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平成２１年３月２６日判決言渡
平成２０年(行ケ)第１０２５３号審決取消請求事件
口頭弁論終結日平成２１年３月１９日
判決
原告サイマー，インコーポレーテッド
訴訟代理人弁護士松尾和子
訴訟代理人弁理士大塚文昭
同須田洋之
同谷口信行
訴訟代理人弁護士奥村直樹
同水沼淳
被告特許庁長官
指定代理人岩本勉
同服部秀男
同岩崎伸二
同酒井福造
主文
１原告の請求を棄却する。
２訴訟費用は原告の負担とする。
３この判決に対する上告及び上告受理申立てのための付加期間を３０
日と定める。
事実及び理由
第１請求
特許庁が不服２００６−６１８２号事件について平成２０年２月２５日にし
た審決を取り消す。
第２事案の概要
１本件は，原告が，名称を「超狭帯域２室式高反復率のガス放電型レーザシス
テム」とする発明につき特許出願をしたところ，拒絶査定を受けたので，これ
を不服として審判請求をしたが，特許庁から請求不成立の審決を受けたことか
ら，その取消しを求めた事案である。
２争点は，上記本願が，下記引用発明との関係で進歩性を有するか（特許法２
９条２項，である。）
記
特開２０００−５８９４４号公報（発明の名称「高信頼性・モジュラ製
造高品質狭帯域高繰り返しレ―トＦ２レ―ザ，出願人サイマーインコー」
ポレイテッド，公開日平成１２年２月２５日。以下，この刊行物を「引用
刊行物」といい，そこに記載された発明を「引用発明」という，甲３）
第３当事者の主張
１請求原因
()特許庁における手続の経緯1
，〔〕〔〕原告は２０００年平成１２年１０月６日・２００１年平成１３年
１月２３日・同年１月２９日・同年２月２７日・同年４月１３日・同年５月
３日・同年５月１１日・同年８月２９日の優先権（いずれも米国）を主張し
て，平成１３年１０月９日，名称を「超狭帯域２室式高反復率のガス放電型
レーザシステム」とする発明について特許出願（特願２００１−３１１９８
２号，請求項の数５１，以下「本願」という。公開公報〔特開２００２−１
９８６０４号〕は甲１）をし，平成１７年１月１２日付けで特許請求の範囲
の記載を変更することを内容とする手続補正（以下「本件補正」という。請
求項の数５０。甲２）をしたが，拒絶査定を受けたので，不服の審判請求を
した。
特許庁は，同請求を不服２００６−６１８２号事件として審理した上，平
成２０年２月２５日「本件審判の請求は，成り立たない」との審決（出訴，。
期間として９０日を附加）をし，その謄本は平成２０年３月１０日原告に送
達された。
()発明の内容2
本件補正後の請求項は，前記のとおり１ないし５０から成るが，そのうち
請求項１に係る発明（以下「本願発明」という）の内容は，以下のとおり。
である（下線は判決で付記，理由は後述。。）
「超狭帯域２室式高反復率のガス放電型レーザシステムであって，
Ａ）１）ａ）第１のレーザガスと，
ｂ）第１の放電領域を形成する，各々細長形状で間隔を空け
て設けられた第１の電極対とを備える第１の放電室，
２）毎秒４０００パルス又はそれ以上の範囲の反復率で動作する
時に，各パルスの直後に，放電によって生成されたイオンの実
質的に全てを，次のパルスに先立ち前記第１の放電領域から除
去し得る前記第１の放電領域における前記第１のレーザガスの
ガス速度を作り出す第１のファン，
３）前記第１のレーザガスから，少なくとも１６ｋｗの熱エネル
ギーを除去することができる第１の熱交換装置，
４）前記第１の放電室で生成された光パルスのスペクトル帯域幅
を狭小化するための線幅狭小化ユニットを備える第１のレーザ
ユニットと，
Ｂ）１）ａ）第２のレーザガスと，
ｂ）第２の放電領域を形成する，各々細長形状で間隔を空け
て設けられた第２の電極対とを備える第２の放電室，
２）毎秒４０００パルス又はそれ以上の範囲の反復率で動作する
時に，各パルスの直後に，放電によって生成されたイオンの実
質的に全てを，次のパルスに先立ち前記第２の放電領域から除
去し得る前記第２の放電領域における前記第２のレーザガスの
ガス速度を作り出す第２のファン，及び
３）前記第２のレーザガスから，少なくとも１６ｋｗの熱エネル
ギーを除去することができる第２の熱交換装置とを備える第２
のレーザユニットと，
Ｃ）約４，０００パルスの反復率で約５ｍＪの範囲内に正確に制御さ
れたパルスエネルギーを持つレーザパルスを生成し得る電気パルス
を，前記第１の電極対と前記第２の電極対に供給するようにしたパ
ルス電力装置と，
Ｄ）前記２室式のレーザシステムによって生成されたレーザ出力パル
スのパルスエネルギー，波長，及び帯域幅を測定するとともに，フ
ィードバック制御方式で前記レーザ出力パルスを制御するための
レーザビーム測定・制御装置とを備え，
前記第１のレーザユニットは，主発振器として構成されるととも
に，前記第２のレーザユニットは，電力増幅器として構成されるこ
とを特徴とするレーザシステム」。
()審決の内容3
ア審決の内容は，別添審決写しのとおりである。
その理由の要点は，本願発明は前記引用発明及び周知技術に基づき容易
に発明をすることができたから，特許法２９条２項により特許を受けるこ
とができない，としたものである。
イなお審決は，上記判断をするに当たり，本願発明の下線部分（電力増「
幅器）を「パワー増幅器」と認定するとともに引用発明の内容を以下の」
とおり認定し，本願発明と引用発明との一致点及び相違点を次のとおりと
した。
［引用発明の内容］
「非常に狭帯域の２室式の高繰り返し数エキシマレーザであって，
第１のレーザガスと，第１の放電領域を形成する，２つの細長い電
極を間隔を空けて設けた第１の電極対とを備える第１のレーザチャン
バと，
１０００乃至４０００Ｈｚの範囲の繰り返し数でレーザパルスを生
成する時に，前記第１の電極対の電極間に第１のレーザガスのガスフ
ローを形成し，第１のレーザチャンバ内で第１のレーザガスを循環さ
せる第１のブロワと，
第１のレーザガスから不要な熱を除去する，第１のレーザチャンバ
に配置された第１の熱交換器と，第１のレーザチャンバの外側に取り
付けられた第１の冷却プレートと，
第１のレーザチャンバで生成されたレーザパルスのバンド幅を狭帯
域化する線狭帯域化モジュールと，
を備えるマスター発振器と，
第２のレーザガスと，第２の放電領域を形成する，２つの細長い電
極を間隔を空けて設けた第２の電極対とを備える第１のレーザチャン
バと，
１０００乃至４０００Ｈｚの範囲の繰り返し数でレーザパルスを生
成する時に，前記第２の電極対の電極間に第２のレーザガスのガスフ
ローを形成し，第２のレーザチャンバ内で第２のレーザガスを循環さ
せる第２のブロワと，
第２のレーザガスから不要な熱を除去する，第２のレーザチャンバ
に配置された第２の熱交換器と，第２のレーザチャンバの外側に取り
付けられた第２の冷却プレートと，
を備えるパワー発振器と，
電源と，パルス圧縮及び増幅回路と，１０００乃至４０００Ｈｚの
範囲の繰り返し数で作動し，１０乃至５ｍＪの範囲におけるパルスエ
ネルギを持つレーザパルスを生成し得る高電圧電気パルスを作り出す
パルスパワー制御とを含み，前記高電圧電気パルスを前記第１の電極
対及び前記第２の電極対に供給するパルスパワーシステムと，
２室式のレーザによって生成されたレーザパルスを測定するウェー
ブメータと，前記パルスパワーシステムによって供給される電圧を制
御するために，前記レーザパルスのエネルギを測定し，次のパルスの
エネルギが所望のエネルギに近くなるように電源電圧を調節するフ
ィードバック制御システムとを備え，
１０００Ｈｚの繰り返し数でレーザパルスを生成する時，第１のブ
ロワ及び第２のブロワは，次のパルスに関して丁度良く電極間で新鮮
なレーザガスを提供するのに十分であるガスフローを形成する，
レーザ」。
［一致点］
両者は，
「超狭帯域２室式高反復率のガス放電型レーザシステムであって，
Ａ）１）ａ）第１のレーザガスと，
ｂ）第１の放電領域を形成する，各々細長形状で間隔を空
けて設けられた第１の電極対とを備える第１の放電室，
２）毎秒４０００パルス又はそれ以上の範囲の反復率で動作す
る時に，各パルスの直後に，放電によって生成されたイオン
を，前記第１の放電領域から除去し得る前記第１の放電領域
における前記第１のレーザガスのガス速度を作り出す第１の
ファン，
３）前記第１のレーザガスから，熱エネルギーを除去すること
ができる第１の熱交換装置，
４）前記第１の放電室で生成された光パルスのスペクトル帯域
幅を狭小化するための線幅狭小化ユニットを備える第１の
レーザユニットと，
Ｂ）１）ａ）第２のレーザガスと，
ｂ）第２の放電領域を形成する，各々細長形状で間隔を空
けて設けられた第２の電極対とを備える第２の放電室，
２）毎秒４０００パルス又はそれ以上の範囲の反復率で動作す
る時に，各パルスの直後に，放電によって生成されたイオン
を，前記第２の放電領域から除去し得る前記第２の放電領域
における前記第２のレーザガスのガス速度を作り出す第２の
ファン，及び
３）前記第２のレーザガスから，熱エネルギーを除去すること
ができる第２の熱交換装置とを備える第２のレーザユニット
と，
Ｃ）約４，０００パルスの反復率で約５ｍＪの範囲内に正確に制御
されたパルスエネルギーを持つレーザパルスを生成し得る電気パ
ルスを，前記第１の電極対と前記第２の電極対に供給するように
したパルス電力装置と，
Ｄ）前記２室式のレーザシステムによって生成されたレーザ出力パ
ルスのパルスエネルギーを測定するとともに，フィードバック制
御方式で前記レーザ出力パルスを制御するためのレーザビーム測
定・制御装置とを備え，
前記第１のレーザユニットは，主発振器として構成されるとと
もに，前記第２のレーザユニットは，パワー増幅器として構成さ
れることを特徴とするレーザシステム」である点。。
［相違点１］
本願発明では「第１（第２）のレーザガスのガス速度」が，毎秒，
４０００パルス又はそれ以上の範囲の反復率で動作する時に，放電に
よって生成されたイオンの「実質的に全てを，次のパルスに先立ち」
第１第２の放電領域から除去し得るのに対し引用発明では１（），，「
０００Ｈｚの繰り返し数でレーザパルスを生成する時，第１のブロワ
及び第２のブロワは，次のパルスに関して丁度良く電極間で新鮮な
レーザガスを提供するのに十分であるガスフローを形成する」から，
少なくとも１０００Ｈｚの繰り返し数でレーザパルスを生成する時に
は「第１（第２）のブロワ」が，放電によって生成されたイオンの，
「実質的に全てを，次のパルスに先立ち」第１（第２）の放電領域か
ら除去し得るガス速度を作り出すものといえるが，４０００Ｈｚの繰
り返し数でレーザパルスを生成する時のガス速度については明らかで
ない点。
［相違点２］
本願発明では「第１（第２）の熱交換装置」が，第１（第２）の，
レーザガスから「少なくとも１６ｋｗ」の熱エネルギーを除去する，
のに対し引用発明では第１第２の熱交換器及び第１第，，「（）」「（
２）の冷却プレート」が除去する熱エネルギー量については明らかで
ない点。
［相違点３］
本願発明では「レーザビーム測定・制御装置」がレーザ出力パル，
スの「波長，及び帯域幅」を測定するのに対し，引用発明では「フ，
ィードバック制御システム」がレーザパルスの波長及びバンド幅を測
定することについては明らかでない点。
()審決の取消事由4
審決が，本願発明の認定に当たり，請求項１の記載である「電力増幅器」
をパワー増幅器と読み替えたことは争わない以下電力増幅器をパ「」（「」「
ワー増幅器」という場合がある。）
しかしながら，審決は，以下のとおり本願発明と引用発明との相違点を看
過し，その結果進歩性についての判断を誤ったものであるから，違法として
取消しを免れない。
ア審決が看過した相違点は，以下の２点である。
①本願発明の第２のレーザユニットは「増幅器」として構成されてい
るのに対し，引用発明の第２のレーザユニットは「発振器」で構成さ
れている点。
②本願発明は，４０００Ｈｚ以上という極めて高い繰り返し周波数を
，，対象としたシステムでありかかる繰り返し周波数を実現するために
従来には存在し得なかった非常に高いガス流速を設定して，放電領域
内から実質的に全ての残存ガスを除去するものである点。
イ上記①の相違点に関し
(ア)「発振器」と「増幅器」とは機能上区別されること
「増幅器」は，正帰還部（正帰還とは，増幅部からの出力波の一部を
増幅部の入力端に戻すこと）を具備せず発振のための発振条件を満た
すことができないものであり「発振器」とは明確に区別されなければ，
ならない。
「発振器」とは，<ア>外部入力信号なしに，<イ>特定の周波数の波形
を，<ウ>持続的に発生するものをいう（甲２０〔物理学辞典・平成「」
８年１０月１５日改訂第３版発行・株式会社培風館・１６２１頁，甲〕
２１〔理化学辞典・平成１５年１１月１０日第５版第７刷発行・株「」
式会社岩波書店・１０５２頁。ここで，上記<ア><イ><ウ>の状態を〕）
発振と呼ぶ発振器は発振状態になれば<ア>のように外「」。「」「」，「
部入力信号」がなくても「発振」が持続することに特徴がある「発振。
器」は，入力される波を増幅する増幅部と，増幅部からの出力波の一
部を増幅部の入力端に戻す正帰還（ポジティブ・フィードバック）部
から構成される。この発振器の構成において「発振」状態が生成され
るためには，
・出力の一部が正帰還部を通して増幅部の入力端に戻される過程に
，，おいて正帰還部から増幅部の入力端へ戻ってきた帰還波の振幅が
初めの入力波又は１ループ前の帰還波の振幅より大きいか，または
等しいこと（利得条件。。）
・帰還波と初めの入力波又は１ループ前の帰還波の位相が同じ（正
帰還）であること（位相条件。）
という発振条件を満たす必要がある。
この点を詳述すると，まず，出力波が時間と共に減衰しないために
は，正帰還部から増幅部の入力端へ戻ってきた帰還波の振幅が，初め
の入力波又は１ループ前の帰還波の振幅より大きいか，または等しく
なければならない。すなわち増幅部で得られる利得が「発振器」から
失われる損失（発振器外に漏れ出る損失だけでなく，正帰還部を通し
，）て帰還されず発振器の外部出力として取り出される出力部分も含む
を上回らなければならないため，利得条件が必要とされる。また，帰
還波と初めの入力波又は１ループ前の帰還波の山と山，谷と谷が一致
して互いに強め合うために，帰還波と初めの入力波又は１ループ前の
帰還波の位相が同じでなければならず，位相条件が必要とされる。一
旦，発振状態に到達すると，その後は，帰還波が振幅を大きくさせな
がら「発振器」内部を自律的に循環（ループ）するか，又は同じ振幅
の帰還波が「発振器」内部を自律的に循環し続け，外部からの入力が
なくても発振状態が持続する。
このように，増幅部による利得を得るだけでは，発振条件を満たさ
ず「発振器」としては作用しない。増幅部による利得を得ることに加，
えて，出力波の一部を「発振器」内に閉じ込めて「発振器」内部を循
，，環させるための正帰還部を付加し上記の発振条件を満たすようして
はじめて「発振器」となる。つまり，正帰還部のない単なる増幅部だ
けでは上記の発振条件を満たさないために発振することができず発，「
振器」たり得えないものである。これに対し「増幅器」においては，，
正帰還部が具備されておらず，発振のための発振条件を満たすことが
できないのであるから「増幅器」は「発振器」とは明確に区別される，
ものである。
これをレーザについてみると，発振条件は，上記利得条件と位相条
件とからなるところ，このうち利得条件は，光が共振器内を１往復し
た後の光の波の振幅が，元の光の波の振幅より大きいか，または等し
いこと，すなわち，光が，増幅器部たるレーザ媒質内を１往復したと
きのレーザ発振器内の利得が損失レーザ発振器外へ出力されるレー，（
ザ光を含む）以上であることを意味する。また位相条件は，共振器長
が光の半波長の整数倍であること，すなわち，共振器内を１往復して
元の位置に戻ってきた光の位相が元の光の位相と同じであることを意
味する。
このように，増幅部における利得を得るだけでは，発振条件を満た
さず「レーザ発振器」としては作用しない。増幅部に加えて，増幅光，
「」，の一部をレーザ発振器内に閉じ込めて循環させるための正帰還部
すなわち「共振器（一対の平行な鏡」を付加することにより，発振条）
件を満たすようにして，はじめて「レーザ発振器」となる。これに対
し「増幅器」は，正帰還部すなわち「共振器（一対の平行な鏡」を，）
備えておらず，上記の発振条件を満たすことができないから「レーザ，
発振器」たり得ないのである。
(イ)本願発明の「パワー『増幅器」は「発振器」を含まないこと』
平成１７年１月１２日付け本件補正後の明細書（甲１，２。以下「本
願明細書」という）の発明の詳細な説明の記載からも，本願発明におけ
る「パワー増幅器」は「発振器」を含まないことが明らかである。
その前提として，本願明細書には，発明が解決しようとする課題の一
つとして「…このようなシステムの１つでは，種ビームを生成する『主
発振器』と呼ばれるレーザは，第１の利得媒体において非常に狭い帯域
幅即ち超狭帯域幅のビームを作り出すように設計され，このビームが第
２の利得媒体において種ビームとして使用される。第２利得媒体が電力
増幅器として機能する場合，このシステムを，主発振器電力増幅器（Ｍ
ＯＰＡ）システムという。第２利得媒体自体が共振空洞を有する場合，
このシステムを，種注入発振器（ＩＳＯ）システム又は主発振器電力発
振器（ＭＯＰＯ）システムといい，この場合，種レーザを主発振器と呼
び，下流側のシステムを電力発振器と呼ぶ。…（甲１，段落【０００」
８）との記載がある。】
この記載から明らかなとおり，第２のレーザユニットが「増幅器」で
ある主発振器電力増幅器（ＭＯＰＡ）システムと，第２のレーザユニッ
「」（）トが共振空洞を有する発振器である主発振器電力発振器ＭＯＰＯ
システムとは，文言上のみならず技術思想の上でも明確に区別されてい
るところ，以下のとおり本願発明はＭＯＰＡシステムに該当するもので
ある。
本願明細書には，本願発明の実施例中の増幅器の説明として「電力，
増幅器は，電力増幅器放電室の放電領域を通る２つのビーム経路用に構
成される。図３Ａ及び図３Ｂは，主発振器及び電力増幅器を通るビーム
経路を示す。図３Ａに示すように，数回発振されたビームは，ＭＯ１０
の放電室１０Ａ及びＬＮＰ１０Ｃを通過し，ＬＮＰ１０Ｃを通過時に大
幅に線幅狭小化される。線幅狭小化された種ビームは，ミラー１４Ａに
よって上方に反射され，ミラー１４Ｂによって（電極の向きに対して）
僅かなスキュー角を持って水平に反射され放電室１２Ａを通過する。２
つのミラー１２Ｃ及び１２Ｄは，電力増幅器の後端部にて，図３Ｂに示
す電極の向きに一致して水平方向にＰＡ放電室１２Ａを貫通する第２経
路に対して上記線幅狭小化種ビームを反射する（段落【００１９）。」】
との記載があり，またガス圧に関して「…動作時において，ＭＯにおけ
るガス圧はＰＡのガス圧より実質的に低い。…（段落【００１８）」】
との記載がある。
以上の発明の詳細な説明の記載，及び本願明細書の図面【図３Ａ・】
