により加熱加圧処理する積層方法において，該
真空積層装置３として，上部プレート５及び下部プレート６を有し，上部プレート
５及び下部プレート６の対向面にそれぞれ膜体７，８を載置し，上部プレート５の
膜体７と下部プレート６の膜体８の間に狭持されるように凹凸を有する基板１とフ
ィルム状樹脂２とを，上部プレート５の膜体７とフィルム状樹脂２との間及び下部
プレート６の膜体８と基板１との間にそれぞれフィルム１３，１４を介在させて載
置し，真空状態にした後，積層する真空積層装置を使用することを特徴とする積層
方法。
【請求項２】上部プレート５及び下部プレート６を有し，上部プレート
５及び下部プレート６の対向面にそれぞれ膜体７，８を載置し，上部プレート５の
膜体７と下部プレート６の膜体８の間に狭持されるように凹凸を有する基板１とフ
ィルム状樹脂２を載置し，下部プレート６を持ち上げて上部プレート５と密封係合
状態にして，真空状態にした後，上部より大気を入れて真空状態を解放し積層を完
了する真空積層装置３を用いることを特徴とする請求項１記載の積層方法。
【請求項３】真空積層装置３内の真空度が２ｈＰａ以下であることを特
徴とする請求項１又は２記載の積層方法。
【請求項４】上部プレート５の膜体７とフィルム状樹脂２との間及び下
部プレート６の膜体８と基板１との間にそれぞれ設けたフィルム１３，１４が連続
走行可能なフィルムであることを特徴とする請求項２又は３記載の積層方法。
【請求項５】上部プレート５の膜体７とフィルム状樹脂２との間及び下
部プレート６の膜体８と基板１との間にそれぞれ設けたフィルム１３，１４がポリ
エチレンテレフタレートフィルム，ポリエチレンフィルム，ポリプロピレンフィル
ム，ナイロンフィルム，ポリイミドフィルム，ポリスチレンフィルム，フッ素化オ
レフィンフィルムのいずれかであることを特徴とする請求項２～４いずれか記載の
積層方法。
【請求項６】ラミネーターロール４による加熱加圧処理条件が圧力１～
１０ｋｇ／ｃ㎡，温度２０～２００℃，又は平面プレス装置４′による加熱加圧処
理条件が圧力１～５０ｋｇ／ｃ㎡，温度２０～２００℃であることを特徴とする請
求項１～５いずれか記載の積層方法。
【請求項７】フィルム状樹脂２が電気的絶縁材料であること特徴とする
請求項１～６いずれか記載の積層方法。」
(3)　審決の内容
　本件審決の内容は，別紙審決謄本の写しのとおりである。その理由の要旨
は，本件訂正は，次に述べるとおり訂正前明細書に記載された事項の範囲において
なされたものでも，特許請求の範囲の減縮，誤記若しくは誤訳の訂正，又は明りょ
うでない記載の釈明のいずれでもないから許されず，かつ，訂正前発明２ないし
４，８は不明確で特許法３６条６項２号に規定する要件を満たしていないから無効
である等としたものである。
　なお，本件訂正が許されないとされた理由は，次の理由１ないし４のとお
りである。
（理由１）
　訂正発明１は，訂正前明細書に記載されていないから，本件訂正は，訂正
前明細書に記載された事項の範囲内においてしたものとはいえない。
（理由２）
　訂正発明３は，訂正前明細書に記載されていないから，本件訂正は，訂正
前明細書に記載された事項の範囲内においてしたものとはいえない。
（理由３）
　訂正発明３についての本件訂正は，新たな請求項を特許請求の範囲に追加
するものであって，特許請求の範囲の減縮を目的とするものとはいえないし，誤記
の訂正や明りょうでない記載の釈明を目的とするものともいえない。
（理由４）
　新請求項４及び５の両者の記載において，フィルム１３，１４が設けられ
る位置につき，「上部プレート５の膜体７とフィルム状樹脂２との間及び下部プレ
ート６の膜体８と基板１との間」とする本件訂正は，明りょうでない記載の釈明を
目的とするものとはいえないし，特許請求の範囲の減縮や誤記の訂正を目的とする
ものともいえない。
(4)　審決の取消事由
　しかしながら，本件審決には，本件訂正を認めなかった違法があるのみな
らず，訂正前発明２ないし４，８は特許法３６条６項２号の要件を満たしていない
から無効である等の誤った判断をした違法があるから，取り消されるべきである。
ア　取消事由１（本件訂正の適否の判断の誤り）
(ア)　訂正前発明１に係る訂正について
①　本件審決は，訂正発明１の真空積層装置は，前記(2)イの【請求項
１】のように，下部プレート６を持ち上げて上部プレート５と密封係合状態にし，
かつ，上部より大気を入れるもの以外の真空積層装置を含む概念で特定されている
が，訂正前明細書には，下部プレート６を持ち上げて上部プレート５と密封係合状
態にするもの以外の真空積層装置が記載されていたものとは認められないし，ま
た，大気を入れる真空積層装置としては，上部より大気を入れるもの以外の真空積
層装置が記載されていたものとも認められないから，本件訂正は，訂正前明細書に
記載された事項の範囲内においてしたものではない（本件審決の「理由１につい
て」。３頁３５行～５頁１４行），と判断した。
　しかし，訂正発明１は，訂正前明細書記載の実施例２におけるフィ
ルム１３，１４に着目し，訂正前明細書の図３及び図４のフィルム状樹脂２と基板
１とを膜体７を膨張させて積層する際，フィルム状樹脂から滲み出す樹脂成分を
「フィルム１３及び１４に付着させ，該フィルムを取り除くことにより，良好な回
路基板が形成できる」（段落【００１５】）という効果を得るため，上記フィルム
１３，１４を構成要件に加えるとともに，上記樹脂成分の滲み出しが，上下のプレ
ート５，６とその膜体７，８を備えた真空積層装置３や平面プレス装置４′に基づ
くものであることを明確にするため，これを構成要件とし，さらに，真空積層装置
３で得られた積層板には，基板の凹凸に基づき表面に凹凸があり，これをラミネー
ターロール４又は平面プレス装置４′により加熱加圧処理して積層板表面の凹凸を
平滑にし，後工程である回路形成時の密着不良をなくすことができる（段落【００
１１】）ことに鑑み，ラミネーターロール４又は平面プレス装置４′をも構成要件
としたものである。
　そして，訂正前明細書の実施の形態（実施例１及び２）は，訂正前
発明１の方法に用いる真空積層装置３の好適な一例を示したに過ぎないのであり，
実施例１及び２の記載のみから訂正前発明１の真空積層装置を限定解釈すること
は，特許法７０条２項の趣旨に違反する。
②　次に，訂正前明細書（甲２）には，「凹凸を有する基板１に，フィ
ルム状樹脂２を積層するに当たり，真空積層装置３を用いて積層した後，真空状態
を解放した状態でラミネーターロール４又は平面プレス装置４′により加熱加圧処
理する積層方法」との記載（段落【０００６】），「図１，図２は本発明の積層方
法に用いる装置の主要部の構造図であり，１は凹凸を有する基板，２はフィルム状
樹脂，３は真空積層装置，４はラミネートロール，４′は平面プレス装置であり，
更に５は上部プレート，６は下部プレート，７は上部プレート５の膜体，８は下部
プレート６の膜体である。９は上部プレート５と下部プレート６とを密封係合する
ためのシールであり，１０は上部プレート５と下部プレート６を密封係合した後
に，該密封内を真空状態にするための真空引き吸引口である。」との記載（段落
【０００８】）があり，図１，２が示されている。
　そして，訂正前明細書の真空積層装置３において上部プレート５及
び下部プレート６あるいはどちらかのプレートを相対的に近接移動させてその対向
面に膜体を介して密封係合状態にすることは，特開平１０－２８６８３９号公開特
許公報（甲１８），特開平１１－１２９４３１号公開特許公報（甲３中の審判甲
１），特開平１０－９５０８９号公開特許公報（甲２２）に記載のあるように，本
件特許の出願前に当業者間で技術常識となっていた。また，訂正前明細書の真空積
層装置３においては，上部より大気を入れているが，上部より大気を入れる目的
は，上部プレート５の下面の膜体７を膨らませ，その膨張力を利用して基板１とフ
ィルム状樹脂２を積層するものであるところ，特開平１０－２８６８３９号公開特
許公報（甲１８），特開平８－３３２６４６号公開特許公報（甲１９）に記載のあ
るように，膜体を膨らませその膜圧を利用してフィルム状樹脂と回路基板等の基板
とを積層することは周知であり，その積層の際，上部プレート５から圧縮空気を導
入してその上部プレート５に設けられている膜体７を膨らませるか，下部プレート
６から空気を導入してその空気圧を利用して膜体８を膨らませるかのいず
れかを選択することも，本件特許の出願前に当業者間で技術常識となっていた。
　したがって，訂正前明細書の前記記載に接した当業者であれば，前
記技術常識に照らして，訂正前明細書の真空積層装置３において「上部プレート５
及び下部プレート６あるいはどちらかのプレートを相対的に近接移動させてその対
向面に膜体を介して密封係合状態にすること」及び「上部又は下部より大気を入れ
て膜体を膨らませること」は，訂正前明細書に記載されているのと同然であるもの
と理解することができるから，自明な事項として訂正前明細書に記載されているの
に等しいにもかかわらず，本件審決は，これらの事項が記載されていないとの誤っ
た判断をした。
(イ)　訂正前発明３に係る訂正について
①　本件審決は，訂正前明細書には，真空積層装置３における下部プレ
ート６と上部プレート５とが密封係合することにより両プレート間に形成された空
間部分は２ｈＰａ以下であることが記載されていたと認められるとした上で，訂正
発明３は，上記空間部分以外の空間部分が２ｈＰａ以下であるものも包含する概念
である「真空積層装置３内の真空度が２ｈＰａ以下であること」を特定事項の一つ
とするもので，該真空積層装置は訂正前明細書に記載がないから，本件訂正は，訂
正前明細書に記載された事項の範囲内においてしたものではない（本件審決の「理
由２について」。５頁１５行～６頁１０行），と判断した。
　しかし，本件審決の上記記載によれば，訂正前明細書の「下部プレ
ート６と上部プレート５との間に形成された空間部分」とは，「下部プレート６と
上部プレート５の膜体７とシール９とで囲われた空間」を，それ以外の空間部分と
は「上部プレート５とその膜体７との間の空間」をいうものと解されるところ，訂
正前明細書（甲２）の実施態様の記載（段落【００１０】）を図１とあわせてみれ
ば，「上部プレート５と膜体７との間の空間」と「下部プレート６と上部プレート
５の膜体７とシール９とで囲われた空間」の両空間の真空度が２ｈＰａ以下である
ことは明らかであり，また，特開平１０－２８６８３９号公開特許公報（甲１
８），特開平８－３３２６４６号公開特許公報（甲１９）には，訂正前明細書の実
施態様とは上下が逆の構造になっているものの，チャンバ（訂正前明細書の実施形
態における下部プレート６と上部プレート５の膜体７とシール９とで囲われた空間
に相当するもの）内を真空引きする際には，同時に下板と膜体との間を真空引き
し，次いで下板と膜体との間を加圧して膜体を膨らませる構造が明示されているよ
うに，真空積層装置は上記両空間がなければ正常に作動しないことは技術常
識であり，この技術常識に照らせば，訂正前明細書に明示されていなくても前記両
空間の真空度が２ｈＰａ以下であることは記載されているに等しい事項である。
　したがって，上記事項が記載されていないとした本件審決の判断は
誤りである。
②　次に，本件審決は，訂正前発明３は「真空積層装置によって真空に
される対象物につき，その真空度を２ｈＰａ以下にする」と特定された発明である
のに対し，訂正発明３は「真空積層装置３内の真空度が２ｈＰａ以下である」と特
定された発明であって，真空積層装置において，真空にされる対象物につき，その
真空度を特定するものではないから，訂正発明３は，訂正前発明１ないし８のいず
れにも由来するものではなく，本件訂正は新たな請求項を特許請求の範囲に追加す
るものである（本件審決の「理由３について」。６頁１１行～２５行），と判断し
た。
　しかし，訂正前明細書（甲２）には，発明の実施の形態として「９
は上部プレート５と下部プレート６とを密封係合するためのシールであり，１０は
上部プレート５と下部プレート６を密封係合した後に，該密封内を真空状態にする
ための真空引き吸引口である。」（段落【０００８】）と記載されており，この記
載において真空にするところは「該密封内」であり，この「密封内」とは「真空に
される空間」であることは図１ないし図４から明らかである。
　また，上記実施の形態では，積層する対象物は凹凸を有する基板１
とフィルム状樹脂２であり，これらは，いずれも固形物であって，それ自体を真空
にすることは不可能であり，仮に真空にされる対象物を基板１とフィルム状樹脂２
との間の空隙と理解しても，その空隙は微細であって真空度の測定は不可能である
から，訂正前明細書には，「真空にされる対象物」の真空度が２ｈＰａであると記
載されているのではなく，「真空にされる空間」の真空度が２ｈＰａであることが
記載されていることは明らかである。
　したがって，本件審決の上記判断は，用語の解釈を誤り，又は事実
誤認に基づくものである。
(ウ)　訂正前発明５，６に係る訂正について
　本件審決は，本件訂正前の旧請求項５及び６の記載において，フィル
ム１３，１４の設けられる位置が，上部プレート５の膜体７とフィルム状樹脂２と
の間又は下部プレート６の膜体８と基板１との間であることは明りょうであって，
そうである以上，本件訂正後の新請求項４が訂正前の旧請求項５に由来し，また，
同様に，新請求項５が旧請求項６に由来しているとして検討しても，本件訂正が明
りょうでない記載の釈明を目的としていないことは明らかである（本件審決の「理
由４について」。６頁２６行～７頁１１行），と判断した。
　しかし，本件訂正前の旧請求項５及び６の記載によれば，「上部プレ