【図３Ｂ】の記載から明らかなとおり【図３Ａ】の下側に記載された，
主発振器第１のレーザユニットにおいては数回発振される上（），「」（
記【００１９）ことが開示されているのに対し【図３Ａ】の上側及び】，
【図３Ｂ】に記載された電力増幅器（第２のレーザユニット）において
，（【】），は発振器よりも高いガス圧が用いられる上記００１８と共に
数回発振されることなくミラー１４Ｂによって…僅かなスキュー「」，「
角を持って水平に反射され放電室１２Ａを通過する。２つのミラー１２
Ｃ及び１２Ｄは，電力増幅器の後端部にて，図３Ｂに示す電極の向きに
一致して水平方向にＰＡ放電室１２Ａを貫通する第２経路に対して上記
線幅狭小化種ビームを反射する」こと（上記【００１９）が開示され】
ている。
すなわち，ビームはミラー１２Ｃ，１２Ｄ及び１４Ｂの間を何度も往
復することはなく，ビームは１往復だけ電力増幅器を通過するのみで
あって，ミラー１２Ｃ，１２Ｄ及び１４Ｂは発振器に必須の構成要素で
ある共振器を構成しないことが本願明細書には開示されており，これに
反する開示や示唆は一切ない。
この記載からも，本願発明は，第２レーザユニットが「増幅器」であ
る主発振器電力増幅器（ＭＯＰＡ）システムに関する発明であり，下記
(ウ)記載のとおり引用発明の第２レーザユニットが「発振器」である主
発振器電力発振器（ＭＯＰＯ）システムとは，明確に異なることが容易
に理解されるものである。
(ウ)引用発明の第２のレーザユニットは「発振器」で構成されること
引用発明の記載された明細書（甲３）には【図１１Ｂ】に１ヶ所だ，
け２つのレーザユニットによってレーザシステムを構成することが開示
されているところ【図１１Ｂ，及び段落【００８４】の記載からも明，】
らかなとおり【図１１Ｂ】においては，第１のレーザユニットと第２，
のレーザユニットが，共に「発振器」として構成されていることが明確
に開示されており，第２のレーザユニットについて「増幅器」を採用，
することは，一切開示も示唆もされていない。
以上のとおり，本願発明の第２レーザユニットは「増幅器」で構成さ
，「」れているのに対し引用発明においては第２レーザユニットが発振器
で構成されており，両者は根本的に相違するものである。
(エ)作用効果の相違
本件発明と引用発明は，上記「増幅器（本願発明）と「発振器（引」」
用発明）の機能上及び構成上の相違に基づき，作用効果の上でも，以下
の３点で異なる。すなわち，
ａ「パワー発振器」においては，ＭＯで狭帯域化されたビームのスペ
クトル幅が大きく広がってしまうのに対し「パワー増幅器」におい，
ては，ＭＯで狭帯域化されたビームのスペクトル幅の広がりは小さい
ので，本願発明は，狭帯域化されたビームのスペクトル幅を狭帯域化
されたまま維持しやすいこと。
ｂ「パワー発振器」を採用する引用発明のレーザシステムに比して，
「パワー増幅器」を採用する本願発明のレーザシステムの方が耐故障
性に優れていること。
ｃ「パワー発振器」において，レーザ光のコヒーレンス（可干渉性）
が高くなるのに対し「パワー増幅器」においては，コヒーレンスが，
それほど高くならないので，本願発明は，スペックルの影響を抑える
ことができること。
(オ)上記(エ)のａないしｃの内容を説明すると，以下のとおりである。
ａについては，レーザユニットのチャンバ内には，自然放出増幅光
（，以下「ＡＳＥ」という）が発生ASE:AmplifiedSpontaneousEmission
するが，このＡＳＥは，レーザ光と同じ中心波長をもった広域なスペク
トル幅をもつため，ＡＳＥが発生すると，ＭＯで狭帯域化されたビーム
にノイズとして加わり，出力されるビームのスペクトル幅が広がる結果
となるため，ＡＳＥの発生及び増加は，本願発明の作用効果であるビー
ムの線狭帯域化を阻害する要因となる引用発明においては第２のレー。，
「」，「」，ザユニットがＰＯすなわちパワー発振器として構成されるが
ＡＳＥが発生すると「パワー発振器」の共振器によりＡＳＥまでもが，
，。，共振しＡＳＥが非常に大きくなってしまう結果となるこれに対して
本願発明においては，第２のレーザユニットが「ＰＡ，すなわち「パ」
ワー増幅器」として構成されているので，共振器はなく，わずかな経路
分実施例では１往復分の増幅作用を有するのみであるからパワー（），「
発振器」に比して，ＡＳＥの増加の割合が極めて小さく，ＡＳＥの影響
をわずかなものとすることができる。すなわち，本願発明により，引用
発明に比して，より線狭帯域化されたビームの出力を実現することが可
能かつ容易となるという優れた作用効果を奏することができる。
ｂについては，本願発明や引用発明がその適用対象とする露光装置で
，（）は１つの露光領域に対して複数のレーザパルス例えば１００パルス
を照射して露光する。このとき，ＭＯからの種ビームの１パルスが何ら
かの理由（例えば，種ビームの不出力，ミスタイミング等）により第２
のレーザユニットに入射されなかった場合，第２レーザユニットで発生
したＡＳＥのみが１パルス分として，露光光学系に出力されることとな
る。このとき「パワー発振器」においては，その発振作用によってＡ，
ＳＥが発振するために，非常にエネルギーが大きく，スペクトル幅の広
いＡＳＥのパルスが出力されてしまい，回復不可能な影響を当該露光領
域に与えてしまう。
これに対して，本願発明においては「パワー増幅器」に発振作用は，
なく，わずかな経路分（実施例では１往復分）の増幅作用を有するのみ
，，であるからＡＳＥが当該露光領域に与える影響は軽微なのものであり
後に続くパルス連のエネルギーをわずかに大きくすれば，欠落したパル
スの影響を回復することができるという優れた作用効果を奏することが
できる。
ｃについては，引用発明の「パワー発振器」においては，入射したＭ
Ｏからの種レーザ光が共振器により共振するためにレーザ光のコヒー，，
レンス（可干渉性；光の干渉のしやすさを示す度合）が非常に高くなっ
てしまう。これに対して「パワー増幅器」においては，共振器がない，
ので，コヒーレンスはそれほど高くならない。
レーザ光は，コヒーレンスの高い光ビームであるが，コヒーレンスの
高さゆえに，同じ位相を有する光が干渉し，不要な光のむら（スペック
ル）が生じてしまうことが従来から問題となっていた（甲１８〔特開平
９−１４８６５８号公報，甲１９〔特開２０００−１２１８３６号公〕
報。例えば，エキシマレーザを光源とする露光装置においては，この〕）
スペックルがウエハー面上で点在して現れるため，部分的な露光量の大
小を発生させてしまう，という弊害が生じることとなる。
したがって「パワー発振器」に比して，レーザ光のコヒーレンスを，
低く抑えることができる「パワー増幅器」から構成される本願発明は，
スペックル等の影響を低く抑えることができるという優れた作用効果を
奏することができる。
(カ)以上のとおり，本願発明と引用発明とでは，機能及び構成の相違に
基づいて，作用効果上も大きく相違する。
したがって，引用発明の「パワー発振器」が本願発明の「パワー増幅
器」に相当するとした審決の認定（審決１１頁３４行∼１２頁２行）は
誤りであり審決は両者の相違点を看過したものであるそしてパワー，。「
増幅器」の採用とは思想的に異なる「パワー発振器」を採用する引用発
明の開示から，本願発明のような「パワー増幅器」を想到することは不
可能であり，本願発明が引用発明に対して進歩性を有することも明らか
である。
(キ)被告の主張に対する反論
被告は「パワー増幅器」とは，レーザ光のパワー（出力）を増幅す，
る機能を有する機器として一義的に明確に理解できると主張するが，本
願発明の特許請求の範囲に記載された「パワー増幅器」については，そ
の記載の技術的意義を一義的に明確に理解することができない。すなわ
ち，レーザー光のパワー（出力）を増幅すると言っても，その方法は様
々であり，単なる「パワー増幅器」との文言では，どのような方法によ
り増幅を行うのか，その技術的意義が全く明らかでない。
この点「パワー増幅器」については，本願明細書に用語定義がなさ，
れている。すなわち，本願明細書の段落【０００８】には「…第２利，
得媒体が電力増幅器として機能する場合，このシステムを，主発振器電
力増幅器（ＭＯＰＡ）システムという。第２利得媒体自体が共振空洞を
有する場合，このシステムを，種注入発振器（ＩＳＯ）システム又は主
発振器電力発振器（ＭＯＰＯ）システムといい，この場合，種レーザを
主発振器と呼び，下流側のシステムを電力発振器と呼ぶ」と記載され。
ており「電力増幅器」という文言を「共振空洞を有する場合」すなわ，，
ち「電力発振器」とは明確に区別して定義している。
以上のとおりであり，本願明細書において「電力増幅器」すなわち，
「パワー増幅器」は，共振空洞を有せず，発振作用によらずにレーザー
光のパワー（出力）を増幅する機器をいうものとして，明確な用語定義
，「」，がなされているのであるから本願明細書におけるパワー増幅器は
発振機能を有しないものとして解釈されなければならない（特許法７０
条２項。）
また，本願明細書においては，一貫して「増幅器」と「発振器」と，
。，，が異なるものとして記載されているすなわち発振作用の有無により
「増幅器」と「発振器」とを明確に区別している上記段落【０００８】
に続き，段落【００１１】では「従来型パターン転写レーザと比較し，
，，，て本実施形態において例証される本発明の主要改良点は種注入及び
特に，２つの個別放電室を有する主発振器電力増幅器（ＭＯＰＡ）構成
を利用した点にある」と記載されており，従来型のＭＯＰＯ構成，す。
なわち，主発振器電力発振器の構成における課題を解決するため，本願
発明においてはＭＯＰＡ構成，すなわち，主発振器電力増幅器の構成が
採用されたことが明確に記載されている。主発振器電力増幅器（ＭＯＰ
Ａ）の構成について説明した段落【００１８・００１９【図３Ａ】】【】，
並びに【図３Ｂ】をみても「増幅器（ＰＡ」は，共振空洞を有せず，，）
正帰還機構を伴わないものとしてしか開示されておらず，これが発振機
能を有する旨の開示や示唆は一切ない。
そもそも，本願発明の「パワー増幅器」が，発振機能を有するものま
で含むと解釈すると，上記の本願明細書の記載と矛盾が生じる。すなわ
ち，本願明細書の段落【０００８】においては「２つの個別システム，
で構成されるレーザシステム」として「主発振器電力発振器（ＭＯＰ，
Ｏ）システム」と「主発振器電力増幅器（ＭＯＰＡ）システム」の２，
つの互いに異なる構成が明確に区別して開示され，段落【００１１】に
おいて，上記２つのシステムのうち，本願発明においては「主発振器電
力増幅器（ＭＯＰＡ）システム」を採用することが明確に記載されてい
る。ここで「増幅器（ＰＡ」に，発振機能を有するものまで含まれる，）
と解釈すると「増幅器（ＰＡ」は「発振器（ＰＯ」の上位概念とい，））
うことになってしまい，本願明細書に記載された本願発明の技術思想，
すなわち「２つの個別システムで構成されるレーザシステム」におい，
て「下流側のシステム」を「発振器（ＰＯ」ではなく「増幅器（Ｐ，，），
Ａ」として構成することに矛盾することとなる。）
ウ上記相違点②に関し
(ア)本願発明と引用発明とでは，対象とする繰り返し周波数が全く異な
る。すなわち，本願発明は，特許請求の範囲の記載，及び段落【００１
】，（）０の記載からも明らかなとおり毎秒４０００パルス４０００Ｈｚ
以上の高い繰り返し周波数でレーザパルスを生成するものであり，かか
る繰り返し周波数を実現するために，従来には存在し得なかった非常に
高いガス流速を設定して，放電領域内から実質的に全ての残存ガスを除
，。去するものであるという点において引用発明とは相違するものである
引用発明は，その特許請求の範囲に「少なくとも１０００Ｈｚの周波
数」と記載されているに過ぎず，どの程度の繰り返し周波数が対象とさ
，。，れているか特許請求の範囲の記載からは一義的に明確でないそこで
引用発明の記載された甲３の発明の詳細な説明を参酌すると，繰り返し
周波数として開示されているのは「１０００乃至２０００Ｈｚ（段落」
【０００６，３頁４欄４９行∼５０行）である。わずかに「好ましい】
実施形態」として「１０００乃至４０００Ｈｚの範囲」の繰り返し周波
数が言及されているが（段落【０００６，４頁５欄７行，そもそも，】）
本願明細書の段落【０００６】にも記載されているとおり，引用発明が
公開された２０００年〔平成１２年〕当時を含む「１９８９年から２０
０１年…（の）…一般的なパターン転写レーザモデルの動作パラメータ
としては，…２５００パルス／秒のパルス率…が挙げられる」にすぎな
い。
引用発明が公開された当時の技術としては，高くとも２５００パルス
／秒（２５００Ｈｚ）程度の繰り返し周波数しか用いられていなかった
ものであり，それゆえ実施例において実際に開示されているのも，高々
（【】２０００Ｈｚの繰り返し周波数にとどまるのであって段落００３８
等，引用発明において，４０００Ｈｚという極めて高い繰り返し周波）
数が対象とされていると考えることは不可能である。
この点，審決は，引用刊行物（甲３）の段落【０００６】において，
「」，繰り返し周波数として４０００Ｈｚとの記載がある点を強調するが
かかる繰り返し周波数については発明の詳細な説明の記載をみても，実
施例において，これを技術的に裏付ける記載が一切なされていない。さ
らに，少なくとも，引用発明において４０００Ｈｚよりも大きい繰り返
し周波数については，一切開示も示唆もされていない。
(イ)また，審決が周知技術として挙げた下記甲４，５にも，４０００Ｈ
ｚもの高い繰り返し周波数は開示も示唆もされていない。すなわち特開
平８−１９１１６３号公報（発明の名称「ガスレーザ装置，出願人株」
式会社東芝公開日平成８年７月２３日甲４には１００pps＝，，）「」（
１００Ｈｚ）の繰り返し周波数のものしか開示されておらず（段落【０
０１０，２頁右欄末行，特開平９−２２８９８６号公報（発明の名称】）
「タイミングを調整できる送風機モータ，出願人サイマーインコー」
ポレイテッド，公開日平成９年９月２日，甲５）にも「約１０００な
いし２０００Ｈｚの繰り返し率が開示されているにすぎない段落０」（【
００４，４頁左欄７行∼８行。したがって，これらは「４０００Ｈ】），
」。ｚ以上の繰り返し周波数を用いる本願発明の周知技術とはなり得ない
これに対して本願明細書及び図面には後述するように電源やレー，，，，
ザガス循環のためのブロア，その他のシステム構成について，高周波数
に必要とされる構造及び作用が明確に開示されている。
以上のとおり，審決が指摘する引用発明及び周知技術において，４０
００Ｈｚ以上という極めて高い繰り返し周波数を用いることは開示され
，。ていないことはもちろんその旨の示唆があると解することもできない
(ウ)この点，１０００Ｈｚから２０００Ｈｚまでのシステム開発におい
ては，従来の技術の延長線上で開発が可能であったが，２０００Ｈｚ程
度のシステムから，それ以上のシステム，具体的には本願発明が対象と
する４０００Ｈｚ以上のシステムを開発するためには，技術的な壁が
あった。その技術的な壁の１つが残存ガスの除去という問題であり，２
０００Ｈｚ程度を超える繰り返し周波数，特に４０００Ｈｚ以上でのシ
ステムにおいて，安定した放電を生じさせるためには，次の放電に差し
。，支えない程度のガス速度を設定したのでは不十分であった本願発明は
次の放電に差し支えない程度を超え，それ以上のガス速度を設定し，放
電領域内から実質的に全ての残存ガスを除去することにより，技術的課
題を解決したのである。
すなわち，本願発明及び引用発明のようなエキシマレーザの供給装置
においては，放電により，レーザチャンバ内のガス中の原子，分子を励
起（エネルギーを与えること）し，励起されたエキシマ（励起状態のみ
で結合する希ガス元素とハロゲン元素からなる分子）が基底状態に落ち
るときに放出される光を利用して，レーザ発振させ，レーザパルスを生
成する。したがって，放電パルスの繰り返し周波数が上がると，それだ
け，レーザチャンバにおける単位時間当たりのレーザパルス生成回数が
多くなり，トータルとしてより大きなレーザ出力の供給が可能となるた
め，生産効率の上昇を実現することができる。
しかし，いかに繰り返し周波数を上げても，放電パルスが励起する対
象となる原子，分子が不足していれば，実際には高い繰り返し周波数に
よるメリットを活かせない。そこで，繰り返し周波数を上げる場合，そ
れに併せて，励起の対象となる原子，分子の供給を行うことが不可欠で
あり，同原子，分子を含有するレーザガスの供給速度を上げることが不
可欠である。
本願発明における「第１のファン」及び「第２のファン」は，特許請
求の範囲の記載からも明らかなとおり各パルスの直後に放電によっ，「，
て生成されたイオンの実質的に全てを，次のパルスに先立ち…放電領域
から除去し得る…レーザガスのガス速度」を作り出す。本願発明におい
ては，４０００Ｈｚ以上という，極めて高い繰り返し周波数が用いられ
るため，各パルスの直後に，次のパルスに先立ち，放電後の分子を実質
的に全て放電領域から除去した後，励起可能な分子をすぐに供給するこ
，。とが必要となりそのために高いガス速度を設定することが必要となる
他方，引用発明の特許請求の範囲からは，どのようなガス速度を採用
しているかは一義的に明確でない。そこで，発明の詳細な説明を参酌す
ると「次のパルスに関して丁度良く電極間で新鮮なレーザガスを提供，
する」ことが開示されているにすぎない（段落【０００３。】）
すなわち，本願発明は，高い繰り返し周波数を採用したため，放電領
域内から実質的に全ての残存ガスを除去し，生成されたイオンの実質的
に全てを除去しようとするものであるのに対し，引用発明は，高々２０
００Ｈｚ程度の繰り返し周波数しか想定されていないため，パルス毎に
放電領域内のガスを実質的に全て入れ替えるまでの必要は一切なく次，「
のパルスに関して丁度良（い」程度，すなわち次の放電に差し支えな）
い程度の残存ガスの除去を図るにすぎない。
このことは，本願明細書の段落【０１１７】に「最大約６７ｍ／ｓ，
のガス流が必要である」と，極めて高いガス速度が記載され，放電領域
内から実質的に全ての残存ガスを除去するとの技術思想が開示されてい
るのに対し，審決が周知技術として指摘する特開平８−１９１１６３号
公報（甲４）の段落【０００９】には「動作可能なパルス繰り返し数」
と記載され，また，特開平９−２２８９８６号公報（甲５）の段落【０
００４】には「一般に安定した放電を得るには，クリア比は，３で充分
であると考えられる」と記載されていることからも明らかである。すな
わち，引用発明が公開された当時の技術常識では，高々２０００Ｈｚ程
度のシステムしかなかったために，放電領域内から実質的に全ての残存
ガスを除去する必要は全くないと共に，そのような技術思想も全く存在
しておらず，単に，次の放電に差し支えない程度のガス流速を設定しよ
うとする技術思想しか存在しなかったものである。
以上のとおり，引用発明には，本願発明の構成である「放電によって
生成されたイオンの実質的に全てを，…除去し得る…ガス速度を作り出
す（第１及び第２の）ファン」は，一切開示も示唆もされていない。
したがって，引用発明の「第１（第２）のブロワ」は本願発明の「第
１（第２）のファン」に相当するものではなく，引用発明の「第１（第
２）のブロワ」が本願発明の「第１（第２）のファン」に相当するとの
審決の認定（審決１１頁１０行∼１１行，１５行）は誤りである。
(エ)以上のとおり，本願発明においては，非常に高い繰り返し周波数を
用い，かつ，単に次の放電に差し支えない程度の残存ガスの除去を図る
だけではなく，各パルスの直後に，放電によって生成されたイオンの実
質的に全てを，次のパルスに先だって放電領域から除去する構成を採用
している。このような構成を採ることによって，必要な高いガス流速を
実現するための電源及びファンを採用すること，及び，高いガス流速を
設定することから生じる諸問題，特に衝撃波に耐えうるチャンバの強度
の実現，高い電力消費に耐えうる電気システムの実現等を克服すること
には，当然に技術的な困難が伴う。
，，【】【】，一例を挙げれば本願発明においては段落００２２・００２５
【図５・図５Ａ・図５Ｂ】に記載されているとおり，電源として，】【】【
放電パルス生成において高電圧を加えるためのコンデンサを超高速充電
するために，共振電源を採用している。このような共振電源を採用する
ことで，４０００Ｈｚ以上という高速での繰り返し周波数（１秒間に４
０００回以上のスピード）で，パルスを生成することを初めて可能とし
たのである。他方，引用発明においては，共振電源のような４０００Ｈ
ｚ以上という高速動作を可能とするための電源を備えることについては
開示も示唆もされておらず，引用発明の実施例に記載された電源を用い
たのでは，４０００Ｈｚの繰り返し周波数を実現することは不可能であ
る。
審決は，引用発明の本質的な技術的特徴を把握することなく，明細書
の末節の記載を捉えて，引用発明の認定を誤ったものである。
そして，かかる本願発明の構成については，審決が指摘する引用発明
及び周知技術には一切開示も示唆もされておらず，また，４０００Ｈｚ
以上の繰り返し周波数を実現することができる電源をそもそも備えてい
ない，高々２５００Ｈｚの繰り返し周波数を対象とした引用発明を，本
願発明のような４０００Ｈｚ以上の繰り返し周波数を目標とするシステ
ムを発明するためのベースとするはずもなく，当業者が引用発明及び周
知技術に基づいて容易に想到しうるものでもない。
(オ)被告の主張に対する反論
被告が証拠として提出した乙６（後述）には「５０００Ｈｚ程度ま，
たはそれ以上」という高い繰り返し周波数に耐えうるような構成は開示
。，，も示唆もされていないしたがって乙６の出願当時の技術水準として
繰り返し周波数を，５０００Ｈｚ程度またはそれ以上とする技術思想が
既に存在していたことはない。
被告は，引用発明における「ファンブレード構造が１６の個々に加工
されたもので形成され，若しくは，２３のブレードを備える各セグメン
トを有するカートセグメントである図１４Ｂに示したような変形実施形
°×°態は360／1523だけ又は隣接するセグメントに対して約１，（），，
だけ各セグメントを回転」したもの及び「図１４Ａに示したような非対
称ブレード配置」したものが，それぞれ本願明細書における「斜視図を
図１８Ａに示す。ブレード構造は５インチ径を有し，中実アルミニウム
製合金６０６１−Ｔ６棒材から機械加工される。各部の個々のブレード
は，図１８Ａに示すように，隣接部と若干オフセットされている。この
オフセットは，圧力波面の生成を防止するように予め不均一にされてい
る」もの及び「個々のブレードを，ブレード軸に対して若干角度を付。
け」たものに相当する旨主張する。
しかし，本願発明において，本願明細書の段落【０１２１】に記載さ
れているとおり，ファンブレードは「圧力波面の生成を防止するように
予め不均一にされている他方引用発明においては引用刊行物甲」。，，（
３の段落００２４に記載されているとおりファンブレードは3）【】，「
60／（1523）だけ，又は，隣接するセグメントに対して約１だけ°×°
各セグメントを回転する」ようにされているにすぎない。
本願発明におけるファンブレードは，圧力波面の生成を防止するよう
に，予め不均一にされているのに対し，引用発明のファンブレードは，
隣接するセグメントに対して約１のみ各セグメントを回転しているに°
すぎず，ほぼ均一にされているのであり，引用発明においては，圧力波
面の生成を防止するように，ファンブレードが予め不均一にされている
ことはない。
したがって，引用発明におけるファンブレードは，本願発明における
ファンブレードとは，根本的にその構成を異にするのであって，引用発
「（）」，「（）」明の第１第２のブロアが本願発明の第１第２のファン
に相当する旨判断した審決は誤りであり，被告の主張には理由がない。
２請求原因に対する認否
請求の原因()・()・()の各事実はいずれも認めるが，同()は争う。1234
３被告の反論
審決の判断は正当であり，原告主張の誤りはない。
()原告主張の相違点①に対し1
ア原告は，本願発明における「パワー増幅器」が「発振器」を含まないこ
とは，本願明細書の記載から明らかであると主張し，これを前提として，
引用発明には「第２のレーザユニットをパワー増幅器として構成する」，
という点について，一切開示も示唆もされていないと主張するが，以下の
とおり，失当である。
審決が１１頁下２行∼１２頁２行で認定したとおり，本願発明は「第，
２のレーザユニットは，パワー増幅器として構成される」ものであるとこ
ろ「パワー増幅器」とは，その文言から，レーザ光のパワー（出力）を，
増幅する機能を有する機器であることが一義的に明確に理解できるから，
発明の詳細な説明の記載を参酌すべき特段の事情はない。
，，「」そして本願明細書の特許請求の範囲の請求項１にはパワー増幅器
について発振機能の有無を特定する記載はないから本願発明におけるパ，「
ワー増幅器に該当するというためには発振機能の有無に拘わらずレー」，，
ザ光のパワー（出力）を増幅する機能を有する機器であれば足りるものと
理解すべきであるしたがって本願発明におけるパワー増幅器が発。，「」「
振器」を含まないとの原告の主張は，特許請求の範囲に基づくものではな
く，原告の上記主張は，前提において失当であり，これを前提とする，引
用発明には「第２のレーザユニットをパワー増幅器として構成する」とい
，。う点について一切開示も示唆もされていないとの主張もまた失当である
他方，引用発明の「パワー発振器」が，レーザ光のパワーを増幅する機
能を有することは技術常識上明らかであるから，本願発明の「パワー増幅
器」に相当する。
したがって審決が引用発明のパワー発振器が本願発明のパワー，，「」「
増幅器」に相当するとし「第２のレーザユニットは，パワー増幅器とし，
て構成される」点を両者の一致点として認定したことに，誤りはない。
イ(ア)なお，下記のとおり，本願発明について上記のとおり理解すべきこ
とは，本願明細書の記載及び本願の優先日当時における当業者の技術常
識とも符合するものであるから，本願発明の「パワー増幅器」が「発振
器」を含まないものであると解する余地はないものといわなければなら
ない。
すなわち，本願明細書には「電力増幅器（パワー増幅器）が発振機，」
能を有しないものに限定されるものであることを明示する記載はない。
そして，本願明細書には，以下の記載がある。
・「０００８】種注入【
（エキシマレーザシステムを含む）ガス放電型レーザシステムの
帯域幅を狭めるための公知手法には，狭帯域「種」ビームを利得
媒体に注入するものがある。このようなシステムの１つでは，種
ビームを生成する「主発振器」と呼ばれるレーザは，第１の利得
媒体において非常に狭い帯域幅即ち超狭帯域幅のビームを作り出
すように設計され，このビームが第２の利得媒体において種ビー
ムとして使用される。第２利得媒体が電力増幅器として機能する
場合，このシステムを，主発振器電力増幅器（ＭＯＰＡ）システ
ムという。第２利得媒体自体が共振空洞を有する場合，このシス
テムを，種注入発振器（ＩＳＯ）システム又は主発振器電力発振
器（ＭＯＰＯ）システムといい，この場合，種レーザを主発振器
と呼び，下流側のシステムを電力発振器と呼ぶ。２つの個別シス
テムで構成されるレーザシステムは，同等の単一室レーザシステ
ムに比較してかなり高価であり，更により大きく複雑になる傾向
がある。そのために，２室レーザの商業的用途は制約されたもの
となっている」。
・「００１０】【
【課題を解決するための手段】本発明は，約４，０００Ｈｚ又は
それ以上のパルス率及び約５ｍＪから１０ｍＪ又はそれ以上のパ
ルスエネルギーで，高品質のパルスレーザビームを生成すること
ができる種注入モジュール式のガス放電型レーザシステムを提供
する。２つの個別放電室が設けられ，それらの一方の放電室は，
超狭帯域種ビームを生成する主発振器の一部となり，生成された
超狭帯域種ビームが第２の放電室において増幅される。各放電室
は，主発振器における波長のパラメータ及び増幅室におけるパル
スエネルギーのパラメータの双方を最適化できるように個々に制
御することができる。好適な実施形態では，ＭＯＰＡとして構成
されるとともに，特に集積回路パターン転写用の光源として使用
するために設計されたＡｒＦエキシマレーザシステムとされる。
ＭＯＰＡの好適な実施形態においては各放電室は単一の横流ファ，
ンを備え，この横流ファンは，各パルス間で約０．２５ミリ秒未
満の時間内に放電領域から残存物を除去することによって４００
０Ｈｚ又はそれ以上のパルス率で動作できるのにするためのガス
。，，流を作り出す主発振器には線幅狭小化パッケージが設けられ
この線幅狭小化パッケージは，４０００Ｈｚ又はそれ以上の反復
率でパルス対パルスに基づいて中心線の波長を制御するとともに
０．２ｐｍ（ＦＷＨＭ）未満の帯域幅を作り出すことができる超
高速調整ミラーを備える」。
・「００１１】【
【発明の実施の形態】第１実施形態
全体レイアウト−３波長対応プラットホーム
図１は，本発明による第１の好適な実施形態の斜視図である。本
実施形態は，ＭＯＰＡレーザシステムとして構成された種注入狭
帯域エキシマレーザシステムである。このシステムは，特に，集
積回路パターン転写用の光源としての使用するために設計されて
いる。従来型パターン転写レーザと比較して本実施形態において
例証される本発明の主要改良点は，種注入，及び，特に，２つの
個別放電室を有する主発振器電力増幅器（ＭＯＰＡ）構成を利用
した点にある」。
・「００１２】【
本第１実施形態は，アルゴン−弗化物（ＡｒＦ）エキシマレーザ
，，（），システムであるが本システムはクリプトン−弗化物ＫｒＦ
ＡｒＦ，又はフッ素（Ｆ２）レーザ部品のいずれにも適応するよ
。うに設計されたモジュール型プラットホーム構成を使用している
このプラットホーム設計によって，これら３種類のレーザのいず
れに対しても，同一の基本キャビネット及び多くのレーザシステ
ムモジュールや部品を使用することができるこれら３種類のレー。
ザ設計が，ＫｒＦについて約２４８ｎｍ，ＡｒＦについて約１９
３ｎｍ，そして，Ｆ２について約１５７．６３ｎｍの波長を持つ
レーザビームを生成することから，出願人は，このプラットホー
ムを３波長対応プラットホームと呼ぶまた本プラットホー「」。，
ムは，３つの波長の各々において上記装置の大手メーカ全ての最
新パターン転写装置にこのレーザシステムを適合させるための接
続部品を備えるように設計される」。
・「００１３】図１は，この好適なレーザシステム２の主要部品を【
示す。主要部品としては以下のものが含まれる。
（１）ＡＤ／ＤＣ電源モジュールを除くレーザの全モジュールを
収納するように設計されたレーザシステムフレーム４（２）ＡＣ，
／ＤＣ高電圧電源モジュール６（３）４０００充電パルス／秒の，
繰返し数で約１０００ボルトに２つの充電コンデンサ列を充電す
るための共振充電器モジュール７（４）各々が上記充電コンデン，
サ列の１つを備えるとともに，各々が充電コンデンサ列に蓄積さ
れたエネルギーによって約１６，０００ボルトの非常に短い高電
圧電気的パルス及び約１μｓの持続時間を形成する整流子を備え
る２つの整流子モジュール８Ａ及び８Ｂ（５）フレーム４内に上，
下配置で取り付けられ，主発振器モジュール１０及び電力増幅器
モジュール１２から成る２つの放電室モジュール。各モジュール
は，放電室１０Ａ及び１２Ａと各放電室の上面に取り付けられた
圧縮ヘッド１０Ｂ及びと１２Ｂを備える。各圧縮ヘッドは，整流
子モジュールからの電気パルスを，それに対応して電流増加させ
（）。（）ながら約１μｓから約５０ｎｍに時間に関して圧縮する６
線幅狭小化パッケージ１０Ｃ及び出力カプラユニット１０Ｄを含
む主発振器光学部品（７）種ビームを整形して電力増幅器に導く，
とともに，ＭＯ出力電力をモニタする光学部品及び計器を備えた
波面操作ボックス１４（８）波長モニタ，帯域幅モニタ，及びエ，
ネルギーモニタを備えたビーム安定器モジュール１６９シャッ，（）
タモジュール１８（１０）ガス制御モジュール２０，冷却水配送，
モジュール２２，及び，換気モジュール２４が設置される補助キ
ャビネット（１１）関連機器接続モジュール２６（１２）レー，，
ザ制御モジュール２８，及び（１３）状態ランプ３０」。
・「００１４】本明細書において詳細に説明するこの好適な実施形【
態は，上述したＡｒＦ・ＭＯＰＡ構成である。この特定構成を他
，。の構成に変えるために必要な変更点の一部は以下のものである
ＭＯＰＡ設計は，第２放電室の周辺に共振空洞を作ることによっ
てＭＯＰＯ設計に変更することができる。これを行うために数多
くの手法を利用することができるが，その一部は，本明細書に参
考文献として記載した関連特許出願で論じられているＫｒＦレー。
ザ設計は，ＡｒＦ設計と極めて類似したものとなる傾向があるの
で，本明細書に記載された構成の大部分はＫｒＦレーザに直接適
用することができる。実際，両レーザの波長が回折格子の列間隔
の整数倍数に相当することから，ＡｒＦレーザ動作に使用される
好適な回折格子は，ＫｒＦレーザでも正常に機能する」。
(イ)上記によれば，本願明細書には，以下の事項が記載されているとい
える。
ａ狭帯域「種」ビームを利得媒体に注入するガス放電型レーザシ
ステムの公知手法の１つでは，種ビームを生成する「主発振器」
と呼ばれるレーザは，第１の利得媒体において非常に狭い帯域幅
即ち超狭帯域幅のビームを作り出すように設計され，このビーム
が第２の利得媒体において種ビームとして使用され，第２利得媒
体が「電力増幅器（パワー増幅器）として機能する場合，このシ」
ステムを，主発振器電力増幅器（ＭＯＰＡ）システムといい，第
２利得媒体自体が共振空洞を有する場合，このシステムを，主発
振器電力発振器（ＭＯＰＯ）システムといい，この場合，種レー
ザを主発振器と呼び，下流側のシステムを「電力発振器（パワー」
発振器）と呼ぶこと（段落【０００８。】）
ｂ本願発明の好適な実施形態では，ＭＯＰＡとして構成されるこ
と（段落【００１０。】）
ｃ本願明細書において詳細に説明する好適な実施形態は段落０，【
０１１】∼【００１３】に記述したＡｒＦ・ＭＯＰＡ構成である
ところ，ＭＯＰＡ設計は，第２放電室の周辺に共振空洞を作るこ
とによってＭＯＰＯ設計に変更することができ，これを行うため
に数多くの手法を利用することができるが，その一部が本願明細
書に参考文献として記載した関連特許出願で論じられていること
（段落【００１１】∼【００１４。】）
上記のとおり，本願明細書においては，ＭＯＰＡ設計は，第２放電室
，「」（）の周辺に共振空洞を作ることすなわち電力発振器パワー発振器
とすることによってＭＯＰＯ設計に変更できる旨が記載されているとこ
，「」（）ろこの設計変更により第２利得媒体が電力増幅器パワー増幅器
としての機能を喪失するものではないから，本願明細書の上記記載に接
した当業者は，本願発明において，下流側のシステムを，上記ａでいう
「電力発振器（パワー発振器）とすることも容易に認識し得ることで」
ある。
また，本願明細書には「電力増幅器（パワー増幅器）自体の技術的，」
意味について詳細に説明する記載はなく，まして「発振器」を含まな，
い点についても記載も示唆もないのであるから，上記ａのとおり，本願
明細書においては，第２利得媒体が電力増幅器（パワー増幅器）として
機能する場合，このシステムを，主発振器電力増幅器（ＭＯＰＡ）シス
テムということに照らすと「電力増幅器（パワー増幅器）として機能，」
するものであれば「電力増幅器（パワー増幅器）といい得るものと解，」
すべきである。
そして，かかる解釈は，当業者の認識とも整合するものである。
すなわち，上記ａのとおり，本願明細書には，第２利得媒体自体が共
振空洞を有する場合に，下流側のシステムを「電力発振器（パワー発」
振器）と呼ぶことの記載があるが，かかる記載からは，共振空洞を有す
るものを「電力発振器（パワー発振器）と呼ぶ，ということが理解で」
きるにとどまるのであって，共振空洞を有しないもののみを「電力増幅
器（パワー増幅器）と呼ぶものではないから，上記の解釈を妨げるも」
のではなく，かかる記載を根拠にして，本願発明の「パワー増幅器」が
「発振器」を含まないものであるとすることはできない。
，【】，【】【】また本願明細書の段落００１９図面図３Ａ及び図３Ｂ
に示されるものが「発振器」を構成しないものであるとしても，この，
ものは，単に「好適な実施形態」にすぎず（段落【００１１・００１】【
４，本願明細書に，かかる実施形態の記載があることをもって，本願】）
発明の「パワー増幅器」について「発振器」を含まないものに限定さ，
れるということもできない。
したがって，本願発明について，上記のように理解すべきことは，本
願明細書の記載とも符合するものであって，本願発明における「パワー
増幅器」が「発振器」を含まないことは，本願明細書の記載から明らか
であるとの原告の主張は失当である。
ウ加えて，乙１∼５には，それぞれ，以下の記載がある（下線は判決で付
記。）
(ア)乙１（特開平９−８３８９号公報。発明の名称「狭帯域化エキシマ
レーザー発振器，出願人三菱重工業株式会社，公開日平成９年１月」
１０日）
「０００２】【
【従来の技術】エキシマレーザー発振器は，エキシマ（二つの原子が
付着したゆるやかな結合状態の分子）状態から基底状態へ，紫外域の
誘導放出光を出して遷移することを利用したものである。このエキシ
マレーザー発振器は，一般には，放電により励起している。つまり，
レーザー管には希ガスとハロゲン元素とでなるレーザー媒質（混合ガ
ス）が封入されており，放電を均一化し効率を上げるため予備放電電
極により予備放電をした後，主放電電極がグロー放電して，レーザー
発振が行なわれる。
【０００３】ここで従来のエキシマレーザー発振器の一例を，図４を
基に説明する。図４に示すようにこのエキシマレーザー発振器は，主
に発振器１０と増幅器２０とで構成されている。
【０００４】このうち発振器１０では，レーザー媒質（希ガスとハロ
），ゲン元素との混合ガス１１が封入されたレーザー管１２を間にして