ート５の膜体７とフィルム状樹脂２の間に，それぞれフィルム１３，１４を設け，
下部プレート６の膜体８と基板１の間にそれぞれフィルム１３，１４を設けた」と
いう構成と，「上部プレート５の膜体７とフィルム状樹脂２との間にフィルム１３
を設け，下部プレート６の膜体８と基板１との間にフィルム１４を設けた」という
二つの構成が記載されているかのような解釈がなされる可能性があったので，本件
訂正は後者であることを明りょうにする目的でなされたものであり，明りょうでな
い記載の釈明を目的とするものであることは明らかであるから，本件審決の上記判
断は誤りである。
イ　取消事由２（無効理由の判断の誤り）
(ア)　訂正前発明２について
　本件審決は，本件訂正前の旧請求項２には「「上部より大気を入れて
積層する」との記載があり，この記載は「上部より大気を入れることにより積層す
る」や「上部より大気を入れた後に積層する」の，少なくとも二つの意味に理解さ
れ，同項の記載からでは，上記「上部より大気を入れて積層する」と記載された事
項の意味が不明確となっている。」と認定し，請求項２の記載は特許を受けようと
する発明が明確であることに適合していない（７頁３１行～８頁１行），と判断し
た。
　しかし，本件訂正前の旧請求項２は真空積層装置３と明記しており，
この真空積層装置３は，訂正前明細書（甲２）の実施の形態から明らかなように，
「上部プレート５から大気を入れて膜体７を膨らませその膜体７の膨らみの圧力で
積層する」ものであるから，本件訂正前の旧請求項２は，上部より大気を入れるこ
とにより積層する方法のみを示していることは明らかである。また，前記ア(ア)②
のとおり，大気を入れて膜体を膨らませ，その膨らみの圧力で積層することは，真
空積層装置においては技術常識であるから，本件審決が判示するように上部より大
気を入れた後に積層するという解釈が生ずる余地はない。
(イ)　訂正前発明３について
　本件審決は，本件訂正前の旧請求項３について，真空積層装置３によ
る真空度が２ｈＰａ以下であると記載された事項は，技術的にまとまりがなく，同
項の記載は不明確といわざるを得ないから，特許を受けようとする発明が明確であ
ることに適合していない（８頁２行～２０行），と判断している。
　しかし，前記ア(イ)のとおり，訂正前明細書の記載及び本件特許の出
願当時の技術常識に照らし，真空積層装置３は上部プレート５の真空引き吸引口１
０を利用して大気圧を導入し，それによって上部プレート５に設けられた膜体７を
膨らませてその膨らみの圧力によりフィルム状樹脂２と基板１とを積層するもの
で，同装置において真空度とは，上部プレート５と下部プレート６と下部プレート
６の上面に設けられたシール９とで囲われた空間（上部プレート５と膜体７の間の
空間部も含む。）の真空度のことであり，このような真空にされる空間以外に真空
度が２ｈＰａ以下になる空間は存在しないことは明らかであるから，本件審決の上
記判断は誤りである。
(ウ)　訂正前発明４について
　本件審決は，本件訂正前の旧請求項４は旧請求項２又は旧請求項３を
引用しており，旧請求項２には上部プレート５と下部プレート６が記載されている
から，旧請求項４の上部プレート５と下部プレート６の関係は明瞭であるが，旧請
求項３は旧請求項１を引用しているところ旧請求項１には上部プレート５，下部プ
レート６の記載がないから旧請求項４に記載されている上部プレート５，膜体７，
フィルム状樹脂２，下部プレート６，膜体８，基板１又はフィルム１３，１４との
関係が不明となっており，特許を受けようとする発明が明確であることに適合して
いない（８頁２１行～３２行），と判断している。
　しかしながら，請求項記載の発明の用語が不明瞭である場合には，発
明の詳細な説明を考慮してその用語の意味を解釈するものであることが原則（特許
法７０条２項）であるところ，訂正前明細書（甲２）の真空積層装置３の実施例２
には，上部プレート５，膜体７，フィルム状樹脂２，下部プレート６，膜体８及び
基板１とフィルム１３，１４との関係が明示されており，このような実施の形態を
参酌すれば，本件審決が不明瞭と認定する各部材の関係は明らかである。単に，請
求項の記載のみを基準として発明の詳細な説明を参酌することなくなされた本件審
決の上記判断は不当である。
(エ)　訂正前発明８について
　本件審決は，本件訂正前の旧請求項８には「「絶縁材料」と記載があ
るが，絶縁材料には電気的に絶縁なものと熱的に絶縁なものが知られているが，前
記記載の絶縁は如何なる意味のものであるかが明確でない」から，本件訂正前の旧
請求項８の記載は特許を受けようとする発明が明確であることに適合していない
（８頁３３行～３７行），と判断している。
　しかし，訂正前発明８は，プリント回路基板を製造する目的でなされ
たものであるところ（訂正前明細書（甲２）の段落【０００１】の【発明の属する
技術分野】），特開平５－６７８８１号公開特許公報（甲２０）に記載のあるよう
に，多層回路基板の回路は電気回路を示すこと及びその回路に用いるフィルム状樹
脂には電気絶縁性が求められることは当業者の技術常識であるから，当業者におい
ては絶縁材料と記載されていれば，当然電気絶縁材料と理解するのであるから，本
件審決の上記判断は，誤りである。
ウ　取消事由３（理由不備）
　本件審決は，結論として訂正前発明１～８は特許法３６条６項２号に規
定する要件を満たしていないから無効である旨判断しているが，訂正前発明１，５
ないし７に係る発明が無効であることの理由が記載されていないから，特許法１５
７条２項４号の規定に違反するものとして取り消されるべきである
２　請求原因に対する認否
　請求原因(1)ないし(3)の各事実は認めるが，同(4)は争う。
３　被告の反論
　以下に述べるとおり，本件審決には，原告主張の違法はない。
(1)　取消事由１について
ア　(ア)に対して
(ア)　本件訂正前の旧請求項２に記載された「真空積層装置」は，「下部
プレート６を持ち上げて上部プレート５と密封係合状態にして，真空状態にした
後，上部より大気を入れて積層する」という事項を必須の発明特定事項としている
のに対し，本件訂正後の新請求項１は，上記事項を備えない真空積層装置を対象と
しているものであるが，このような真空積層装置は，訂正前明細書に開示又は示唆
されていたとはいえないから，訂正前発明１を訂正発明１とする本件訂正は，訂正
前明細書に記載された事項の範囲内においてしたものとはいえない。
(イ)　原告主張の特開平１１－１２９４３１号公開特許公報（甲３中の審
判甲１）は，被告の特許出願に基づいて，本件特許の出願日（平成１０年１１月６
日）から約半年後の平成１１年５月１８日に出願公開されたものであって，本件特
許の出願時点では公開されていなかったから，上記公開特許公報の記載を根拠とし
て真空積層装置３において「下部プレート６を持ち上げて上部プレート５と密封状