一対のアパーチャ（孔直径が２∼３）１３ａ，１３ｂが配置されmm
ている。更にアパーチャ１３ａの外側（図中左側）に出力鏡１４が備
えられ，アパーチャ１３ｂの外側（図中右側）にビーム拡大素子（プ
リズム）１５及び波長分散性光学素子（反射式回折格子）１６が備え
られている。
【０００５】レーザー管１２の放電電極（図示省略）の放電により生
じた光は，出力鏡１４と波長分散性光学素子１６とで反射され両者の
間で往復する。つまり出力鏡１４と波長分散性光学素子１６とにより
光共振器が構成されている。３つのプリズムで構成したビーム拡大素
子１５は，アパーチャ１３ｂから出力された光を拡大（光断面積を拡
）。，大して波長分散性光学素子１６に送る波長分散性光学素子１６は
回折現象を利用して入射光を分光し，特定の波長（次数）の光成分の
みを反射する。反射した光は，ビーム拡大素子１５により光断面積が
絞られてアパーチャ１３ｂに戻っていく。よって光は特定の波長幅に
絞られて狭帯域化される。また，光はアパーチャ１３ａ，１３ｂを通
過することにより拡がり角が制限されて高次の横モード発振が制限さ
れ，光の質が向上する。結局，波長分散性光学素子１６の波長選択機
能と，アパーチャ１３ａ，１３ｂの横モード発振制限機能とが相俟っ
て光が狭帯域化しきれいなスペクトルが得られる更に光はレーザー，。
管１２を通過する毎に増幅される。そして光強度が発振しきい値を越
えたら，出力鏡１４からレーザー光Ｌが出力される。
【０００６】一方，増幅器２０では，レーザー媒質２１が封入された
レーザー管２２を間にして，孔付き凹面鏡２３ａ及び凸面鏡２３ｂが
相対向して配置されている。この鏡２３ａ，２３ｂにより不安定共振
器２３が形成されており，凸面鏡２３ｂの中心部には，レーザー光Ｌ
つまり発振波長の光成分を１００％反射するコーティングが施こされ
ている。更に，レーザー光Ｌをレーザー管２２に導くミラー２４，２
５が備えられている。
０００７この増幅器２０では発振器１０から出力されたレーザー【】，
光Ｌを，ミラー２４，２５で導びいてレーザー管２１に通過させるこ
とにより，光強度を増幅する。更にレーザー光Ｌを不安定共振器２３
の凸面鏡２３ａ及び凹面鏡２３ｂで反射させることにより，光断面積
の大きな平行光線としている。よって光断面積の大きな平行光線と
なった光強度の高いレーザー光Ｌが出力（凸面鏡２３ｂから図中右方
に出力）される（２頁２欄１３行∼３頁３欄２１行）。」
(イ)乙２（特開平２−１２９８０号公報，発明の名称「狭帯域レーザ発
振装置，出願人株式会社東芝，公開日平成２年１月１７日）」」
「従来の技術）（
半導体露光用縮小投影露光装置の光源として狭帯域エキシマレーザ
が用いられつつあるが，この場合高出力を得るためにレーザ光発振器
から発振されたレーザ光の出力を増幅する増幅部を使用したインジェ
クションロックの技術が用いられる。第５図に従来のインジェクショ
ンロック型の狭帯域レーザ発振装置を示す。
このレーザ発振装置１は，主発振部２と増幅部３とからなり，双方
２，３ともがエキシマガスレーザ媒質を用いる。主発振部２はエキシ
マガスレーザ媒質を励起してレーザ光を発光させる放電管４を挟んで
対峙する回折格子５および出力ミラー６が設けられている。
上記回折格子５と放電管４との間には上記放電管４側にピンホール
７を有するプレート８と，回折格子５側に設けられ図示しないプリズ
ムまたはエタロン等によって構成された波長選択素子９とが設けられ
安定型のレーザ共振器が形成されている。
そして，上記主発振部２から発振されたレーザ光は第１および第２
の高反射ミラー１０，１１により光軸が折曲され，増幅部３に入射さ
れる。
この増幅部３は上述のごとくエキシマガスレーザ媒質が封入された
放電管１２と，この放電管１２を挟むように対峙して凸面ミラー１３
および凹面ミラー１４とが配設されている。ここで，上記凹面ミラー
１４の中央部には約１ｍｍの直径の貫通孔１５が穿設されており，上
記貫通孔１５に上記主発振部２で発振されたレーザ光が入射されるよ
うになっている。
上述のように構成されたレーザ発振装置１はまず，主発振部２に
よってスペクトル幅０．００３ｎｍ，平均出力０．０１ｗのレーザ光
。，，を発振するこれは上記放電管４で発光された光を上記回折格子５
波長選択素子９およびプレート８のピンホール７等を通過させること
により，単一光を発振状態とし，所定の出力（０．０１ｗ）を上記出
力ミラー６から上記第１の高反射ミラー１０に向けてレーザ光を照射
する。そして，第１の高反射ミラー１０に反射されたレーザ光は第２
の高反射ミラー１１に反射されることで上記増幅部３に入射される。
この増幅部３に入射されるレーザ光は凹面ミラー１４の貫通孔１５か
ら不安定型共振器１３，１４間に入射され，この共振器１３，１４間
でビームを拡大しながら複数回反射されることで，インジェクション
ロックされ狭いスペクトル幅を保ちながら，出力が増幅され，最終的
に凸面ミラー１３側から出射する。この増幅作用によりスペクトル幅
は主発振部２から発振されたときと同じ０．００３ｎｍで，平均出力
が５０ｗの狭帯域レーザ光を得ることができる（１頁左下欄２０行。」
∼２頁右上欄１１行）
(ウ)乙３（特開平１−３０５５２１号公報，発明の名称「露光装置，」
出願人株式会社ニコン，公開日平成元年１２月８日）
「もう一つのタイプのレーザ光源は，インジェクションロック型と呼
ばれるものであり，第８図のように発振器と増幅器に分かれている。
発振器において共振器用ミラー（１０２ａ，１０２ｂ）か配置されて
いる点は前述した安定共振型と同様であるが，このタイプでは発振器
内に所定の領域の波長を選択するためのエタロン，回折格子等の波長
選択素子（１０６）か備えられているとともに，放電管１００の両端
にレーザビームを所定の領域で遮断するアパーチャー（１０４ａ，ｌ
０４ｂ）か配置されており，発振されるレーザビームのスペクトルの
（．），。半値幅が狭く△λ∼０００１ｎｍ即ち単色性が向上している
さらに発振されたレーサビームはミラー（１０８）で曲折されて増幅
器に入射し，第２の放電管（１１０）の両端に凸状面と凹状面を向き
あわせて配設された不安定共振用ミラー１１２ａ１１２ｂによっ（，）
て増幅されて出射される。この型のレーサ光源から出射されるレーザ
ビームの特徴の一つは，発振器において単色性が高められており時間
的コヒーレンスが高く，投影レンズ７において色消しの必要がないと
いうことである（５頁左上欄１３行∼同右上欄１３行）。」
（「」，(エ)乙４特開平１−２５９５３３号公報：発明の名称照明光学装置
出願人株式会社ニコン，公開日平成元年１０月１７日）
「もう一つのタイプのレーザ光源は，インジェクションロック型と呼
ばれるものであり，第７図のように発振器と増幅器に分かれている。
発振器において共振器用ミラー（１０２ａ，１０２ｂ）が配置されて
いる点は前述した安定共振型と同様であるが，このタイプでは発振器
内に所定の領域の波長を選択するためのエタロン，回折格子等の波長
選択素子（１０６）が備えられているとともに，放電管１００の両端
にレーザビームを所定の領域で遮断するアパーチャ（１０４ａ，１０
４ｂ）が配置されており，発信されるレーザビームのスペクトルの半
値幅が狭く（Δλ≈０．００１ｎｍ，即ち単色性が向上している。さ）
らに発振されたレーザビームはミラー（１０８）で曲折されて増幅器
に入射し，第２の放電管（１１０）の両端に凸状面と凹状面を向きあ
わせて配設された不安定共振器用ミラー１１２ａ１１２ｂによっ（，）
て増幅されて出射される。この型のレーザ光源から出射されるレーザ
ビームの特徴の一つは，発振器において単色性が高められており時間
的コヒーレンスが高く，投影レンズＰＬにおいて色消しの必要がない
ということである（５頁左上欄８行∼同右上欄９行）。」
(オ)乙５（特開平１１−２９８０８３号公報，発明の名称「注入同期型
狭帯域レーザ，出願人株式会社小松製作所，公開日平成１１年１０」
月２９日）
「００２８】【
【発明の実施の形態】以下，図面を参照して本発明の実施の形態に
ついて説明する。
【００２９】図１は，本発明の第１の実施の形態であるインジェク
ションロック型狭帯域レーザの全体構成を示す図である。
【００３０】図１において，このインジェクションロック型狭帯域
レーザはオシレータ段Ａ，波長変換部１２，および増幅段Ｂとから
構成される。
【００３１】オシレータ段Ａは，ポンピングレーザ１１と，これに
よって励起され，基本波光Ｌ１を出力するチタンサファイヤレーザ
１０とからなる。
【００３２】ポンピングレーザ１１としては，アルゴンイオンレー
ザ，ＹＡＧレーザ，ＹＬＦレーザ等が用いられ，アルゴンイオン
レーザの場合は４８８ｎｍ，５１５ｎｍ等のマルチライン，ＹＡ
Ｇレーザの場合は第２高調波（５３２ｎｍ，ＹＬＦレーザの場合）
は第２高調波（５２７ｎｍ）がポンピング光として使用される。
【００３３】チタンサファイヤレーザ１０の詳細構成については後
述するが，ポンピングレーザ１１からのポンピング光が増幅媒体
３としてのチタンサファイヤロッドに入射されると，増幅媒体３
は，７７３．６ｎｍのレーザ光を含む光を発生し，リアミラー１
とフロントミラー４とで構成される共振器とこの共振器内の波長
選択素子２等によって７７３．６ｎｍの狭帯域のレーザ光を増幅
発振して基本波光Ｌ１として波長変換部１２に出力する。チタン
サファイヤレーザ１０内には，波長制御機能を有し，ビームスプ
リッタ５によって基本波光Ｌ１の一部を取り出し，波長モニタ６
によって基本波光Ｌ１の波長を検出し，この検出した波長をもと
に，波長コントローラ７がドライバ８を介して波長選択素子２及
びリアミラー１を調整して，狭帯域の７７３．６ｎｍの基本波光
Ｌ１が出射されるようにフィードバック制御される。
【００３４】波長変換部１２は，入射された基本波光Ｌ１を和周波
混合によって４倍の高調波である１９３．４ｎｍのレーザ光に変
換し，高周波光Ｌ２として増幅段Ｂに入力する。この波長変換部
，。１２は非線形光学効果をもつ波長変換素子によって実現される
例えば非線形光学素子を３つ用い最初の非線形光学素子によっ，，
て，入力された波長ωをもつレーザ光は，波長ωと２ωのレーザ
光を生成し，次の非線形光学素子によって波長ωと波長３ω（ω
＋２ω）のレーザ光を生成し，さらに次の非線形光学素子によっ
て波長ωと４ω（ω＋３ω）のレーザ光を生成し，この波長４ω
のレーザ光を透過させるミラーを用いて出力させるようにする。
この高調波光Ｌ２は，全反射ミラー１３，１４を介して増幅段Ｂ
に入力される。
【００３５】増幅段Ｂのチャンバ２４内には，１９３ｎｍのレーザ
光を発生することができるＡｒＦガスが充填され，このＡｒＦガ
スをエキシマ状態に励起する放電電極２３を有する。入力された
高調波光Ｌ２は，凹面ミラーのカップリングホールを介してチャ
ンバ２４内に入力し，凸面ミラー２１を介して反射し，さらに凹
面ミラー２２に反射し，出力光Ｌ３として出力する。高調波光Ｌ
，，２がチャンバ２３内を往復する間に誘導放出を行うことにより
高調波光Ｌ２が増幅された出力光Ｌ３として出力される。この場
合，ポンピングレーザ１１，チタンサファイヤレーザ１０，及び
増幅段Ｂの放電電極２３の放電タイミングを同期させる必要があ
る（４頁５欄４１行∼同６欄４９行）。」
(カ)上記(ア)ないし(オ)の記載によれば，レーザ光のパワー（出
力を増幅する機器であって共振器を有するものを増幅器増），「（
幅部，増幅段」と表現することがあることは，本願の優先日当時）
の技術常識であったということができる。
したがって，本願の優先日（平成１２年１０月６日）当時の技
術常識を踏まえれば，当業者（その発明の属する技術の分野にお
ける通常の知識を有する者）は，本願発明における「パワー増幅
器について発振機能の有無に拘わらずレーザ光のパワー出」，，（
力）を増幅する機能を有する機器であれば足りるものと容易に認
識するものであり，本願発明について，上記ア，イのように理解
すべきことは，本願の優先日当時の技術常識とも符合するもので
ある。
以上のとおり，原告の主張は，本願発明における「パワー増幅
器」が「発振器」を含まないものであるとの前提において失当で
あり審決が引用発明のパワー発振器が本願発明のパワー，，「」「
増幅器」に相当するとし「第２のレーザユニットは，パワー増幅，
器として構成される」点を両者の一致点と認定したことに，誤り
はない。
エ作用効果の相違に対し
原告は，本願発明の「パワー増幅器」は，引用発明の「パワー発振器」
と作用効果で大きく異なると主張するが，以下のとおり，失当である。
上記のとおり，引用発明の「パワー発振器」は本願発明の「パワー増幅
器」に相当し「第２のレーザユニットは，パワー増幅器として構成され，
る」点において両者は一致するから，この点に基づく作用効果の相違もな
い。
原告が主張する本願発明が奏する作用効果は，本願発明の「パワー増幅
器」が「発振器」を含まないことを前提とするものであるところ，かかる
前提が失当であることは，上記のとおりである。のみならず，原告主張に
係る本願発明が奏する作用効果は，本願明細書に記載されておらず，原告
の主張は，明細書の記載に基づかない点においても，失当である。なお，
かかる作用効果が本願明細書に記載されていないことは，本願発明の「パ
ワー増幅器」について「発振器」を含まないものに限定して解すること，
ができないことの証左ともいえる。
()原告主張の相違点②に対し2
ア原告は，引用発明においては，<ア>４０００Ｈｚ以上の高い繰り返し周
波数が対象とされているとはいえない，<イ>各パルスの直後に次のパルス
に先立ち，放電後の分子を実質的に全て放電領域から除去しようという技
術思想は開示されていない，<ウ>４０００Ｈｚ以上という高い繰り返し周
波数を実現するための具体的構成が開示されていない，と主張するが，以
下のとおり，失当である。
引用発明の記載された引用刊行物（甲３）には「本発明の好ましい実，
施形態は，１０乃至４０ワットの範囲におけるパワー出力を備える１０乃
至５ｍＪの範囲におけるパルスエネルギを備える１０００乃至４０００Ｈ
ｚの範囲で作動しうる（段落【０００６）と明確に記載されているこ。」】
とから，上記記載に接した当業者は，引用発明にはパルスエネルギを４０
００Ｈｚで作動し得るものとする技術思想が記載されていることを容易に
首肯し得るといえる。
原告は，引用発明が公開された当時の技術としても，高くとも２５００
パルス／秒２５００Ｈｚ程度の繰り返し周波数しか用いられていなかっ（）
たものであるから，引用発明において，４０００Ｈｚという極めて高い繰
り返し周波数が対象とされていると考えることは到底不可能である，と主
張する。
しかし引用発明においてリファレンスとして組み入れるとされた１，，「
９９８年１２月１５日に出願された米国特許出願シリアル番号０９／２１
１８２５号段，」（HighPulseRatePowerSystemwithResonantPowerSupply
落【０００１〔２頁２欄４５行∼４７行）の特許明細書である米国特許】〕
６０２８８７２号公報（発明の名称「共振電源を備えた高パルス割合のパ
ルス電源システム，サイマー，インコーポレイテッド，２０００年〔平」
成１２年〕２月２２日特許公報発行，乙６，７）の１２欄７行∼１４行に
は，高パルス速度パルス電源システムについて，以下の記載がある。
「当業者は，上記の開示に表された教示に基づいて，本発明の他の多
くの実施例が可能であることを理解するであろう。電圧値およびエネ
ルギー値のようなパラメータの多くは異なったものであってもよい。
リソグラフィーに使用される商業的なエキシマレーザーについては，
少なくとも１０００Ｈｚの充電速度が好ましいが，遥かに速い速度，
例えば２０００Ｈｚまたは５０００Ｈｚ程度またはそれ以上が望まし
いことになろう」。
上記記載によれば，引用発明の出願当時の技術水準として，繰り返し周
波数を，５０００Ｈｚ程度またはそれ以上とする技術思想が既に存在して
いたものといえ，引用発明の記載もかかる技術水準の存在を前提としてな
されているものである。
このことからみても，引用発明において，繰り返し周波数として４００
０Ｈｚが対象とされていることは明らかである。原告の主張は，失当であ
る。
イ放電後の分子を実質的に全て放電領域から除去することについて
(ア)引用発明は，レーザガスのガス速度は「次のパルスに関して丁度良
く電極間で新鮮なレーザガスを提供するのに十分である」ものである。
ここで，引用発明は「電極間で新鮮なレーザガスを提供する」もので
あることは，電極間に提供されるレーザガスが新鮮なものであることが
望ましいことを当然の前提としたものであるから，引用発明において，
放電によって生成されたイオンを，次のパルスに先立ち，できる限り除
去することは，当業者が当然考慮する程度のことというべきである。
したがって，引用発明において「第１（第２）のレーザガスのガス，
速度」を「放電によって生成されたイオンの実質的に全てを，次のパ，
ルスに先立ち」第１（第２）の放電領域から除去し得るガス速度に設定
することは，当業者が容易に想到し得る程度のことである。
(イ)しかるところ，審決が繰り返し周波数とガスフローの関係について
の周知技術を示すものとした特開平８−１９１１６３号公報（甲４，）
及び特開平９−２２８９８６号公報甲５には以下の記載がある下（），（
線は判決で付記。）
ａ甲４（特開平８−１９１１６３号公報，発明の名称「ガスレーザ装
置，出願人株式会社東芝，公開日平成８年７月２３日）」
「０００２】【
【従来の技術】一般に，ガスレーザ媒質を強制的に循環させるガス
レーザ装置においては，上記ガスレーザ媒質が封入される気密容器
を有する。この気密容器内には上記ガスレーザ媒質を強制的に循環
させるための送風機が配置されているとともに，そのガスレーザ媒
質の循環方向と交差する方向に所定の間隔で離間して一対の主電極
が配設されている。
【０００３】上記一対の主電極間には所定のタイミングで主放電が点
弧される。それによって，一対の主電極間の空間部に流入したガス
レーザ媒質はその主放電によって励起されてレーザ光を発生するよ
うになっている。
【０００４】主電極間の空間部で発生したレーザ光は，その主放電と
交差する方向に配設された光共振器で反射を繰り返すことで増幅さ
れ，所定の強度に達すると，上記光共振器の出力ミラー側から発振
出力される。また，ガスレーザ媒質は放電励起されることで温度上
昇する。そこで，上記気密容器内には，温度上昇したガスレーザ媒
質を冷却するための熱交換器が配置されている。
０００５ところで上記送風機によって強制的に循環するガスレー【】，
ザ媒質は，一対の主電極間の空間部において流速分布が均一になら
ないということがある。図８に一対の主電極１，２間におけるガス
レーザ媒質Ｇの流速分布を示す。
【０００６】すなわち，一対の主電極１，２間の空間部３を通過する
ガスレーザ媒質Ｇは，上記主電極１，２の離間方向中央部分に比べ
て表面近傍の方が抵抗が大きい。そのため，上記空間部３を流れる
ガスレーザ媒質Ｇの流速分布は，同図に曲線Ｘで示すように一対の