態にすること」を「上部プレート５を下降させて下部プレート６と密封状態にする
こと」に変更することは当業者の技術常識であるとはいえない。
　特開平１０－２８６８３９号公開特許公報（甲１８），特開平８－３
３２６４６号公開特許公報（甲１９）が存在するからといって，訂正前明細書に上
部より大気を入れるもの以外の真空積層装置が記載されていたとはいえないことは
明らかである。また，「下部より大気を入れて膜体を膨らませる」は，上記各公開
特許公報では，特許請求の範囲に記載された発明を特定する事項として記載されて
おり，単なる従来技術として記載されたものではないから，この「下部より大気を
入れて膜体を膨らませる」という事項に基づいて，「上部より大気を入れて膜体を
膨らませるか，下部より大気を入れて膜体を膨らませるかのいずれかを選択するこ
と」は，当業者の技術常識であるとは直ちにはいえない。
イ　(イ)に対して
(ア)　本件訂正後の新請求項３は，「真空積層装置における下部プレート
６と上部プレート５とが密封係合することにより両プレート間に形成された空間部
分」以外の空間部分をも包含する「真空積層装置３内の真空度が２ｈＰａ以下であ
ること」を発明特定事項の一つとするものであるが，この「真空積層装置３内の真
空度」という事項は，訂正前明細書（甲２）に記載されていたとはいえない。
　また，本件訂正前の旧請求項３は，旧請求項１又は２を前提とする発
明であるが，旧請求項１又は２のいずれにも「真空積層装置３内の真空度」という
事項に関連する記載がないだけでなく，本件訂正前の旧請求項４～８のいずれにも
上記事項を示唆する記載はない。
(イ)　特開平１０－２８６８３９号公開特許公報（甲１８），特開平８－
３３２６４６号公開特許公報（甲１９）が存在するからといって，訂正発明３を特
定する事項が訂正前明細書（甲２）に記載されていたとはいえない。
ウ　(ウ)に対して
　本件訂正前の旧請求項５及び６においては，フィルム１３，１４が設け
られる位置が，上部プレート５の膜体７とフィルム状樹脂２との間又は下部プレー
ト６の膜体８と基板１との間であることは明りょうであるといえるから，訂正前発
明５を訂正発明４と，訂正前発明６を訂正発明５とする本件訂正は，明りょうでな
い記載の釈明を目的としてなされたものではないし，特許請求の範囲の減縮や誤記
の訂正を目的とするものともいえない。
(2)　取消事由２について
ア　(ア)に対し
　訂正前発明２について訂正前明細書（甲２）には「上部より大気を入れ
て積層する」という記載は存在するが，「上部プレート５から大気を入れて膜体７
を膨らませその膜体７の膨らみの圧力で積層する」という記載は見当たらないか
ら，訂正前明細書の上記記載から「上部より大気を入れることにより積層する」こ
とを意味するのか，あるいは「上部より大気を入れた後に積層する」ことを意味す
るのか明確に理解することができないとした本件審決に誤りはない。
　また，特開平１０－２８６８３９号公開特許公報（甲１８），特開平８
－３３２６４６号公開特許公報（甲１９）に記載のあるように，大気を入れて膜体
を膨らませ，その膨らみの圧力で積層することは，技術常識であるかもしれない
が，これらの証拠が存在するからといって，訂正前発明２を特定する事項に係る記
載は，特許を受けようとする発明が明確であることの要件に適合しているとは直ち
にいえない。
イ　(イ)に対し
　本件審決が認定するように本件訂正前の旧請求項１又は２には「真空状
態」という記載があるが，真空度で規定される事項は記載されていないから，本件
訂正前の旧請求項１又は２を前提とする旧請求項３の発明を特定する事項である
「真空積層装置３による真空度」という事項は，旧請求項１又は２に記載の事項と
の技術的関係が不明であるといえる。
　また，特開平１０－２８６８３９号公開特許公報（甲１８），特開平８
－３３２６４６号公開特許公報（甲１９）に記載された技術常識を考慮したとして
も，依然として，本件訂正前の旧請求項３と旧請求項１又は２との技術的関連が不
明であるといえるから，訂正前発明３を特定する事項に係る記載は，特許を受けよ
うとする発明が明確であることの要件に適合しているとはいえない。
ウ　(ウ)に対し
　本件訂正前の旧請求項４は，旧請求項２又は３を前提とし，また，旧請
求項３は，旧請求項１又は２を前提としており，これらの記載をそのまま解釈する
と，訂正前発明４を特定する事項である「上部プレート５の膜体７とフィルム状樹
脂２及び下部プレート６の膜体８と基板１の間にそれぞれフィルム１３，１４を設
ける」という事項は，訂正前発明１及び３を特定する事項のうち，どの事項に基づ
くものなのか不明であり，依然として，旧請求項４と旧請求項１又は３との技術的
関連が不明であるといえるから，訂正前発明４を特定する事項に係る記載は，特許
を受けようとする発明が明確であることの要件に適合しているとはいえない。
エ　(エ)に対し
　訂正前発明８は，訂正前発明１～７のいずれかを前提とし，これらの発
明では「凹凸を有する基板」を発明特定事項としているが，単に「凹凸を有する基
板」という記載では，「基板」を構成する材料が電気的な絶縁材料から構成される
ものであるのか当業者であっても一義的にとらえることはできないといえるから，
本件訂正前の旧請求項８の記載は，特許を受けようとする発明が明確であることの
要件に適合しているとはいえない。
(3)　取消事由３について
　特許法４９条は，「審査官は，特許出願が次の各号のいずれかに該当する
ときは，その特許出願について拒絶をすべき旨の査定をしなければならない。」，
５１条は，「審査官は，特許出願について拒絶の理由を発見しないときは，特許を
すべき旨の査定をしなければならない。」と規定し，更に１２３条は，「特許が次
の各号のいずれかに該当するときは，その特許を無効にすることについて特許無効
審判を請求することができる。」として，同条１項４号は，「その特許が第３６条
第４項第１号又は第６項（第４号を除く。）に規定する要件を満たしていない特許
出願に対してされたとき。」と規定している。これらの規定によれば，特許法は，
一つの願書に複数の請求項が記載されている場合，一つの請求項に係る発明につい
て特許をすることができないときは，他の請求項が独立請求項であるとか従属請求
項であるとかにかかわらず，特許出願の全体について拒絶査定あるいは特許査定を
することを予定しているものといえる。
　そうすると，本件審決が，訂正前発明２ないし４，８を特定する事項に係
る記載が特許法３６条６項２号に規定する要件を満たしていないと認定し，結局，
本件訂正前の旧請求項１～８に係る特許は，特許法３６条６項２号に規定する要件
を満たしていない旨判断したことに誤りはない。
第４　当裁判所の判断
１　請求の原因(1)（特許庁における手続の経緯），(2)ア・イ（発明の内
容），(3)（審決の内容）の各事実は，いずれも当事者間に争いがない。
　本件訴訟の争点は，本件審決が原告の平成１６年３月１５日付け本件訂正請
求を認めなかったことの適否（取消事由１），及び，仮に同訂正請求を認めなかっ
たことが適法であるとしても，本件審決が旧請求項１ないし８につき無効事由があ
るとしたことが適法といえるか（取消事由２，３），である。以下，順次判断す
る。
２　取消事由１（本件訂正の適否の判断の誤り）の有無
(1)　訂正前発明１に係る訂正について
ア　本件審決は，「訂正発明１は，下部プレート６を持ち上げて上部プレー
ト５と密封係合状態にし，且つ，上部より大気を入れるもの以外の真空積層装置を
包含する概念である「上部プレート５及び下部プレート６を有し，上部プレート５
及び下部プレート６の対向面にそれぞれ膜体７，８を載置し，上部プレート５の膜
体７と下部プレート６の膜体８の間に狭持されるように凹凸を有する基板１とフィ
ルム状樹脂２を，上部プレート５の膜体７とフィルム状樹脂２との間及び下部プレ
ート６の膜体８と基板１との間にそれぞれフィルム１３，１４を介在させて載置
し，真空状態にした後，積層する真空積層装置」を特定事項の１つとするものであ
る」（３頁末行～４頁７行），記載ア・イ・ウとして「ア．「更に本発明では，図
３，図４に示す如く，上記の真空積層装置において，上部プレート５の膜体７とフ
ィルム状樹脂２及び下部プレート６の膜体８と基板１の間に，更に必要に応じ上下
ラミネーターロール４と基板１とフィルム状樹脂２の積層体の間，平面プレス装置
４′の上下プレスプレートと基板１とフィルム状樹脂２の積層体の間に，それぞれ
フィルム１３，１４を設けることが好ましく，特には該フィルム１３，
１４が連続走行可能なフィルムであることが好ましい。ここで，図３，図４中の１
５及び１６はフィルム１３，１４を連続走行させるためのフィルムの巻だしロール
と巻き取りロールである。」（段落【００１３】）」，イ．「１０は上部プレート
５と下部プレート６を密封係合した後に，該密封内を真空状態にするための真空引
き吸引口である。」（段落【０００８】８～１０行，特許公報の段落【０００８】
１０～１２行を参照。）」，ウ．「下部プレート６を持ち上げて上部プレート５と
密封係合し，上下の真空引き吸引口１０より吸引し，２ｈＰａ以下，好ましくは１
ｈＰａ以下の状態まで真空にした後，上部より大気を中に入れて真空状態を解放
し，」（段落【００１０】２～５行，特許公報の段落【００１０】３～７行を参
照。）」とした上，「下部プレート６を持ち上げて上部プレート５と密封係合状態
にする真空積層装置は，記載ウによれば，下部プレート６を持ち上げて上部プレー
ト５と密封係合状態にする態様のものが記載されていたと認められるものの，記載
ア及びイをみても，下部プレート６を持ち上げて上部プレート５と密封係合状態に
するもの以外の真空積層装置が記載されていたとは認められないし，また
，大気を入れる真空積層装置としては，記載ウによれば，上部より大気を入れる態
様のものが記載されていたと認められるものの，記載ア及びイをみても，上部より
大気を入れるもの以外の真空積層装置が記載されていたとは認められない。」（４
頁３３行～５頁４行）として，訂正発明１の真空積層装置は訂正前明細書に記載が
ないから，訂正発明１は訂正前明細書に記載されていたとはいえず，本件訂正は訂
正前明細書に記載された事項の範囲内においてしたものではない，と判断した。
　これに対し原告は，本件特許の出願前に，訂正前明細書の真空積層装置
３において上部プレート５及び下部プレート６あるいはどちらかのプレートを相対
的に近接移動させてその対向面に膜体を介して密封係合状態にすること，膜体を膨
らませその膜圧を利用してフィルム状樹脂と回路基板等の基板とを積層する際，上
部プレート５から圧縮空気を導入してその上部プレート５に設けられている膜体７
を膨らませるか，下部プレート６から空気を導入してその空気圧を利用して膜体８
を膨らませるかのいずれかを選択することは，いずれも当業者間で技術常識となっ
ていたことに照らし，訂正前明細書の真空積層装置３において「上部プレート５及
び下部プレート６あるいはどちらかのプレートを相対的に近接移動させてその対向
面に膜体を介して密封係合状態にすること」及び「上部又は下部より大気を入れて
膜体を膨らませること」は，自明な事項として訂正前明細書に記載されているのに
等しいにもかかわらず，本件審決は，これらの事項が記載されていない等の誤った
判断をした旨主張する。
イ　そこで検討するに，訂正前発明１に係る本件訂正は，旧請求項１「凹凸
を有する基板１に，フィルム状樹脂２を積層するに当たり，真空積層装置３を用い
て積層した後，真空状態を解放した状態でラミネーターロール４又は平面プレス装
置４′により加熱加圧処理することを特徴とする積層方法。」を，新請求項１「凹
凸を有する基板１に，フィルム状樹脂２を積層するに当たり，真空積層装置３を用
いて積層した後，真空状態を解放した状態でラミネーターロール４又は平面プレス
装置４′により加熱加圧処理する積層方法において，該真空積層装置３として，上
部プレート５及び下部プレート６を有し，上部プレート５及び下部プレート６の対
向面にそれぞれ膜体７，８を載置し，上部プレート５の膜体７と下部プレート６の
膜体８の間に狭持されるように凹凸を有する基板１とフィルム状樹脂２とを，上部
プレート５の膜体７とフィルム状樹脂２との間及び下部プレート６の膜体８と基板
１との間にそれぞれフィルム１３，１４を介在させて載置し，真空状態にした後，
積層する真空積層装置を使用することを特徴とする積層方法。」に訂正するもので
ある。
　そして，訂正前明細書（甲２）には，「【従来の技術】近年，電子機器
の小型化，高性能化に伴いプリント回路基板の高密度化，多層化が進行している。
かかるプリント回路基板の多層化においては，熱硬化型樹脂組成物又は感光性樹脂
組成物を絶縁層として使用し，予め形成した内層回路の上に……該熱硬化型樹脂組
成物又は感光性樹脂組成物からなるフィルム状樹脂を積層し，更に銅メッキを施し
た後，再度フォトレジストフィルムを用いて光によるパターニングを行い，回路を
形成する方法，いわゆるビルドアップ工法が有効に用いられている。」（段落【０
００２】），「特に絶縁層として用いる熱硬化型樹脂組成物又は感光性樹脂組成物
層の積層において，フィルム状樹脂を用いる場合は，特開平５－２００８８０号公
報に記載の如き真空積層装置が用いられる。」（段落【０００３】），「【発明が
解決しようとする課題】しかしながら，特開平５－２００８８０号公報に記載の装
置を用いて，凹凸を有する基板とフィルム状樹脂を積層する場合，該基板にフィル
ム状樹脂を追従させるようにすると，該基板の凹凸が反映し，積層樹脂表面に凹凸
が生じる。該積層樹脂表面の凹凸は，次工程の回路形成時に密着不良
や追従性不良，外観不良等の問題が生じることになる。最近の多層化に伴う技術の