主電極１，２の離間方向中央部分が両端部分に比べて速くなること
が避けられない。
【０００７】上記放電空間部３におけるガスレーザ媒質Ｇの流速分布
が一対の主電極１，２の離間方向において上述したごとく不均一と
，，，なるととくにレーザ発振の繰り返し数を高くした場合主電極１
２近傍ではガスレーザ媒質Ｇが確実に置換されないことがある。つ
まり，前回の主放電に寄与したガスレーザ媒質Ｇがつぎの主放電時
に空間部３に残留するということがある。
【０００８】一度，主放電に使われたガスレーザ媒質Ｇには放電生成
物などの不純物が含まれる。そのため，その不純物によって一対の
主電極１，２間に点弧される主放電（グロー放電）が不安定となっ
てアーク放電の発生を招き，出力の低下を招いたり，主電極１，２
を早期に損傷させるなどのことがある。
【０００９】一方，上記構成のガスレーザ装置において，動作可能な
パルス繰り返し数ｆは，放電の幅Ｌとガスレーザ媒質Ｇの流速ｖに
対してつぎの関係を有する。
ｆ＝ｖ／（ＣＲ・Ｌ）…（１）式
図中ＣＲはクリアラアンスレシオと呼ばれ，装置固有の値で，通常，
２∼５程度である。したがって，パルス繰り返し数ｆはガスレーザ
媒質Ｇの流速ｖによって決定されることになる。
【００１０】ガスレーザ媒質Ｇの流速を高めるためには，上記送風機
mmとして静圧の大きい軸流型ファンが用いられている。直径６０
程度のファン１つでは最大静圧がＰａ程度であるから，比重量330
がのガスレーザ媒質では流速ｖは最大で６となり，ＣＲ＝0.43m/s
，。２のとき放電幅では動作可能な繰り返し数はとなる30mm100pps
【】，，００１１したがってこれ以上のパルス繰り返し数を得たいとき
つまりレーザ光の出力を高くしたいときには，２つの軸流ファンを
直列に配置して静圧を増加させ，ガスレーザ媒質の流速を速くする
ことが考えられる（２頁１欄４１行∼３頁３欄６行）。」
ｂ甲５（特開平９−２２８９８６号公報，発明の名称「タイミングを
」，，調整できる送風機モータ出願人サイマーインコーポレイテッド
公開日平成９年９月２日）
「【】，，。０００３エキシマレーザは一般にパルスモードで動作する
放電領域内のガスに，基底即ち初期熱状態に復帰させるに充分な時
間を与えるためにパルス動作が必要とされる。静的なガスシステム
では，ガスがこの状態に到達するのにほぼ１秒の時間を必要とし，
従って，繰り返し率を甚だしく制限する。近代的なレーザシステム
は，通常，ガスを循環するための接線方向送風機ファンを用いて，
ガス放電領域内のガスを能動的に循環することにより，高い繰り返
し率を得ている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】特定の繰り返し率を維持するのに必
要なガスの流量は，次の式を用いて決定することができる。
クリア比＝（流量）／〔放電巾（繰り返し率〕（））
一般に，安定した放電を得るには，クリア比は，３で充分であると
考えられる。しかしながら，パルス対パルスのエネルギー安定性を
保証するためには，クリア比は，５ないし６であるのが好ましい。
約１０００ないし２０００Ｈｚの繰り返し率を維持するに必要なク
リア比を得るためには，高いガス流量，ひいては，高い送風機ファ
ン速度が必要とされる（３頁４欄４０行∼４頁５欄１０行，。」）
「００１４】エキシマレーザにおいては，パルス率が通常はかなり【
低い。ガスが静的である場合には，放電領域内のガス体積に，レー
ザパルスとレーザパルスとの間にその初期の熱的状態に復帰させる
に充分な時間を与えねばならない。一般的に，この復帰時間は１秒
程度であり，従って，静的ガスシステムのパルス率は約１パルス／
秒に制限される。ガスが循環される場合には，パルス率を増加する
ことができる。レーザを放電できる繰り返し率は，循環速度と，放
電体積内のガス体積が交換される率とに基づく。従って，循環速度
が高いほど，達成できる繰り返し率が高くなる（４頁６欄４０行。」
∼５０行）
(ウ)上記のとおり，甲４，５には，電極間の空間（放電領域）に強制的
にレーザガスを循環させながらレーザ光を得る装置においては，繰り返
し周波数に応じてレーザガスのガス速度が設定される技術が開示されて
おり，これによれば，当該技術は，本願の優先日当時の周知技術であっ
たといえる。
そうすると，４０００Ｈｚの繰り返し数でパルスレーザを生成する引
用発明において，ガス速度を，繰り返し数である４０００Ｈｚに応じた
ものに設定することは，当業者が適宜なし得る程度のことである。
ここで，上記のとおり，引用発明において「第１（第２）のレーザ，
ガス…実質的に全てを…除去し得る」ガス速度に設定することは，当業
，，，者が容易に想到し得る程度のことであるから結局引用発明において
「第１（第２）のレーザガスのガス速度」を「４０００Ｈｚの繰り返，
し数でレーザガスを生成する時に…実質的に全てを…除去し得る」もの
に設定し，これにより相違点１に係る本願発明の構成を得ることは，当
業者が容易になし得たものというべきである。
したがって，引用発明において，４０００Ｈｚの繰り返し数でレーザ
パルスを生成するに当たり，第１（第２）のレーザガスのガス速度を，
放電によって生成されたイオンの実質的に全てを，次のパルスに先立ち
第１（第２）の放電領域から除去し得るガス速度に設定することは，当
業者が容易に着想できたことであるとした審決（１４頁５行∼１６行）
の判断に誤りはない。
原告は，本願発明は，高い繰り返し周波数を採用したため，放電領域
から実質的に全ての残存ガスを除去し，生成されたイオンを実質的に除
去しようとするものである，として「次のパルスに関して丁度良い」，
程度に残存ガスの除去を図る引用発明との相違を主張する。
しかし，本願明細書には「ＭＯＰＡの好適な実施例においては，…，
４０００Ｈｚ又はそれ以上のパルス率で動作できるのにするためのガス
流を作り出す（段落【００１０）との一般的な記載，ガス速度につ。」】
いて「約８０ｍ／ｓの速度のレーザガス流（段落【００１７「最」】），
大約６７ｍ／ｓのガス流（段落【０１１７）及び「６７ｍ／秒のガス」】
流（段落【０１２１）との具体的な値の記載があるにとどまり，高い」】
繰り返し周波数を採用することと，放電領域から実質的に全ての残存ガ
スを除去することとの関係を窺わせる記載は存在しないから，原告の主
張は，本願明細書の記載に基づかないものである。
これをひとまずおくとしても，上記のとおり，引用発明において，放
電によって生成されたイオンを，次のパルスに先立ち，できる限り除去
することは，当業者が当然考慮する程度のことであって，引用発明にお
いて「第１（第２）のレーザガス…実質的に全てを…除去し得る」ガ，
ス速度に設定することは，当業者が容易に想到し得る程度のことである
から，原告の上記主張は，審決（１４頁５行∼１６行）の判断を左右す
るものではない。
さらに原告は，引用発明には，本願発明の構成である「放電によって
生成されたイオンの実質的に全てを，…除去し得る…ガス速度を作り出
す（第１及び第２の）ファン」は一切記載も示唆もされていないので，
引用発明の第１第２のブロアは本願発明の第１第２のファ「（）」「（）
ン」に相当するものではないと主張する。
原告の上記主張は，一致点の誤認に基づく相違点の看過をいうものと
解される。
しかし，審決は，引用発明の「第１（第２）のブロア」なる構成が本
願発明の「第１（第２）のファン」なる構成に相当すると判断し（１１
頁９行∼１８行「放電によって生成されたイオンを，…除去し得る…），
ガス速度を作り出す」限りにおいて両者が一致すると認定した（１１頁
２５行∼３０行）のであって，除去されるイオンが，放電によって生成
されたイオンの「実質的に全て」であることまで一致すると認定してい
ないことは，審決が，本願発明の構成である「第１（第２）のレーザガ
」「『，スのガス速度が放電によって生成されたイオンの実質的に全てを
次のパルスに先立ち』…除去し得る」点を相違点１として認定した（１
３頁１７行∼２９行）上で，相違点１について判断したものであること
からも明らかである。
したがって，審決が相違点を看過したものということはできない。
そして，審決の相違点１の判断に誤りのないことは，上記のとおりで
ある。原告の主張は，審決を正解しないものであって，失当である。
ウ(ア)加えて「第１（第２）のファン」の構造について，引用発明の記，
載された引用刊行物（甲３）には，図１４Ａ及び図１４Ｂとともに以下
の記載がある。
「００２１】ファン改良【
本発明のこの好ましい実施形態は，従来技術のガスサーキュレータに
おける大きな改良を含んでおり，レーザの性能を大きく改善する。こ
れらの改良は，鑞付けなしのブロワーブレード構造の構築である。共
鳴の影響を大幅に低減する非対称ブレード配置と，改良されたベアリ
ングである。
…
【００２４】ファン構造設計における改良は，図１４Ａに示したよう
な非対称ブレード配置を必要とする。ファンブレード構造が１６の個
々に加工されたもので形成され，若しくは，２３のブレードを備える
各セグメントを有するカートセグメントである図１４Ｂに示したよう
な変形実施形態は，°／（×）だけ，又は，隣接するセグ3601523
メントに対して約１°だけ各セグメントを回転することである（６。」
頁９欄３８行∼同１０欄３９行）
(イ)上記において「ファンブレード構造が１６の個々に加工されたも，
ので形成され，若しくは，２３のブレードを備える各セグメントを有す
360るカートセグメントである図１４Ｂに示したような変形実施形態は，
°／（×）だけ，又は，隣接するセグメントに対して約１°だけ1523
各セグメントを回転」したもの及び「図１４Ａに示したような非対称ブ
レード配置」したものは，それぞれ，本願明細書の段落【０１２１】及
び図面【図１８Ａ】に記載の「斜視図を図１８Ａに示す。ブレード構，
造は５インチ径を有し，中実アルミニウム製合金６０６１−Ｔ６棒材か
ら機械加工される。各部の個々のブレードは，図１８Ａに示すように，
隣接部と若干オフセットされている」もの及び「個々のブレードを，。
ブレード軸に対して若干角度を付け」たものに相当する。
そうすると，引用発明の「第１（第２）のブロア」のファン構造は，
本願明細書及び図面に記載の「毎秒４０００パルスまたはそれ以上の，
範囲」の繰り返し周波数での動作が可能なガス速度を作り出せるファン
と同じ構造のものである。
このことからみても審決１１頁９行∼１８行が引用発明の第，（），「
１（第２）のブロア」は，本願発明の「第１（第２）のファン」に相当
すると判断したことに誤りはない。
エ４０００Ｈｚ以上の繰り返し周波数を実現するための具体的構成につい
て
，，原告は高い流速を設定することから生じる諸問題を克服することには
当然に技術的に困難を伴うと主張し，その一例として，本願発明において
は，共振電源を採用していることを挙げ，引用刊行物（甲３）の実施例に
記載された電源を用いたのでは，４０００Ｈｚの繰り返し周波数を実現す
ることは不可能であると主張する。
しかし，上記実施例に記載された電源を用いたのでは４０００Ｈｚの繰
り返し周波数を実現することが不可能であるとの原告の主張は，それ自体
根拠を欠くものであって，失当である。そもそも，本願発明は，審決が認
，「」，定したとおりのものであるところ原告が例として挙げる共振電源は
本願発明の要旨とするものではないから，これをもって引用発明との差異
を論じることには意味がない。
しかるところ，上記のとおり，引用刊行物（甲３）の記載に接した当業
者は，引用発明にはパルスエネルギを４０００Ｈｚで作動し得るものとす
る技術思想が記載されていることを容易に首肯し得るといえる。
また，引用発明を実施するに当たり，当業者は，引用刊行物に記載され
た実施例に限らず，適宜設計的に当業者が利用可能な手段を採用し得るも
のというべきところ，引用刊行物にレファレンスとして組み入れられ，繰
り返し周波数を５０００Ｈｚ程度またはそれ以上とする技術思想が明示さ
れている上記乙６の９欄５４行∼１０欄３行には，以下の記載がある。
「共振充電
本発明の好ましい実施例において，図１および図２に示した第一の
好ましい実施例について説明した二つの整流器，一つのインバータお
よび一つの変圧器を利用する電源モジュールが，規格品の電源および
共振充電回路で置換される。この後者のアプローチは，充電キャパシ
タの遥かに速い充電を提供する。
第一の共振充電器
この好ましい実施例を示す電気回路が図９Ａに示されている。この
場合，の入力およびの出力を有す480VAC/40amp1200VDC50amp
る標準のキャパシタ充電電源が使用される。このような電源は，200
，，およびのような供給業者から入手可能でEcgarMaxwellKaiserAle
ある」。
上記によれば，引用発明の出願当時の技術水準として，原告のいう共振電
源を用いる技術が存在していたものといえるから，電源の構成をもって引用
発明が実施不可能であるということはできない。
第４当裁判所の判断
１請求原因()（特許庁における手続の経緯，()（発明の内容，()（審決123））
の内容）の各事実は，いずれも当事者間に争いがない。
２取消事由の有無
()原告は，審決が本願発明と引用発明との相違点を看過したものであると1
し，具体的には，①本願発明の第２のレーザユニットは「増幅器」として構
成されているのに対し，引用発明の第２のレーザユニットは「発振器」で構
成されている点，②引用発明は繰り返し周波数が１０００Ｈｚであるのに対
し，本願発明は４０００Ｈｚ以上という極めて高い繰り返し周波数を対象と
したシステムであり，かかる繰り返し周波数を実現するために，従来には存
在し得なかった非常に高いガス流速を設定して，放電領域内から実質的に全
ての残存ガスを除去するものである点，の２点が看過された相違点である旨
主張するので，以下検討する。
ア本願明細書（甲２２〔特許願〕及び甲２〔平成１７年１月１２日付け手
続補正書）には，以下の記載がある。〕
(ア)特許請求の範囲の請求項１は，前記第３，１()記載のとおりであ2
る。
(イ)発明の詳細な説明の記載
・「本発明は，放電ガスレーザ，特に，超狭帯域・高反復率・種注入
式のガス放電型レーザに関する。…（段落【０００１）」】
・「従来の技術】【
放電ガスレーザ
放電ガスレーザは周知のものであり，１９６０年代にレーザが発
明されて間もない頃から現在まで広く利用されている。２つの電極
間の高電圧放電によりレーザガスが励起されることにより，ガス状
の利得媒体が生成される。この利得媒体の入った共振空洞は，光の
誘導増幅を可能とし増幅された光がレーザビームとして取り出され
るこれら放電ガスレーザの多くはパルスモードで作動される段。。」（
落【０００２）】
・「エキシマレーザ
エキシマレーザは，放電ガスレーザの内の特定形式であり，１９
７０年代半ばから知られている。集積回路パターン転写に有用なエ
キシマレーザの詳細は，１９９１年６月１１日発行の『Ｃｏｍｐａ
ｃｔＥｘｃｉｍａＬａｓｅｒ』と題する米国特許第５，０２３，
８８４号（以下「８８４特許」という）に記載されている。この特‘
許は出願人の雇用主に譲渡されている。尚，この特許を本明細書の
参考文献として参照されたい。上記‘８８４特許に記載されている
エキシマレーザは，高反復率（高繰返し率）パルスレーザである。
これらのエキシマレーザが集積回路パターン転写に使用される際に
は，通常『２４時間体制で』時間当り何千個もの高価な集積回路を，
生産する集積回路製造ラインで稼動される。従って，その停止時間
は非常に高くつく可能性がある。このため，構成部品の大部分は，
数分以内で交換可能なモジュールで各々構成される。通常，パター
ン転写に使用されるエキシマレーザでは，出力ビームの帯域幅を数
。『』，，ピコメートルまで狭める必要があるこの線幅狭小化は通常
レーザの共振空洞の背面を形成する線幅狭小化モジュール（線幅狭『
』『』）。小化パッケージ又はＬＮＰと呼ばれるにおいて行なわれる
このＬＮＰは，プリズム，ミラー，回折格子等の繊細な光学素子で
構成される。…（段落【０００３）」】
・「種注入
（エキシマレーザシステムを含む）ガス放電型レーザシステム
の帯域幅を狭めるための公知手法には，狭帯域『種』ビームを利得
媒体に注入するものがあるこのようなシステムの１つでは種ビー。，
ムを生成する『主発振器』と呼ばれるレーザは，第１の利得媒体に
おいて非常に狭い帯域幅即ち超狭帯域幅のビームを作り出すように
設計され，このビームが第２の利得媒体において種ビームとして使
用される。第２利得媒体が電力増幅器として機能する場合，このシ
ステムを，主発振器電力増幅器（ＭＯＰＡ）システムという。第２
利得媒体自体が共振空洞を有する場合，このシステムを，種注入発
振器（ＩＳＯ）システム又は主発振器電力発振器（ＭＯＰＯ）シス
テムといい，この場合，種レーザを主発振器と呼び，下流側のシス
テムを電力発振器と呼ぶ。２つの個別システムで構成されるレーザ
システムは，同等の単一室レーザシステムに比較してかなり高価で
あり更により大きく複雑になる傾向があるそのために２室レー，。，
。」（【】）ザの商業的用途は制約されたものとなっている段落０００８
・「課題を解決するための手段】【
本発明は，約４，０００Ｈｚ又はそれ以上のパルス率及び約５ｍ
Ｊから１０ｍＪ又はそれ以上のパルスエネルギーで，高品質のパル
スレーザビームを生成することができる種注入モジュール式のガス
放電型レーザシステムを提供する。２つの個別放電室が設けられ，
それらの一方の放電室は，超狭帯域種ビームを生成する主発振器の
一部となり，生成された超狭帯域種ビームが第２の放電室において
増幅される。各放電室は，主発振器における波長のパラメータ及び
増幅室におけるパルスエネルギーのパラメータの双方を最適化でき
るように個々に制御することができる。好適な実施形態では，ＭＯ
ＰＡとして構成されるとともに，特に集積回路パターン転写用の光
源として使用するために設計されたＡｒＦエキシマレーザシステム
とされる。ＭＯＰＡの好適な実施形態においては，各放電室は単一
の横流ファンを備え，この横流ファンは，各パルス間で約０．２５
ミリ秒未満の時間内に放電領域から残存物を除去することによって
４０００Ｈｚ又はそれ以上のパルス率で動作できるのにするための
ガス流を作り出す。主発振器には，線幅狭小化パッケージが設けら
れ，この線幅狭小化パッケージは，４０００Ｈｚ又はそれ以上の反
復率でパルス対パルスに基づいて中心線の波長を制御するとともに
０．２ｐｍ（ＦＷＨＭ）未満の帯域幅を作り出すことができる超高
速調整ミラーを備える（段落【００１０）。」】
・「発明の実施の形態】【
第１実施形態
全体レイアウト−３波長対応プラットホーム
図１は，本発明による第１の好適な実施形態の斜視図である。本
実施形態は，ＭＯＰＡレーザシステムとして構成された種注入狭帯
域エキシマレーザシステムである。このシステムは，特に，集積回
路パターン転写用の光源としての使用するために設計されている。
従来型パターン転写レーザと比較して本実施形態において例証され
る本発明の主要改良点は，種注入，及び，特に，２つの個別放電室