高度化を考慮すると，良好な追従性及び基板とフィルム状樹脂間に生じる小さな気
泡（マイクロボイド）の抑制が重量（判決注・「重要」の誤り）であり，更にビル
ドアップ工法においては積層後の表面平滑性が重量（判決注・「重要」の誤り）で
ある。」（段落【０００４】），「特に本発明では，上部プレート５及び下部プレ
ート６を有し，上部プレート５及び下部プレート６の対向面にそれぞれ膜体７，８
を載置し，上部プレート５の膜体７と下部プレート６の膜体８の間に狭持されるよ
うに凹凸を有する基板１とフィルム状樹脂２を載置し，下部プレート６を持ち上げ
て上部プレート５と密封係合状態にして，真空状態にした後，上部より大気を入れ
て積層する真空積層装置３を用いることが高真空性，高追従性の点で好ましい。」
（段落【０００７】），「【発明の実施の形態】以下に，本発明を図１，図２，図
３及び図４を参考にして詳細に述べる。但し，これに限定されるわけではない。図
１，図２は本発明の積層方法に用いる装置の主要部の構造図であり」（段落【００
０８】），「本発明で好ましく用いられる真空積層装置では，下部プ
レート６の膜体８上に凸凹を有する基板１及びフィルム状樹脂２を載置し，下部プ
レート６を持ち上げて上部プレート５と密封係合し，上下の真空引き吸引口１０よ
り吸引し，２ｈＰａ以下，好ましくは１ｈＰａ以下の状態まで真空にした後，上部
より大気を中に入れて真空状態を解放し，下部プレート６を上部プレート５から離
して下方に移動させ，該基板１とフィルム状樹脂２の積層が完了するのである。」
（段落【００１０】），「【発明の効果】本発明の積層方法は，凹凸を有する基板
１とフィルム状樹脂２を積層するに際して，真空積層後，真空状態を解放した状態
で，ラミネーターロール４又は平面プレス装置４′により加熱加圧処理を施すた
め，フィルム状樹脂の追従性がよく，更に積層板の表面平滑性に優れるので，多層
回路基板を製造するためのビルドアップ工法に非常に有用な積層方法である。」
（段落【００２６】）との記載がある。また，図１及び図２を用いて説明した実施
例１（段落【００２０】，【００２１】），図３及び図４を用いて説明した実施例
２（段落【００２２】，【００２３】）の記載がある。
　これらの記載を総合すれば，①訂正前明細書（甲２）には，相対向して
近接遠退可能な上部プレート５と下部プレート６を有し，膨らませて被成形材を加
圧する膜体を備え，上記両プレートを近接させて被成形材を密封空間に収容して真
空引きした後に上記膜体を膨らませて加圧することにより積層する真空積層装置３
の記載があること，②訂正前明細書（甲２）の図１及び図２を用いて説明した実施
例１，図３及び図４を用いて説明した実施例２には，下部プレート６を持ち上げて
上部プレート５とを膜体７，８を介して密封係合状態にし，かつ，上部より大気を
入れて膜体７を膨らませる構造の真空積層装置３等が示されていること，③　訂正
前明細書（甲２）には，上記②の構造以外の真空積層装置３の明示の記載はないも
のの，真空積層装置３を含む訂正前発明１の実施形態を図１ないし４に記載された
実施例１及び２に限定していないこと，④前述した特開平５－２００８８０号公報
に記載の真空積層装置を用いて，凹凸を有する基板とフィルム状樹脂を積層する場
合において，基板にフィルム状樹脂を追従させるようにすると，基板の凹凸が反映
し，積層樹脂表面に凹凸が生じ，次工程の回路形成時に密着不良や
追従性不良，外観不良等の問題が生じるという課題を解決するため，訂正前発明１
は，真空積層装置を用いて積層した後に，ラミネーターロール４又は平面プレス装
置４′により加熱加圧処理を施すことにより，フィルム状樹脂の追従性がよく，積
層板の表面平滑性が優れるという効果を奏しようとするものであり，この加熱加圧
処理を施すのに支障のないものであれば，訂正前発明１において使用する真空積層
装置の構造等を制限する必要性はないことが認められる。
ウ(ア)　加えて，特開平１０－２８６８３９号公開特許公報（平成１０年１
０月２７日出願公開，甲１８）には，「【従来の技術】真空積層装置により各種被
成形材料を積層する場合において……特に凹凸部分を有する回路基板の表面に，フ
ィルム状フォトレジスト形成層を積層する場合に，被成形材間にボイドの発生をさ
せないための真空積層方法として，一方に固定膜あるいは固定板，他方に可動膜が
配置された密閉チャンバ内に，貼り合せようとする部材，すなわち，回路基板の表
面にフィルムを隣接して位置させ，基板の凹凸部分とフィルムのフォトレジスト形
成層の間及びチャンバ内の絶対気圧を１気圧以下に減圧させて前記部材を加熱し，
回路基板の凹凸部分とフィルムのフォトレジスト形成層の間の減圧を保ったまま前
記可動膜を対向側にむけて１気圧以上の圧力を加えて，前記可動膜を介して前記部
材を前記固定膜または固定板に押しつけることにより，前記部材を貼り合せ，その
後，密閉チャンバ内の減圧を解除することにより，基板の凹凸部分とフィルムのフ
ォトレジスト形成層との間の接触を空気圧的に達成するものが知られている。な
お，前記可動膜を対向面両側に設けることもある。」（段落【０００２
】），「この真空積層方法において用いられる真空積層装置は，例えば図５に示す
ような構成により実施されている。図５において，相対向して近接・遠退可能に配
設された上板１及び下板２と，この上板１及び下板２の対向面に……それぞれ設け
られた，弾性を有する膜体３，４と，下板２の膜体４上に載置され，上板１及び下
板２を近接させることにより膜体３，４により挟持され，連続した被成形品が収容
される密閉チャンバを形成するシール材５と，形成された密閉チャンバ内を真空引
きする吸引用のパイプ６と，膜体４を下板２の対向面に固定あるいは，上板１の膜
体３側に膨らませる吸引・加圧用のパイプ７を設けている。」（段落【０００
３】）との記載があり，上記記載によれば，上板１と下板２（それぞれ，訂正前明
細書（甲２）にいう「上部プレート５」と「下部プレート６」に相当）を近接させ
ることにより被成形材が収容されて真空引きされる密閉チャンバが形成され，下板
の膜体４（訂正前明細書（甲２）にいう下部プレート６の「膜体８」に相当）を上
板の膜体３（訂正前明細書（甲２）にいう上部プレート５の「膜体７」に相当）側
に膨らませることにより被成形材が加圧されるようにした構造の真空積層
装置が記載されているほか，上板の膜体３を下板の膜体４側に膨らませるようにし
た構造の真空積層装置や，上板の膜体３と下板の膜体４の両方を膨らませるように
した構造の真空積層装置も，同様に使用できるものとして示唆されているものと認
められる。
(イ)　次に特開平８－３３２６４６号公開特許公報（平成８年１２月１７
日出願公開，甲１９）には，請求項１として「相対向して近接遠退可能に設けら
れ，互いに対向する面を加熱する加熱手段が設けられた上板および下板と，上板の
対向面に固定された弾性を有する膜体と，下板の対向面に載置された弾性と可撓性
と伸縮性を有する膜体と，該下板の膜体上に載置され，上板と下板の膜体に挟持さ
れることによって連続した被成形材が収容されるチャンバを形成する所定の大きさ
を有する枠体と，前記チャンバ内に接続されてチャンバ内を真空引きする吸引手段
と，下板の上板に対する対向面と該対向面に載置された膜体との間に接続され，前
記吸引手段によってチャンバ内を真空引きする際に，吸引して下板の膜体を対向面
上に保持すると共に，前記被成形材を上板の膜体との間で加圧すべく下板の膜体を
膨らませる吸引・加圧手段とを備えたことを特徴とする真空積層装置。」の記載が
あり，上記記載によれば，真空積層装置として，上板と下板（それぞれ，訂正前明
細書（甲２）にいう「上部プレート５」と「下部プレート６」に相当）が相対向し
て近接遠退可能に設けられ，この上板の対向面に弾性を有する膜体（訂
正前明細書（甲２）にいう上部プレート５の「膜体７」に相当）が固定され，この
下板の対向面に弾性と可撓性と伸縮性を有する膜体（訂正前明細書（甲２）にいう
下部プレート６の「膜体８」に相当）が載置され，上板と下板を近接させることに
より被成形材が収容されて真空引きされる密閉チャンバが形成され，下板の膜体４
を膨らませることにより被成形材が加圧されるようにした構造の真空積層装置が記
載されていることが認められる。
(ウ)　更に特開平１０－９５０８９号公開特許公報（平成１０年４月１４
日出願公開，甲２２）には，請求項１として「下方に向かって膨張自在なダイアフ
ラムを備える上チャンバと，ヒータ盤を備える下チャンバとを開閉自在に構成した
ラミネート部を備えるラミネート装置において，前記ラミネート部に搬入する前
に，被ラミネート体を予熱する予熱ヒータを設けたことを特徴とするラミネート装
置。」との記載が，「従来，かような太陽電池パネルなどを製造するためのラミネ
ート装置として，ダイアフラムによって仕切られた上チャンバと下チャンバからな
るチャンバ部を備えた，いわゆる二重真空方式のラミネート装置が公知になってい
る。そして，かかる二重真空方式のラミネート装置に関し，本出願人は実用新案登
録第３０１７２３１号の「ラミネート装置」を開示している。このラミネート装置
は，下方に向かって膨張自在なダイアフラムを備えた上チャンバと，ヒータ盤を備
えた上チャンバ（判決注・「下チャンバ」の誤記）によって構成されている。そし
て，下チャンバに設けられたヒータ盤に被ラミネート体を載置した状態で上チャン
バと下チャンバを減圧し，被ラミネート体を加熱して，上チャンバに大
気を導入することにより被ラミネート体をヒータ盤の上面とダイアフラムとの間で
挟圧してラミネートする構成になっている。」（段落【０００３】），「ラミネー
ト部２は，上ケース１０の内部下方に設けられた上チャンバ１１と，下ケース１２
の内部上方に設けられた下チャンバ１３によって構成されている。……この下ケー
ス１２の高さは変わらないように支持されている。一方，……上ケース１０は，下
ケース１２と平行な姿勢を保ちながら下ケース１２の上方において昇降移動できる
構成になっている。」（段落【００１４】）との記載があり，上記各記載によれ
ば，二重真空方式のラミネート装置（訂正前明細書（甲２）にいう「真空積層装
置」に相当）の従来技術として，昇降移動できる上ケース１０（訂正前明細書にい
う「上部プレート５」に相当）と高さが変わらないように支持された下ケース１２
（訂正前明細書にいう「下部プレート６」に相当）を有し，この上ケース１０の内
部下方には下方に向かって膨張可能なダイアフラム（訂正前明細書にいう上部プレ
ート５の「膜体７」に相当）を備える上チャンバが，この下ケースの内部上方には
ヒータ盤を備えた下チャンバがそれぞれ設けられ，上チャンバと下チャン
バとが開閉自在に構成され，下チャンバのヒータ盤に載置された被ラミネート体
は，上チャンバ及び下チャンバが減圧されて，加熱され，上チャンバのダイアフラ
ムを膨らませることにより加圧されるようにした構造のラミネート装置が記載され
ていることが認められる。
(エ)　以上の(ア)ないし(ウ)の事実を総合すれば，本件特許の出願当時
（平成１０年１１月６日），訂正前明細書記載の真空積層装置３のように相対向し
て近接遠退可能な上部プレート５と下部プレート６を有し，膨らませて被成形材を
加圧する膜体を備え，上記両プレートを近接させて被成形材を密封空間に収容して
真空引きした後に上記膜体を膨らませて加圧することにより積層する構造の真空積
層装置は，周知のものであり，上部プレート５若しくは下部プレートの一方又は両
方を昇降移動させることのいずれとするか，及び膨らませて被成形材を加圧する膜
体を上部プレート５の膜体７若しくは下部プレート６の膜体８又はその両方のいず
れとするかについては，上記真空積層装置の配置等を勘案して当業者が適宜選択し
うる設計事項であって，技術常識であったことが認められる。
エ　以上に説示したところによれば，訂正前明細書には下部プレート６を持
ち上げて上部プレート５とを膜体７，８を介して密封係合状態にし，かつ，上部よ
り大気を入れて膜体７を膨らませる構造以外の真空積層装置３については明示の記
載はないものの，訂正前明細書の前記イの各記載に接した当業者（その発明の属す
る技術の分野における通常の知識を有する者）は，本件特許出願時の前記ウ(エ)の
技術常識に照らし，訂正前明細書の真空積層装置３について「上部プレート５若し
くは下部プレート６の一方又は両方のプレートを相対的に近接移動させてその対向
面に膜体を介して密封係合状態にする」構造及び「上部若しくは下部の一方又は両
方より大気を入れて膜体を膨らませる」構造であることが記載されているのと同然
であると理解するものと認められる。
　したがって，訂正発明１の真空積層装置は訂正前明細書に記載がないか
ら本件訂正は訂正前明細書に記載された事項の範囲内においてしたものではないと
した本件審決の判断は，誤りであるというべきである。
オ　これに対し被告は，本件訂正前の旧請求項２に記載された「真空積層装
置」は，「下部プレート６を持ち上げて上部プレート５と密封係合状態にして，真
空状態にした後，上部より大気を入れて積層する」という事項を必須の発明特定事
項としているのであるのに対し，本件訂正後の新請求項１は，上記事項を備えない
真空積層装置を対象としているものであるが，このような真空積層装置は，訂正前
明細書に開示ないしは示唆されていたとはいえないから，訂正前発明１を訂正発明
１に訂正する本件訂正は，訂正前発明に記載された事項の範囲内にしたものとはい
えないと主張するが，前記エの説示に照らし，被告の上記主張は採用することがで
きない。
(2)　訂正前発明３に係る訂正について
ア　本件審決は，訂正前明細書（甲２）には，真空積層装置３における下部
プレート６と上部プレート５とが密封係合することにより両プレート間に形成され