（）。」を有する主発振器電力増幅器ＭＯＰＡ構成を利用した点にある
（段落【００１１）】
・「本第１実施形態は，アルゴン−弗化物（ＡｒＦ）エキシマレーザ
システムであるが，本システムは，クリプトン−弗化物（ＫｒＦ，）
ＡｒＦ，又はフッ素（Ｆ２）レーザ部品のいずれにも適応するよう
に設計されたモジュール型プラットホーム構成を使用している。こ
のプラットホーム設計によって，これら３種類のレーザのいずれに
対しても，同一の基本キャビネット及び多くのレーザシステムモジ
ュールや部品を使用することができる。これら３種類のレーザ設計
が，ＫｒＦについて約２４８ｎｍ，ＡｒＦについて約１９３ｎｍ，
そして，Ｆ２について約１５７．６３ｎｍの波長を持つレーザビー
ムを生成することから，出願人は，このプラットホームを『３波長
対応プラットホーム』と呼ぶ。また，本プラットホームは，３つの
波長の各々において上記装置の大手メーカ全ての最新パターン転写
装置にこのレーザシステムを適合させるための接続部品を備えるよ
うに設計される（段落【００１２）。」】
・「図１は，この好適なレーザシステム２の主要部品を示す。主要部
品としては以下のものが含まれる。
（１）ＡＤ／ＤＣ電源モジュールを除くレーザの全モジュールを収納
するように設計されたレーザシステムフレーム４（２）ＡＣ／ＤＣ，
高電圧電源モジュール６（３）４０００充電パルス／秒の繰返し数，
で約１０００ボルトに２つの充電コンデンサ列を充電するための共
振充電器モジュール７（４）各々が上記充電コンデンサ列の１つを，
備えるとともに，各々が充電コンデンサ列に蓄積されたエネルギー
によって約１６，０００ボルトの非常に短い高電圧電気的パルス及
び約１μｓの持続時間を形成する整流子を備える２つの整流子モジ
，（），ュール８Ａ及び８Ｂ５フレーム４内に上下配置で取り付けられ
主発振器モジュール１０及び電力増幅器モジュール１２から成る２
つの放電室モジュール。各モジュールは，放電室１０Ａ及び１２Ａ
と各放電室の上面に取り付けられた圧縮ヘッド１０Ｂ及びと１２Ｂ
。，，を備える各圧縮ヘッドは整流子モジュールからの電気パルスを
それに対応して電流増加させながら約１μｓから約５０ｎｍに（時
間に関して）圧縮する（６）線幅狭小化パッケージ１０Ｃ及び出力。
カプラユニット１０Ｄを含む主発振器光学部品（７）種ビームを整，
形して電力増幅器に導くとともに，ＭＯ出力電力をモニタする光学
部品及び計器を備えた波面操作ボックス１４（８）波長モニタ，帯，
域幅モニタ，及びエネルギーモニタを備えたビーム安定器モジュー
ル１６（９）シャッタモジュール１８（１０）ガス制御モジュー，，
ル２０，冷却水配送モジュール２２，及び，換気モジュール２４が
，（），設置される補助キャビネット１１関連機器接続モジュール２６
（），（）。」１２レーザ制御モジュール２８及び１３状態ランプ３０
（段落【００１３）】
・「本明細書において詳細に説明するこの好適な実施形態は，上述し
たＡｒＦ・ＭＯＰＡ構成である。この特定構成を他の構成に変える
，。，ために必要な変更点の一部は以下のものであるＭＯＰＡ設計は
第２放電室の周辺に共振空洞を作ることによってＭＯＰＯ設計に変
更することができる。これを行うために数多くの手法を利用するこ
とができるが，その一部は，本明細書に参考文献として記載した関
連特許出願で論じられている。ＫｒＦレーザ設計は，ＡｒＦ設計と
極めて類似したものとなる傾向があるので，本明細書に記載された
構成の大部分はＫｒＦレーザに直接適用することができる。実際，
，両レーザの波長が回折格子の列間隔の整数倍数に相当することから
ＡｒＦレーザ動作に使用される好適な回折格子は，ＫｒＦレーザで
も正常に機能する（段落【００１４）。」】
・「この設計をＦレーザに使用する場合，固有Ｆ２スペクトルは一２
方が選択されて他方が除外される２つの主要線幅を含むため，ＭＯ
ＰＡ又はＭＯＰＯのいずれか，好ましくは，線幅セレクタユニット
が本明細書に記載されたＬＮＰの代わりに使用される段落０，。」（【
０１５）】
・「電力増幅器は，電力増幅器放電室の放電領域を通る２つのビーム
経路用に構成される。図３Ａ及び図３Ｂは，主発振器及び電力増幅
器を通るビーム経路を示す。図３Ａに示すように，数回発振された
ビームは，ＭＯ１０の放電室１０Ａ及びＬＮＰ１０Ｃを通過し，Ｌ
ＮＰ１０Ｃを通過時に大幅に線幅狭小化される。線幅狭小化された
種ビームは，ミラー１４Ａによって上方に反射され，ミラー１４Ｂ
によって（電極の向きに対して）僅かなスキュー角を持って水平に
反射され放電室１２Ａを通過する。２つのミラー１２Ｃ及び１２Ｄ
は，電力増幅器の後端部にて，図３Ｂに示す電極の向きに一致して
水平方向にＰＡ放電室１２Ａを貫通する第２経路に対して上記線幅
狭小化種ビームを反射する（段落【００１９）。」】
・「共振充電
出願人は，Ｃの超高速充電のための２つの形式の共振充電システ０
ムを利用した。これらのシステムは，図５Ａ及び図５Ｂを参照して
説明することができる。
共振充電器
。，この好適な共振充電器を示す電気回路を図５Ａに示すこの場合
交流２０８Ｖ／９０ａｍｐ入力及び直流１５００Ｖ・５０ａｍｐ出
力を有する標準直流電源２００が使用される。電源は，約６００Ｖ
から１５００Ｖに調整可能な直流電源である。電源は，Ｃ−１に直
，。接取り付けられるので電源への電圧フィードバックが不要となる
，。電源がオンされるとＣ−１コンデンサの電圧が一定に調整される
システムの性能は，Ｃ−１の電圧調整とは無関係な面があるので，
電源では，最も基本的な制御ループのみが必要である。第２に，電
源は，Ｃ−１の電圧が電圧設定値を下回る場合には常にシステムに
エネルギーを加えるようになっている。これによって，電源つまり
各レーザパルスが初期化される間の時間全体わたって（及び，レー
ザパルス時も，Ｃ−１からＣへの供給エネルギーを補給すること）０
ができる。これによって，従来のパルス電力システムと比較して，
電源ピーク電流に対する要件は更に緩和される。最も基本的な制御
ループを備えた電源が必要なこと，及びシステムの平均電力要件に
対して電源のピーク電流定格値を最小限に抑えることを組み合わせ
ることによって，電源コストは，推定で５０％低減される。更に，
一定電流で一定出力の電圧電源は，複数の供給元から容易に入手可
能であることから，この好適な設計によって販売業者選定に関する
自由度が生まれる。このような電源は，Ｅｌｇａｒ，Ｕｎｉｖｅｒ
ｓａｌＶｏｌｔｒｏｎｉｃｓ，Ｋａｓｉｅｒ及びＥＭＩから販売さ
れている（段落【００２２）。」】
・「システム精度
ＩＧＢＴスイッチ２０６が開放された後，インダクタ２０８の磁
場内に蓄積されたエネルギーは，束縛のないダイオード経路２１５
を介して（ＭＯ及びＰＡ用Ｃの）２つのコンデンサ列４２に移送さ０
れる。リアルタイムのエネルギー算出精度によって，コンデンサ列
４２の最終電圧に存在する変動ディザー量が決まる。本システムの
高い充電速度により，過大なディザーが存在して±０．０５％の目
標とするシステム調整要求量を満足することができない可能性があ
る。その場合は，例えば，以下で説明するデキューイング（Ｄｅ−
Ｑｉｎｇ）回路又はブリードダウン回路など，追加の回路を利用す
ることができる（段落【００２４）。」】
・「第２の共振充電器
第２の共振充電器システムを図５Ｂに示す。この回路は図５Ａに示
すものと類似している。主な回路要素は以下のものである。
Ｉ１−定ＤＣ電流出力を有する三相電源３００，
Ｃ−１−既存のＣコンデンサ４２と同容量又はそれより容量の０
大きいソースコンデンサ３０２，
Ｑ１，Ｑ２，及びＱ３−Ｃの調整電圧を充電及び維持するため０
の電流を制御するスイッチ類，
Ｄ１，Ｄ２，及びＤ３−電流を一方向に流すためのダイオード，
Ｒ１及びＲ２−制御回路に電圧フィードバックするための抵抗，
Ｒ３−若干過充電が生じた際，Ｃの電圧を急速放電させるため０
の抵抗，
Ｌ１−電流を制限し電荷移送タイミングを調整するＣ−１コンデ
ンサ３０２とＣコンデンサ列４２間の共振インダクタ，及び０
制御盤３０４−回路フィードバックパラメータに基づいてＱ１，
Ｑ２，及びＱ３の開閉を指令する（段落【００２５）。」】
・「レーザ室
熱交換器
この実施形態は，４，０００パルス／秒のパルス反復率で動作す
るように設計される。パルス間の放電の影響を受けたガスの放電領
域を清掃するには，電極１８Ａと電極２０Ａとの間に最大約６７ｍ
／ｓのガス流が必要である。この速度を達成するために，横流ファ
ンユニットの径は５インチ（ブレード構造体の長さは２６インチ）
，。に設定されており回転速度は約３５００ｒｐｍに上げられている
この性能を達成するために，実施形態は，協働して最大４ｋＷの駆
動電力をファンブレード構造体に送る２つモータを利用する。４０
００Ｈｚのパルス速度で，放電によって約１２ｋＷの熱エネルギー
がレーザガスに付与される。ファンによって付加された熱と共に放
電によって生成された熱を除去するために，４つの個別の水冷式フ
ィン付き熱交換器ユニット５８Ａが設けられる。以下，モータ及び
熱交換器について詳細に説明する。本発明の好適な実施形態は，図
４に全体的に示す４つの水冷式フィン付き熱交換器５８Ａを利用す
る。これらの熱交換器の各々は，図１で５８に示す単一の熱交換器
に多少類似するが実質的な改良点がある（段落【０１１７）。」】
・「ブロアモータ及び大型ブロア
本発明のこの第１の好適な実施形態では，レーザガスを循環させ
る２台のモータによって駆動される大型横流ファンが設置される。
，，，図２４に示すこの好適な配置によって４０００Ｈｚパルス間で
放電領域内の約１．７ｃｍの空間を通過し得る６７ｍ／秒のガス流
が電極間に作り出される。ファンのブレード構造の断面を図４に参
照番号６４Ａで示す。斜視図を図１８Ａに示す。ブレード構造は５
インチ径を有し，中実アルミニウム製合金６０６１−Ｔ６棒材から
。，，機械加工される各部の個々のブレードは図１８Ａに示すように
隣接部と若干オフセットされている。このオフセットは，圧力波面
の生成を防止するように予め不均一にされている。代案として（圧，
力波面の生成を防止するように）個々のブレードを，ブレード軸に
対して若干角度を付けることができる（段落【０１２１）。」】
(ウ)図面（かっこ内は【図面の簡単な説明】の記載である）
・図１（本発明の好適な実施形態の斜視図である）【】。
・図３Ａ（２経路ＭＯＰＡを示す図である）【】。
・図３Ｂ（２経路ＭＯＰＡを示す図である）【】。
・図５（パルス電力システムの他の構成を示す図である）【】。
・図５Ａ（パルス電力システムの他の構成を示す図である）【】。
・図５Ｂ（パルス電力システムの他の構成を示す図である）【】。
・図１８Ａ（好適なファンブレ−ドを示す図である）【】。
(エ)本願発明の「電力増幅器」の技術的意義について，本願発明の電力
増幅器がパワー増幅器として構成されることに争いがないところ，被告
は，パワー増幅器とはその文言から「レーザ光のパワー（出力）を増幅
する機能を有する機器であること」が一義的に明確に理解でき，発明の
詳細な説明の記載を参酌すべき特段の事情はないとして請求項１のパ，「
ワー増幅器（電力増幅器」を読み替えたもの）に関し発振機能の有無」「
を特定する記載がないから，本願発明の「パワー増幅器」は，発振機能
の有無に拘わらずレーザ光のパワー（出力）を増幅する機能を有する機
器であれば足りると主張する。
しかし「パワー増幅器」の意味について「レーザ光の出力を増幅す，，
る機能を有する機器であること」については一応理解できるものの，特
許請求の範囲の記載のみからは「パワー増幅器」について，発振機能，
の有無に拘わらずレーザ光の出力を増幅する機能を有すれば足りるも
，，のすなわち発振機能を持たないパワー増幅器に限定されるものでない
と直ちに理解することはできない。
そして上記(ア)ないし(ウ)の記載によれば，本願発明は，以下のとお
りの内容のものであることが認められる。
本願発明は，集積回路パターン転写用のレーザ光源に用いられる放電
ガスレーザ（段落【０００３・００１１）であり，特に超狭帯域・】【】
高反復率・種注入式のガス放電型レーザに関するものである（段落【０
００１。この放電ガスレーザのうちの特定の形式であるエキシマガス】）
レーザは，高反復率パルスレーザとして実用に供されるところ，その装
置は通常２４時間体制で稼働するため一部の構成が停止すると工場全体
に大きな影響を及ぼすこととなる。そこでこれら装置は，簡単に一部分
のみの交換が可能なモジュールの集成として構成される（段落【０００
３【図１。このようなレーザシステムは，電源を除くレーザの全】，】）
モジュールを収納するレーザシステムフレーム，電源モジュール，共振
，（【】）。電源モジュール放電室モジュール等から構成される段落００１３
本願発明は，Ａ）第１のレーザユニット，Ｂ）第２のレーザユニット，
Ｃ）パルス電力装置，Ｄ）レーザビーム測定・制御装置から成り，第１
のレーザユニットは主発振器として構成され，第２のレーザユニットは
（）（）。電力増幅器パワー増幅器として構成される特許請求の範囲の記載
そして，本願発明の第２のレーザユニットは，上記のとおり電力増幅
（）（），器パワー増幅器として構成される特許請求の範囲の記載ところ
従来公知のシステムにおいては，第２利得媒体（第２のレーザユニット
に相当）が電力増幅器として機能する場合，主発振器電力増幅器（ＭＯ
ＰＡ）システムといい，第２利得媒体が共振空洞を有する場合，主発振
器電力発振器（ＭＯＰＯ）システムという（段落【０００８。】）
その上で本願は，好適な実施形態では「ＭＯＰＡ（第２のレーザユ」
ニットが増幅器であるもの）として構成される（段落【００１０）と】
するがＭＯＰＡ設計は第２放電室の周辺に共振空洞を造ることによっ，，
てＭＯＰＯ設計（第２のレーザユニットが発振器であるもの）に変更す
ることができる（段落【００１４）とし，ＭＯＰＡ構成とＭＯＰＯ構】
成のいずれをも採用しうるレーザについての開示もある（段落【００１
５。そして特許請求の範囲には，第２のレーザユニットに関しては電】）
力（パワー）増幅器とのみ記載されており，発振機能を有しないものに
限定する旨の記載はない。
(オ)レーザーに関する文献である甲１５∼１７には，以下の記載がある
（本願の優先日〔平成１２年１０月６日〕以後に発行された文献もある
が，本願優先日当時の技術水準を示すものとして争いがない。）
ａ甲１５（黒澤宏「レーザー基礎の基礎・平成１８年１０月１９日」
第１版第３刷発行・株式会社オプトロニクス社・３６頁∼３８頁）
「…反転分布を生じた媒質中を，その準位間のエネルギー差に相当
する振動数の光が伝搬するとき，誘導放出が起こり，光は増幅され
てレーザー発振に至ることになります。…
この場合，媒質外から光を入射させなくても，媒質中で生じた自
然放出光を”たね”に誘導放出が起こります。ただし，媒質の単位
長さ当たりの増幅度は小さいので，レーザー発振を起こさせるため
には，非常に長い媒質が必要になります。しかしながら，実際にそ
のような長い媒質を作ることは不可能で，また実用的でもないこと
から，短い媒質の両端に反射鏡を置いて，光を何回もこの媒質中を
往復させることによって，媒質との作用長を実質的に長くしていま
す。このように２枚１組の反射鏡によって光を反射往復させる仕組
みを”光共振器”と言います」。
ｂ甲１６（潮秀樹「図解入門よくわかる光学とレーザーの基本と仕
組み・２００７年〔平成１９年〕９月１日第１版第２刷発行・株式」
会社秀和システム・２１２頁）
「レーザー発振の仕組み
すべてのレーザーは，レーザー媒質と平行な２枚の鏡からでき＊
ています。レーザー媒質は，反転分布状態になって誘導放出により
光を放出する物質です。
…最初にレーザー媒質から自然放出された光は鏡で反射され，
レーザー媒質に入射します。誘導放出で増幅された光が再び鏡で反
射されレーザー媒質に入射します。これを繰り返すことにより，ね
ずみ算的に光が増幅され，…」
ｃ甲１７（田幸敏治，大井みさほ「光学技術シリーズ１２レーザー
入門」１９９７年〔平成９年〕６月１０日初版第６刷発行・共立出版
株式会社・１３頁∼１４頁）
「…このように，光共振器は，光をその中に閉じ込め，定在波を形
成し出てくるレーザー光の特性を決める作用をするはじめのきっ，。
かけは自然放出光であって，それが誘導放出光を引きだす…軸方向
に進む光は誘導放出光を引きだすことによって増幅されながら反射
鏡間を往復し続け，共振器の共振モードに規定される定在波を形成
し，発振に至るのである」。
(カ)また，発振器に関する技術文献である甲２０，２１には，以下の記
載がある（本願の優先日以後に発行された文献につき本願優先日当時の
技術水準を示すものとして争いがない。）
ａ甲２０（物理学辞典・１９９６年〔平成８年〕１０月１５日改訂「」
第３刷発行・株式会社培風館・１６２１頁）
「発振器［英…］外部入力信号なしに特定の周波数のoscillator,
波形を定常的に発生するものをいう．増幅器の出力が特定の周波数
に対し十分な利得で正帰還されて発振する．帰還回路を抵抗とコン
デンサーで構成したものがＣＲ発振器で約１ＭＨｚ以下の低い周波
発生に適している．帰還回路がコイルとコンデンサーからなる共振
回路で構成されたものをＬＣ発振器といい，通常０．１ＭＨｚ程度
以上の高い周波数に適している．…」
ｂ甲２１（理化学辞典・２００３年〔平成１５年〕１１月１０日第「」
５版第７刷発行・株式会社岩波書店・１０５２頁）
「発振器［英…］周期性をもつ信号を持続的に発生すoscillator,
る装置ふつうは電気信号の場合をさし増幅器に正のフィードバッ．，
＊＊
クを組み合わせた反結合型が多く，発振条件はナイキストの定理
で求められる．代表的な正弦波発振器は増幅器に真空管またはトラ
ンジスターを用いており，出力の位相は入力とπだけ違っているの
で，ＲＣ回路を組み合わせて位相をさらにずらしてフィードバック
すれば，適当な周波数に対して発振条件がみたされ，超低周波から
１０ＭＨｚ程度までの発振が可能である．…」
(キ)そして，本願の優先日（平成１２年１０月６日）当時の「発振器」
ないし「増幅器」に関する技術常識を示す証拠として被告が提出する乙
１∼５には，以下の記載がある（下線は判決で付記。）
ａ乙１（特開平９−８３８９号公報。発明の名称「狭帯域化エキシマ
レーザー発振器，出願人三菱重工業株式会社，公開日平成９年１」
月１０日）の【発明の詳細な説明】
・「従来の技術】エキシマレーザー発振器は，エキシマ（二つ【
の原子が付着したゆるやかな結合状態の分子）状態から基底状
態へ，紫外域の誘導放出光を出して遷移することを利用したも
のである。このエキシマレーザー発振器は，一般には，放電に
より励起している。つまり，レーザー管には希ガスとハロゲン
元素とでなるレーザー媒質（混合ガス）が封入されており，放
電を均一化し効率を上げるため予備放電電極により予備放電を
した後，主放電電極がグロー放電して，レーザー発振が行なわ
れる（段落【０００２）。」】
・「ここで従来のエキシマレーザー発振器の一例を，図４を基に
説明する。図４に示すようにこのエキシマレーザー発振器は，
主に発振器１０と増幅器２０とで構成されている（段落【０。」
００３）】
・「このうち発振器１０では，レーザー媒質（希ガスとハロゲン
元素との混合ガス）１１が封入されたレーザー管１２を間にし
て，一対のアパーチャ（孔直径が２∼３）１３ａ，１３ｂmm
が配置されている。更にアパーチャ１３ａの外側（図中左側）
，（）に出力鏡１４が備えられアパーチャ１３ｂの外側図中右側
にビーム拡大素子プリズム１５及び波長分散性光学素子反（）（
射式回折格子）１６が備えられている（段落【０００４）。」】
・「レーザー管１２の放電電極（図示省略）の放電により生じた
光は，出力鏡１４と波長分散性光学素子１６とで反射され両者
の間で往復する。つまり出力鏡１４と波長分散性光学素子１６
とにより光共振器が構成されている。３つのプリズムで構成し
たビーム拡大素子１５は，アパーチャ１３ｂから出力された光
（）。を拡大光断面積を拡大して波長分散性光学素子１６に送る
波長分散性光学素子１６は，回折現象を利用して入射光を分光
し，特定の波長（次数）の光成分のみを反射する。反射した光
は，ビーム拡大素子１５により光断面積が絞られてアパーチャ
１３ｂに戻っていく。よって光は特定の波長幅に絞られて狭帯
域化される。また，光はアパーチャ１３ａ，１３ｂを通過する
ことにより拡がり角が制限されて高次の横モード発振が制限さ
れ，光の質が向上する。結局，波長分散性光学素子１６の波長
選択機能と，アパーチャ１３ａ，１３ｂの横モード発振制限機
能とが相俟って，光が狭帯域化しきれいなスペクトルが得られ
る。更に光はレーザー管１２を通過する毎に増幅される。そし
て光強度が発振しきい値を越えたら，出力鏡１４からレーザー
光Ｌが出力される（段落【０００５）。」】
・「一方，増幅器２０では，レーザー媒質２１が封入されたレー
ザー管２２を間にして，孔付き凹面鏡２３ａ及び凸面鏡２３ｂ
が相対向して配置されている。この鏡２３ａ，２３ｂにより不
，，安定共振器２３が形成されており凸面鏡２３ｂの中心部には
レーザー光Ｌつまり発振波長の光成分を１００％反射するコー
ティングが施こされている。更に，レーザー光Ｌをレーザー管
２２に導くミラー２４，２５が備えられている（段落【００。」
０６）】
・「この増幅器２０では，発振器１０から出力されたレーザー光
Ｌを，ミラー２４，２５で導びいてレーザー管２１に通過させ
ることにより，光強度を増幅する。更にレーザー光Ｌを不安定
共振器２３の凸面鏡２３ａ及び凹面鏡２３ｂで反射させること
により，光断面積の大きな平行光線としている。よって光断面
積の大きな平行光線となった光強度の高いレーザー光Ｌが出力
（凸面鏡２３ｂから図中右方に出力）される（段落【０００。」
７】
・【図４】
ｂ乙２（特開平２−１２９８０号公報，発明の名称「狭帯域レーザ発
振装置，出願人株式会社東芝，公開日平成２年１月１７日）」
・「従来の技術）（
半導体露光用縮小投影露光装置の光源として狭帯域エキシマ
レーザが用いられつつあるが，この場合高出力を得るためにレー
ザ光発振器から発振されたレーザ光の出力を増幅する増幅部を使
用したインジェクションロックの技術が用いられる。第５図に従
来のインジェクションロック型の狭帯域レーザ発振装置を示す。
このレーザ発振装置１は，主発振部２と増幅部３とからなり，
双方２，３ともがエキシマガスレーザ媒質を用いる。主発振部２
はエキシマガスレーザ媒質を励起してレーザ光を発光させる放電
管４を挟んで対峙する回折格子５および出力ミラー６が設けられ
ている。
上記回折格子５と放電管４との間には上記放電管４側にピン
ホール７を有するプレート８と，回折格子５側に設けられ図示し
ないプリズムまたはエタロン等によって構成された波長選択素子
９とが設けられ安定型のレーザ共振器が形成されている。
そして，上記主発振部２から発振されたレーザ光は第１および
第２の高反射ミラー１０，１１により光軸が折曲され，増幅部３
に入射される。
この増幅部３は上述のごとくエキシマガスレーザ媒質が封入さ
れた放電管１２と，この放電管１２を挟むように対峙して凸面ミ
ラー１３および凹面ミラー１４とが配設されている。ここで，上
記凹面ミラー１４の中央部には約１ｍｍの直径の貫通孔１５が穿
設されており上記貫通孔１５に上記主発振部２で発振されたレー，
ザ光が入射されるようになっている。
上述のように構成されたレーザ発振装置１はまず，主発振部２
によってスペクトル幅０００３ｎｍ平均出力００１ｗのレー．，．
ザ光を発振する。これは，上記放電管４で発光された光を上記回
折格子５，波長選択素子９およびプレート８のピンホール７等を
，，（．通過させることにより単一光を発振状態とし所定の出力０
０１ｗ）を上記出力ミラー６から上記第１の高反射ミラー１０に
向けてレーザ光を照射する。そして，第１の高反射ミラー１０に
反射されたレーザ光は第２の高反射ミラー１１に反射されること
で上記増幅部３に入射される。この増幅部３に入射されるレーザ
光は凹面ミラー１４の貫通孔１５から不安定型共振器１３，１４
間に入射され，この共振器１３，１４間でビームを拡大しながら
複数回反射されることで，インジェクションロックされ狭いスペ
クトル幅を保ちながら，出力が増幅され，最終的に凸面ミラー１
３側から出射する。この増幅作用によりスペクトル幅は主発振部
２から発振されたときと同じ０．００３ｎｍで，平均出力が５０
ｗの狭帯域レーザ光を得ることができる（１頁左下欄２０行∼。」
２頁右上欄１１行）
・第５図
ｃ乙３（特開平１−３０５５２１号公報，発明の名称「露光装置，」
出願人株式会社ニコン，公開日平成元年１２月８日）
・「もう一つのタイプのレーザ光源は，インジェクションロック型
と呼ばれるものであり，第８図のように発振器と増幅器に分かれ
ている。発振器において共振器用ミラー（１０２ａ，１０２ｂ）
か配置されている点は前述した安定共振型と同様であるが，この
タイプでは発振器内に所定の領域の波長を選択するためのエタロ
ン，回折格子等の波長選択素子（１０６）か備えられているとと
もに，放電管１００の両端にレーザビームを所定の領域で遮断す
るアパーチャー（１０４ａ，ｌ０４ｂ）か配置されており，発振
されるレーザビームのスペクトルの半値幅が狭く（△λ∼０．０
０１ｎｍ，即ち単色性が向上している。さらに発振されたレーサ）
ビームはミラー（１０８）で曲折されて増幅器に入射し，第２の
放電管（１１０）の両端に凸状面と凹状面を向きあわせて配設さ
れた不安定共振用ミラー（１１２ａ，１１２ｂ）によって増幅さ
れて出射される。この型のレーサ光源から出射されるレーザビー
ムの特徴の一つは，発振器において単色性が高められており時間
的コヒーレンスが高く，投影レンズ７において色消しの必要がな
いということである（５頁左上欄１３行∼同右上欄１３行）。」
・第８図
（「」，ｄ乙４特開平１−２５９５３３号公報：発明の名称照明光学装置
出願人株式会社ニコン，公開日平成元年１０月１７日）
「もう一つのタイプのレーザ光源は，インジェクションロック型と
呼ばれるものであり，第７図のように発振器と増幅器に分かれて
いる。発振器において共振器用ミラー（１０２ａ，１０２ｂ）が
配置されている点は前述した安定共振型と同様であるが，このタ
，イプでは発振器内に所定の領域の波長を選択するためのエタロン
（），回折格子等の波長選択素子１０６が備えられているとともに
放電管１００の両端にレーザビームを所定の領域で遮断するア
パーチャ（１０４ａ，１０４ｂ）が配置されており，発信される
（．），レーザビームのスペクトルの半値幅が狭くΔλ≈０００１ｎｍ
即ち単色性が向上している。さらに発振されたレーザビームはミ
ラー（１０８）で曲折されて増幅器に入射し，第２の放電管（１
１０）の両端に凸状面と凹状面を向きあわせて配設された不安定
共振器用ミラー（１１２ａ，１１２ｂ）によって増幅されて出射
される。この型のレーザ光源から出射されるレーザビームの特徴
の一つは，発振器において単色性が高められており時間的コヒー
レンスが高く，投影レンズＰＬにおいて色消しの必要がないとい
うことである（５頁左上欄８行∼同右上欄９行）。」
ｅ乙５（特開平１１−２９８０８３号公報，発明の名称「注入同期型
狭帯域レーザ，出願人株式会社小松製作所，公開日平成１１年１」
０月２９日）
・「発明の実施の形態】以下，図面を参照して本発明の実施の形【
態について説明する（段落【００２８）。」】
・図１は本発明の第１の実施の形態であるインジェクションロッ「，
。」（【】）ク型狭帯域レーザの全体構成を示す図である段落００２９
・「図１において，このインジェクションロック型狭帯域レーザは
オシレータ段Ａ，波長変換部１２，および増幅段Ｂとから構成さ
れる（段落【００３０）。」】
・「オシレータ段Ａは，ポンピングレーザ１１と，これによって励
起され，基本波光Ｌ１を出力するチタンサファイヤレーザ１０と
からなる（段落【００３１）。」】
・「ポンピングレーザ１１としては，アルゴンイオンレーザ，ＹＡ
Ｇレーザ，ＹＬＦレーザ等が用いられ，アルゴンイオンレーザの
場合は４８８ｎｍ，５１５ｎｍ等のマルチライン，ＹＡＧレーザ
の場合は第２高調波（５３２ｎｍ，ＹＬＦレーザの場合は第２高）
調波５２７ｎｍがポンピング光として使用される段落０（）。」（【
０３２）】
「，・チタンサファイヤレーザ１０の詳細構成については後述するが
ポンピングレーザ１１からのポンピング光が増幅媒体３としての
，，．チタンサファイヤロッドに入射されると増幅媒体３は７７３
６ｎｍのレーザ光を含む光を発生し，リアミラー１とフロントミ
ラー４とで構成される共振器とこの共振器内の波長選択素子２等
によって７７３．６ｎｍの狭帯域のレーザ光を増幅発振して基本
波光Ｌ１として波長変換部１２に出力するチタンサファイヤレー。
ザ１０内には，波長制御機能を有し，ビームスプリッタ５によっ
て基本波光Ｌ１の一部を取り出し，波長モニタ６によって基本波
光Ｌ１の波長を検出し，この検出した波長をもとに，波長コント
ローラ７がドライバ８を介して波長選択素子２及びリアミラー１
を調整して，狭帯域の７７３．６ｎｍの基本波光Ｌ１が出射され
るようにフィードバック制御される（段落【００３３）。」】
・波長変換部１２は入射された基本波光Ｌ１を和周波混合によっ「，
て４倍の高調波である１９３．４ｎｍのレーザ光に変換し，高周
波光Ｌ２として増幅段Ｂに入力する。この波長変換部１２は，非
線形光学効果をもつ波長変換素子によって実現される。例えば，
非線形光学素子を３つ用い，最初の非線形光学素子によって，入
力された波長ωをもつレーザ光は，波長ωと２ωのレーザ光を生
，（）成し次の非線形光学素子によって波長ωと波長３ωω＋２ω
のレーザ光を生成し，さらに次の非線形光学素子によって波長ω
と４ω（ω＋３ω）のレーザ光を生成し，この波長４ωのレーザ
光を透過させるミラーを用いて出力させるようにする。この高調
波光Ｌ２は，全反射ミラー１３，１４を介して増幅段Ｂに入力さ
れる（段落【００３４）。」】
・「増幅段Ｂのチャンバ２４内には，１９３ｎｍのレーザ光を発生
することができるＡｒＦガスが充填され，このＡｒＦガスをエキ
シマ状態に励起する放電電極２３を有する。入力された高調波光
Ｌ２は，凹面ミラーのカップリングホールを介してチャンバ２４
内に入力し，凸面ミラー２１を介して反射し，さらに凹面ミラー
２２に反射し，出力光Ｌ３として出力する。高調波光Ｌ２がチャ
ンバ２３内を往復する間に，誘導放出を行うことにより，高調波
光Ｌ２が増幅された出力光Ｌ３として出力される。この場合，ポ
ンピングレーザ１１，チタンサファイヤレーザ１０，及び増幅段
Ｂの放電電極２３の放電タイミングを同期させる必要がある段。」（
落【００３５）】
・【図１】
(ク)上記(オ)∼(キ)によれば，本願の優先日（平成１２年１０月６日）
当時のレーザシステムの技術分野において，増幅器とは，レーザ光を増
幅するものであると認められるところ，発振器とは，増幅器の構成に一
対の平行な反射鏡等の共振器を加え，これによる共振機能を備えた増幅
器をいうものと認められる。
そして，前記(エ)記載のとおり，本願明細書には，従来公知のシステ
ムとしてＭＯＰＡ構成とＭＯＰＯ構成があるとし，その双方を採用しう
る記載があり，特許請求の範囲には，本願発明のパワー増幅器である第
２のレーザユニットに関し，発振（共振）機能を備えない増幅器に限定
，，されると解すべき記載はないのであるから本願発明のパワー増幅器は
パワー発振器とパワー増幅器のいずれをも含むものであると認められ
る。
イ一方，引用発明の記載された甲３には，以下の記載がある。
(ア)特許請求の範囲の記載
「請求項１】少なくとも約１０００Ｈｚの繰り返し数で狭帯域パル【
スレーザビームを生成するための非常に狭帯域の高信頼性・モジュラ
製造高品質高繰り返し数ＡｒＦエキシマレーザであって，
Ａ．レーザチャンバを包含する迅速に交換可能なレーザチャンバモジ
ュールとを有し，前記レーザチャンバモジュールが，
１）２つの細長い電極と，
２）ａ）フッ素と，
ｂ）不活性ガスと，
からなるレーザガスと，
３）少なくとも２ｃｍ／ミリ秒の速度で前記電極の間で前記ガスを循
環させるためのガスサーキュレータと，を備え，
Ｂ．少なくとも１つの迅速に交換可能なモジュールからなるモジュ
ラーパルスパワーシステムとを有し，前記システムは，電源と，パル
ス圧縮及び増幅回路と，少なくとも約１０００Ｈｚの周波数で前記電
極にわたって少なくとも１４０００ボルトの高電圧電気パルスを作り
出すパルスパワー制御とを含み，
Ｃ．前記パルスパワーシステムによって提供される電圧を制御するた
めのレーザパルスエネルギ制御システムとを有し，前記制御システム
は，レーザパルスエネルギモニタと，所望のエネルギ範囲内でパルス
エネルギを有するレーザパルスを生成するのに必要な電気パルスを，
歴史的なパルスエネルギデータに基づいて計算するためのアルゴリズ
ムをプログラムされたコンピュータプロセッサとを含む，レーザ」。
(イ)発明の詳細な説明の記載
・「…本発明は，レーザに関し，特に狭帯域ＡｒＦエキシマレーザに
関する（段落【０００１）。」】
・「従来の技術】ＫｒＦエキシマレーザ【
フッ化クリプトン（ＫｒＦ）エキシマレーザは，集積回路リソグラ
フィ産業の役に立つ光ソースに現在なっている。…フッ化アルゴン
（ＡｒＦ）エキシマレーザは，ＫｒＦレーザと非常に似ている。主
な違いは，レーザガス混合と，出力ビームのより短い波長である。
基本的に，アルゴンはクリプトンを置換し，その結果，出力ビーム
の波長は１９３ｎｍである。このことにより，集積回路の寸法が約
１２０ｎｍまで更に減少する。１５７ｎｍでのＦビームによりパ２
ターン解像度の実質的な改良ができるので，Ｆレーザは，集積回路２
リソグラフィ産業において長らくＫｒＦ及びＡｒＦの後継者として
認識されていた。これらのＦレーザは，ＫｒＦ及びＡｒＦエキシマ２
レーザと多少の変形を伴い非常に似ており，Ｆレーザとして作動さ２
せるために従来技術のＫｒＦ又はＡｒＦレーザと交換することが可
能である。…（段落【０００２）」】
・「電極６はカソード６Ａとアノード６Ｂとからなる。アノード６Ｂ
は，図３の断面に示したアノード支持バー４４によってこの従来技
術の実施形態において支持される。フローは向かって時計回りであ
る。アノード支持バー４４の一つの角及び一つの端は，電極６Ａ及
び６Ｂの間に流すようにブロワー１０からの空気を強制するための
ガイド羽根として役立つ。この従来技術のレーザにおける他のガイ
ド羽根を，４６，４８及び５０で示す。穴が開けられた電流リター
ンプレート５２は，アノード６Ｂをチャンバ８の金属構造に接地す
るのを助ける。プレートは，レーザガスフローパスに配置された大
きな穴（図３では図示せず）で穴が開けられており，電流リターン
プレートはガスフローに実質的に影響しない。個々のキャパシタ１
９のアレイからなるピークキャパシタは，パルスパワーシステム２
によって各パルスの前にチャージされる。電圧がピークキャパシタ
にビルドアップする間，２つのプレイオン化装置５６は，電極６Ａ
及び６Ｂの間でレーザガスを弱くイオン化させキャパシタのチャー，
ジは約１６，０００ボルトに達するとき，電極の放電は，エキシマ
。，レーザパルスを生成するように生成される次の各パルスに関して
ブロワー１０によって生成され，約１インチ／ミリ秒の電極間のガ
スフローは，１ミリ秒後に生じる次のパルスに関して丁度良く電極
間で新鮮なレーザガスを提供するのに十分である（段落【０００。」
３）】
・「課題を解決するための手段】本発明は，１０００乃至２０００【
Ｈｚ又はそれ以上の範囲における繰り返し数で，約１ｐｍ又はそれ
以下の半値幅を備える１０ｍＪより大きなパルスエネルギを備える
レーザパルスを作り出すことができる，高信頼性，モジュラ，プロ
ダクション，高品質Ｆエキシマレーザを提供する。本発明の好ま２
しい実施形態は，１０乃至４０ワットの範囲におけるパワー出力を
備える１０乃至５ｍＪの範囲におけるパルスエネルギを備える１０
００乃至４０００Ｈｚの範囲で作動しうる。照射源としてこのレー
ザを使用する際，ステッパ又はスキャナ装置は，０．１μｍ又はそ
れ以下の集積回路解像度を作り出す。交換可能なモジュールには，
レーザチャンバ，モジュラーパルスパワーシステムを含む（段落。」
【０００６）】
・「ファン改良
本発明のこの好ましい実施形態は，従来技術のガスサーキュレータ
，。における大きな改良を含んでおりレーザの性能を大きく改善する
，。これらの改良は鑞付けなしのブロワーブレード構造の構築である
共鳴の影響を大幅に低減する非対称ブレード配置と，改良されたベ
アリングである（段落【００２１）。」】
・「ファン構造設計における改良は，図１４Ａに示したような非対称
ブレード配置を必要とする。ファンブレード構造が１６の個々に加
工されたもので形成され，若しくは，２３のブレードを備える各セ
グメントを有するカートセグメントである図１４Ｂに示したような
変形実施形態は，°／（×）だけ，又は，隣接するセグ3601523
メントに対して約１°だけ各セグメントを回転することである。
ファンブレード構造製造に対する鋳造アプローチ又は加工において
比較的容易にすることができる別の改良は，図１４Ｃの３２０で示
したようにエアーフォイル内にブレードを形成することである。従
来技術のブレードはスタンプされ，スタンプされたブレードの２つ
の断面を３１４で比較して示す。３１８及び３３０で示された回転
の方向は，ブレード構造円周を表す。従来のブレードが均一の厚さ
であるのに対して，エアーフォイル・ブレードは，周囲リード端，
密集中央部，及び，テーパー跡端を包含するテア形状プロファイル
を有する（段落【００２４）。」】
・「パルスエネルギの制御
フォトダイオード９２からの信号は，制御ボード１００のプロセッ
サ１０２に転送され，プロセッサは，このエネルギ信号と，次の及
び／又は更なるパルスに関するコマンド電圧を設定するために（パ
ルスエネルギ制御アルゴリズムと名付けられた後の項で議論するよ
）。うな好ましくは他の歴史的なパルスエネルギデータとを使用する
好ましい実施形態では，レーザは（約０１秒のデッドタイムで区.