た空間部分は２ｈＰａ以下であることが記載されていたと認められるが，訂正発明
３は，上記空間部分以外の空間部分が２ｈＰａ以下であるものも包含する概念であ
る「真空積層装置３内の真空度が２ｈＰａ以下であること」を特定事項の一つとす
るもので，該真空積層装置は訂正前明細書に記載がないから，本件訂正は，訂正前
明細書に記載された事項の範囲内においてしたものではない（５頁１５行～６頁１
０行），と判断した。
　そこで検討するに，訂正前発明３に係る本件訂正は，本件訂正前の旧請
求項３「真空積層装置３による真空度が２ｈＰａ以下であることを特徴とする請求
項１又は２記載の積層方法。」を「真空積層装置３内の真空度が２ｈＰａ以下であ
ることを特徴とする請求項１又は２記載の積層方法。」に訂正するものであるとこ
ろ，訂正前明細書（甲２）には，発明の実施の形態として「９は上部プレート５と
下部プレート６とを密封係合するためのシールであり，１０は上部プレート５と下
部プレート６を密封係合した後に，該密封内を真空状態にするための真空引き吸引
口である」（段落【０００８】）と記載されており，この記載において真空（真空
状態）にする対象は「該密封内」であり，この「密封内」とは，上部プレート５，
下部プレート６及びシール９とで密封にされた「空間」（上部プレート５と膜体７
との間の空間も含む。）であることが認められるから，旧請求項３の「真空積層装
置３による真空度が２ｈＰａ以下であること」とは真空積層装置３において真空が
適用される上記空間の真空度が２ｈＰａ以下であることを意味するものと認められ
る。
　そして，本件訂正後の新請求項３の「真空積層装置内の真空度が２ｈＰ
ａ以下であること」も，同様に，真空積層装置３において真空が適用される上記空
間の真空度が２ｈＰａ以下であることを意味するものと認められる。
　したがって，訂正発明３の真空積層装置は訂正前明細書に記載がないか
ら，本件訂正は訂正前明細書に記載された事項の範囲内においてしたものではない
とした本件審決の判断は誤りであるというべきである。
イ　次に，本件審決は，訂正前発明３は「真空積層装置によって真空にされ
る対象物につき，その真空度を２ｈＰａ以下にする」と特定された発明であるのに
対し，訂正発明３は「真空積層装置３内の真空度が２ｈＰａ以下である」と特定さ
れた発明であって，真空積層装置において，真空にされる対象物につき，その真空
度を特定するものではないから，訂正発明３は，訂正前発明１ないし８のいずれに
も由来するものではなく，本件訂正は新たな請求項を特許請求の範囲に追加するも
のである（６頁１１行～２５行），と判断した。
　しかし，先に説示したとおり，本件訂正前の旧請求項３の「真空積層装
置３による真空度が２ｈＰａ以下であること」及び本件訂正後の新請求項３の「真
空積層装置内の真空度が２ｈＰａ以下であること」は，いずれも真空積層装置３に
おいて真空が適用される空間の真空度が２ｈＰａ以下であることを意味するもので
あり，本件訂正後の新請求項３は，この真空が適用される空間が，真空積層装置内
にあることを，より明確に表現したものと認められることに照らすと，訂正発明３
は真空積層装置３内の真空度が特定された発明であることは明らかであるから，本
件審決の前記判断は，誤りである。
(3)　訂正前発明５，６に係る訂正について
　本件審決は，本件訂正前の旧請求項５及び６の記載において，「フィルム
１３，１４の設けられる位置が，上部プレート５の膜体７とフィルム状樹脂２との
間又は下部プレート６の膜体８と基板１との間であることは明りょうであって，そ
うである以上，本件訂正が，訂正後の請求項４が訂正前の請求項５に由来し，ま
た，同様に，請求項５が請求項６に由来していると検討しても，本件訂正が明りょ
うでない記載の釈明を目的としていないのは明らかである。」（６頁２６行～７頁
１１行），と判断した。
　そこで検討するに，訂正前発明５に係る本件訂正は，本件訂正前の旧請求
項５「上部プレート５の膜体７とフィルム状樹脂２及び下部プレート６の膜体８と
基板１の間にそれぞれ設けたフィルム１３，１４が連続走行可能なフィルムである
ことを特徴とする請求項４記載の積層方法。」を，新請求項４として「上部プレー
ト５の膜体７とフィルム状樹脂２との間及び下部プレート６の膜体８と基板１との
間にそれぞれ設けたフィルム１３，１４が連続走行可能なフィルムであることを特
徴とする請求項２又は３記載の積層方法。」に，訂正前発明６に係る本件訂正は，
本件訂正前の旧請求項６「上部プレート５の膜体７とフィルム状樹脂２及び下部プ
レート６の膜体８と基板１の間にそれぞれ設けたフィルム１３，１４がポリエチレ
ンテレフタレートフィルム，ポリエチレンフィルム，ポリプロピレンフィルム，ナ
イロンフィルム，ポリイミドフィルム，ポリスチレンフィルム，フッ素化オレフィ
ンフィルムのいずれかであることを特徴とする請求項４又は５記載の積層方法。」
を，新請求項５として「上部プレート５の膜体７とフィルム状樹脂２との間及び下
部プレート６の膜体８と基板１との間にそれぞれ設けたフィルム１３
，１４がポリエチレンテレフタレートフィルム，ポリエチレンフィルム，ポリプロ
ピレンフィルム，ナイロンフィルム，ポリイミドフィルム，ポリスチレンフィル
ム，フッ素化オレフィンフィルムのいずれかであることを特徴とする請求項２～４
いずれか記載の積層方法。」に訂正するものである。
　そして，本件訂正前の旧請求項５及び６の記載に照らすと，フィルム１
３，１４を設ける位置について，原告が主張するように「上部プレート５の膜体７
とフィルム状樹脂２の間に，それぞれフィルム１３，１４を設け，下部プレート６
の膜体８と基板１の間にそれぞれフィルム１３，１４を設けた」という構成と，
「上部プレート５の膜体７とフィルム状樹脂２との間にフィルム１３を設け，下部
プレート６の膜体８と基板１との間にフィルム１４を設けた」という二つの構成が
記載されているかのような解釈がなされる余地があるものと認められ，本件訂正は
後者であることを明りょうにする目的でなされたものとして，明りょうでない記載
の釈明を目的とするものであることは明らかである。
　したがって，本件審決の上記判断は誤りである。
(4)　以上によれば，本件審決が，本件訂正を認めなかった判断は誤りというべ
きであり，この瑕疵は本件発明の要旨の認定に影響を及ぼすことは明らかである。
３　結論
　以上によれば，その余（取消事由２，３）について判断するまでもなく，本
件審決は違法として取消しを免れない。
　よって，原告の本訴請求は理由があるから認容することとし，主文のとおり
判決する。
知的財産高等裁判所第２部
裁判長裁判官　　　　中野哲弘
裁判官　　　　大鷹一郎
裁判官　　　　長谷川　浩　二

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