切られ２０００Ｈｚで１００パルス０．５秒バーストするような）
一連の短いバーストで作動し，制御ボード１００のプロセッサ１０
２は，パルス間のエネルギ変化を最小にするように，また，バース
ト間のエネルギ変化を最小にするように次のパルスに関して制御電
圧を選択するために他の歴史的パルスプロファイルデータと一緒に
バーストにおける全ての前のパルスのエネルギ信号と一緒に最も近
いパルスエネルギ信号を使用する特定のアルゴリズムでプログラム
される。この計算は，約３５μｓの間，このアルゴリズムを使用し
て制御ボード１００のプロセッサ１０２によって実行される。レー
ザパルスは，図８Ｆ３に示されたＩＧＢＴスイッチ４６のＴ発火０
に続く約５μＳ生じ，約２０μｓはレーザパルスエネルギデータを
修正するために要求される（スイッチ４６の発火の開始をＴと呼。０
ぶ）従って，新しい制御電圧値はかくして（２０００Ｈｚで発火。，
期間が５００μｓである）前のパルスに関してＩＧＢＴスイッチ４
６の発火の後，約７０ミリ秒（図８Ｆ１に示したように）準備され
る。エネルギ制御アルゴリズムの特徴を以下に記載し，米国特許出
願第号により詳細が記載されており，ここにリファンレ09/034,870
ンスとして組み入れる（段落【００３８）。」】
・「単一ライン及び狭ラインコンフィギュレーション
図１１Ａは好ましいＦレーザシステムに関する好ましい単一ライ２
。，，ンを示すこの構成では２つの大きなＦ２ラインのうちの１つが
図に示したように簡単なプリズムセレクタで選択される。図１１Ｂ
は，パワー発振器がマスター発振器によってシードされる好ましい
線狭帯域化システムを示す（段落【００８４）。」】
(ウ)図面（かっこ内は【図面の簡単な説明】の記載である）
・【図１１Ｂ（２つの好ましいＦシステムコンフィギュレーション】２
を示す）。
・【図１４Ａ（好ましいブロワーブレード構造設計を示す）】。
・【図１４Ｂ（好ましいブロワーブレード構造設計を示す）】。
(エ)上記(ア)ないし(ウ)の記載によれば，引用発明が記載された甲３に
，（【】，は集積回路リソグラフィに用いるエキシマレーザ段落０００１
【０００２）に関し，マスター発振器及びパワー発振器の２室からな】
る線狭帯域化システムにおいて，パワー発振器（図１１Ｂ）に一対のミ
ラーがありマスター発振器から注入されたレーザ光がその間を通過する
構造が示されている。
以上の甲３の記載及び前記ア(オ)∼(キ)によれば，引用発明のパワー
発振器は，一対のミラーによりレーザ光のパワー（振幅）を増加させて
大きいエネルギーの振動とする機能を有する装置であって，その振幅の
（）。成長が共振器一対のミラーにより行われるものであると認められる
ウ以上の事実を前提として，まず，原告が審決が看過した相違点①として
主張する，本願発明の第２のレーザユニットは「増幅器」として構成され
ているのに対し，引用発明の第２のレーザユニットは「発振器」で構成さ
れているとの点について判断する。
上記ア，イによれば，本願発明のパワー増幅器と，引用発明のパワー発
振器とは，ともに発振機能を備えたパワー増幅器を含むものである点で一
致する。そうすると，審決が「引用発明の『パワー発振器』は，本願発明
の『第２のレーザユニット』に相当し，また，マスター発振器から出力さ
れたレーザ光を増幅するものであるから，上記パワー発振器が，本願発明
の『パワー増幅器』であることも明らかである（１１頁下２行∼１２頁。」
２行）であるとして「第２のレーザユニットは，パワー増幅器として構，
成されること（１３頁１１行∼１２行）を一致点と認定したことに誤り」
はないというべきである。
エ次に，原告が，審決が看過した相違点②として主張する，引用発明は繰
り返し周波数が１０００Ｈｚであるのに対し，本願発明は４０００Ｈｚ以
上という極めて高い繰り返し周波数を対象としたシステムであり，かかる
繰り返し周波数を実現するために，従来には存在し得なかった非常に高い
ガス流速を設定して，放電領域内から実質的に全ての残存ガスを除去する
ものであるとの点について検討する。
(ア)上記ア(ア)∼(ウ)に摘示したところによれば，ガス放電型レーザシ
ステムにおいては，パルスの直後に放電によって生成されたイオンの実
質的に全てを除去する必要があるところ，本願発明においては４０００
Ｈｚの反復率で放電するために必要な残存ガス除去のためのガス流を設
定する（特許請求の範囲，段落【００１０）ものと認められる。】
(イ)一方引用発明は，上記イ(ア)∼(ウ)に摘示したところによれば，繰
り返し周波数１０００∼４０００Ｈｚの範囲で作動しうるものである
（段落【０００６。】）
(ウ)加えて，審決が「ガス放電型レーザシステムの技術分野において，
レーザパルスを生成する反復率（繰り返し数）に応じてレーザガスのガ
ス速度を設定すること（１４頁５行∼６行）が周知であることの証拠」
とした挙げた甲４，５には以下の記載がある（下線は判決で付記。）
ａ甲４（特開平８−１９１１６３号公報，発明の名称「ガスレーザ装
置，出願人株式会社東芝，公開日平成８年７月２３日）」
「０００２】【
【従来の技術】一般に，ガスレーザ媒質を強制的に循環させるガス
レーザ装置においては，上記ガスレーザ媒質が封入される気密容
器を有する。この気密容器内には上記ガスレーザ媒質を強制的に
循環させるための送風機が配置されているとともにそのガスレー，
ザ媒質の循環方向と交差する方向に所定の間隔で離間して一対の
主電極が配設されている。
【０００３】上記一対の主電極間には所定のタイミングで主放電が
点弧される。それによって，一対の主電極間の空間部に流入した
ガスレーザ媒質はその主放電によって励起されてレーザ光を発生
するようになっている。
【０００４】主電極間の空間部で発生したレーザ光は，その主放電
と交差する方向に配設された光共振器で反射を繰り返すことで増
幅され，所定の強度に達すると，上記光共振器の出力ミラー側か
ら発振出力される。また，ガスレーザ媒質は放電励起されること
で温度上昇する。そこで，上記気密容器内には，温度上昇したガ
スレーザ媒質を冷却するための熱交換器が配置されている。
【０００５】ところで，上記送風機によって強制的に循環するガス
レーザ媒質は，一対の主電極間の空間部において流速分布が均一
にならないということがある。図８に一対の主電極１，２間にお
けるガスレーザ媒質Ｇの流速分布を示す。
【０００６】すなわち，一対の主電極１，２間の空間部３を通過す
るガスレーザ媒質Ｇは，上記主電極１，２の離間方向中央部分に
比べて表面近傍の方が抵抗が大きい。そのため，上記空間部３を
流れるガスレーザ媒質Ｇの流速分布は，同図に曲線Ｘで示すよう
に一対の主電極１，２の離間方向中央部分が両端部分に比べて速
くなることが避けられない。
【０００７】上記放電空間部３におけるガスレーザ媒質Ｇの流速分
布が一対の主電極１，２の離間方向において上述したごとく不均
一となると，とくにレーザ発振の繰り返し数を高くした場合，主
電極１，２近傍ではガスレーザ媒質Ｇが確実に置換されないこと
がある。つまり，前回の主放電に寄与したガスレーザ媒質Ｇがつ
ぎの主放電時に空間部３に残留するということがある。
【０００８】一度，主放電に使われたガスレーザ媒質Ｇには放電生
成物などの不純物が含まれる。そのため，その不純物によって一
対の主電極１，２間に点弧される主放電（グロー放電）が不安定
となってアーク放電の発生を招き，出力の低下を招いたり，主電
極１，２を早期に損傷させるなどのことがある。
【０００９】一方，上記構成のガスレーザ装置において，動作可能
なパルス繰り返し数ｆは，放電の幅Ｌとガスレーザ媒質Ｇの流速
ｖに対してつぎの関係を有する。
ｆ＝ｖ／（ＣＲ・Ｌ）…（１）式
図中ＣＲはクリアラアンスレシオと呼ばれ，装置固有の値で，通
常，２∼５程度である。したがって，パルス繰り返し数ｆはガス
レーザ媒質Ｇの流速ｖによって決定されることになる。
【００１０】ガスレーザ媒質Ｇの流速を高めるためには，上記送風
機として静圧の大きい軸流型ファンが用いられている。直径６０
程度のファン１つでは最大静圧がＰａ程度であるから，mm330
比重量がのガスレーザ媒質では流速ｖは最大で６とな0.43m/s
り，ＣＲ＝２のとき，放電幅では動作可能な繰り返し数は30mm
となる。100pps
【００１１】したがって，これ以上のパルス繰り返し数を得たいと
きつまりレーザ光の出力を高くしたいときには２つの軸流ファ，，
ンを直列に配置して静圧を増加させ，ガスレーザ媒質の流速を速
くすることが考えられる。…（２頁１欄４１行∼３頁３欄６行）」
【図８（従来の主電極間の空間部におけるガスレーザ媒質の速度分】
布を示す説明図）
ｂ甲５（特開平９−２２８９８６号公報，発明の名称「タイミングを
」，，調整できる送風機モータ出願人サイマーインコーポレイテッド
公開日平成９年９月２日）
「【】，，。０００３エキシマレーザは一般にパルスモードで動作する
放電領域内のガスに，基底即ち初期熱状態に復帰させるに充分な
時間を与えるためにパルス動作が必要とされる。静的なガスシス
テムでは，ガスがこの状態に到達するのにほぼ１秒の時間を必要
とし，従って，繰り返し率を甚だしく制限する。近代的なレーザ
システムは，通常，ガスを循環するための接線方向送風機ファン
，，を用いてガス放電領域内のガスを能動的に循環することにより
高い繰り返し率を得ている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】特定の繰り返し率を維持するのに
必要なガスの流量は，次の式を用いて決定することができる。
クリア比＝（流量）／〔放電巾（繰り返し率〕（））
一般に，安定した放電を得るには，クリア比は，３で充分である
と考えられる。しかしながら，パルス対パルスのエネルギー安定
性を保証するためには，クリア比は，５ないし６であるのが好ま
しい。約１０００ないし２０００Ｈｚの繰り返し率を維持するに
必要なクリア比を得るためには，高いガス流量，ひいては，高い
送風機ファン速度が必要とされる（３頁４欄４０行∼４頁５欄。」
１０行）
「００１４】エキシマレーザにおいては，パルス率が通常はかなり【
低いガスが静的である場合には放電領域内のガス体積にレー。，，
ザパルスとレーザパルスとの間にその初期の熱的状態に復帰させ
るに充分な時間を与えねばならない。一般的に，この復帰時間は
１秒程度であり，従って，静的ガスシステムのパルス率は約１パ
ルス／秒に制限される。ガスが循環される場合には，パルス率を
増加することができる。レーザを放電できる繰り返し率は，循環
速度と，放電体積内のガス体積が交換される率とに基づく。従っ
て循環速度が高いほど達成できる繰り返し率が高くなる４，，。」（
頁６欄４０行∼５０行）
，，(エ)上記(ウ)によればガス放電型レーザシステムの技術分野において
レーザパルスを生成する反復率に応じた放電によるイオン除去のため必
要なガス速度は，当業者（その発明の属する技術の分野における通常の
知識を有する者）において適宜設定しうるものであると認められるとこ
ろ，上記(イ)のとおり，引用発明においても４０００Ｈｚの反復率で作
動するシステムが開示されているのであるから，本願発明と引用発明と
で「両者は『毎秒４０００パルス（４０００Ｈｚ）の『反復率（繰，，』』
り返し数）でレーザパルスを生成する点で一致する（１１頁２１行∼。」
２２行）として，これを一致点とした審決の認定に誤りはない。
その上で審決は「本願発明では『第１（第２）のレーザガスのガス，，
速度』が，毎秒４０００パルス又はそれ以上の範囲の反復率で動作する
時に，放電によって生成されたイオンの『実質的に全てを，次のパルス
に先立ち』第１（第２）の放電領域から除去し得るのに対し，引用発明
では『１０００Ｈｚの繰り返し数でレーザパルスを生成する時，第１，
のブロワ及び第２のブロワは，次のパルスに関して丁度良く電極間で新
』，鮮なレーザガスを提供するのに十分であるガスフローを形成するから
少なくとも１０００Ｈｚの繰り返し数でレーザパルスを生成する時に
は第１第２のブロワが放電によって生成されたイオンの実，『（）』，『
質的に全てを，次のパルスに先立ち』第１（第２）の放電領域から除去
し得るガス速度を作り出すものといえるが，４０００Ｈｚの繰り返し数
でレーザパルスを生成する時のガス速度については明らかでない点」。
を相違点１として認定し，レーザパルスを生成する反復率に応じてレー
ザのガス速度を設定することは周知であるとした（この認定に誤りがな
いことは上記のとおりである）上で，相違点１の構成は周知技術に基づ
き容易に着想できると判断したものである。したがって，この点につい
ての審決の認定・判断にも誤りはない。
()原告の主張に対する補足的判断2
ア原告は，発振器と増幅器は機能上区別されるところ，本願発明のパワー
増幅器は発振器を含まず，この点について本願明細書の段落【０００８】
において明確にしていると主張する。
しかし，上記()ウで検討したとおり，本願発明のパワー増幅器は発振1
器を含まないものとは認められず，また本願明細書の段落【０００８】の
記載も，上記()ア(イ)で摘記のとおり「種注入(エキシマレーザシス1
テムを含む）ガス放電型レーザシステムの帯域幅を狭めるための公知手法
には，…このようなシステムの１つでは，…このビームが第２の利得媒体
において種ビームとして使用される。第２利得媒体が電力増幅器として機
能する場合，このシステムを，主発振器電力増幅器（ＭＯＰＡ）システム
という。第２利得媒体自体が共振空洞を有する場合，このシステムを，種
注入発振器（ＩＳＯ）システム又は主発振器電力発振器（ＭＯＰＯ）シス
テムといい，この場合，種レーザを主発振器と呼び，下流側のシステムを
。」，，電力発振器と呼ぶ…とするものであり従来公知のシステムにおいて
ＭＯＰＡ構成とＭＯＰＯ構成とが上記内容であることを説明したものにす
ぎず，本願発明がこのうちのＭＯＰＡ構成であることに限定するものでは
ない。原告の上記主張は採用することができない。
イ次に原告は，本願発明は第２のレーザユニットをパワー増幅器で構成し
たことにより，ビームのスペクトル幅を狭帯域化することができる（原告
主張のａ，耐故障性に優れる（同ｂ，スペックル（光のむら）の影響を））
抑えることができる（同ｃ，との３点で引用発明にはない作用効果を奏）
すると主張する。
しかし，原告主張の上記効果（ａ∼ｃ）は，いずれも本願発明の第２の
レーザユニットが，共振機能を含まない増幅器に限定されることを前提と
するものであって，この前提を採り得ないことについては既に検討したと
おりであるほか，原告主張の上記効果（ａ∼ｃ）は，いずれも本願明細書
には何らの記載がないものであって，原告の主張は明細書に基づかないも
のである。原告の上記主張は採用することができない。
ウ次に原告は，本願発明の出願前の従来技術におけるパルス周波数は２５
００Ｈｚ程度であったところ，本願発明はこれを４０００Ｈｚという高い
，，周波数で実現しそのための残存ガスを除去するガス流速を設定したほか
共振電源を採用したものであるところ，引用発明の４０００Ｈｚとの記載
は技術的に裏付ける記載がないと主張する。
HIGHPULSERATE乙６米国特許６０２８８７２号公報発明の名称（，
〔共振電源PULSEPOWERSYSTEMWITHRESONANTPOWERSUPPLY
を備えた高パルス割合のパルス電源システム，発明の譲受人〔出願人〕〕
サイマーインコーポレイテッド，２０００年〔平成１２年〕２月２２日
特許公報発行）には，以下の記載がある。
「当業者は，上記の開示に表された教示に基づいて，本発明の他の多
くの実施例が可能であることを理解するであろう。電圧値およびエ
ネルギー値のようなパラメータの多くは異なったものであってもよ
い。リソグラフィーに使用される商業的なエキシマレーザーについ
ては，少なくとも１０００Ｈｚの充電速度が好ましいが，遥かに速
い速度，例えば２０００Ｈｚまたは５０００Ｈｚ程度またはそれ以
上が望ましいことになろう（１２欄７行∼１４行，訳文による）。」
上記記載によれば，本願出願当時において，エキシマレーザにおいて既
に５０００Ｈｚ程度のパルス速度を用いる装置が知られていたほか，引用
「」発明の記載された甲３に１０００乃至４０００Ｈｚの範囲で作動しうる
（段落【０００６）と明確に記載されていること，レーザパルスを生成】
する反復率に応じた放電によるイオン除去のため必要なガス速度は，当業
者において適宜設定しうるものであることからして，本願発明のパルス速
度（４０００Ｈｚ）の点についても特段の意義があるものとはいえず，ま
た本願発明において採用したとする共振電源についても，特許請求の範囲
にはその記載はないから，原告の上記主張は採用することができない。
エさらに原告は，本願発明におけるファンブレード（上記ア(ウ)の図１８
Ａ）と引用発明のブロワーブレード（上記イ(ウ)の図１４Ｂ）をみると，
本願発明のファンブレードは圧力波面の生成を防止するように予め不均一
にされているのに対し，引用発明のブロワーブレードはほぼ均一にされて
いるから，両者は構成を異にする旨主張する。
しかし，本願発明におけるファンブレードの構成については，特許請求
の範囲の記載に特段の記載がないほか，上記()エ(エ)のとおり，レーザ1
パルスを生成する反復率に応じて放電によるイオン除去のため必要なガス
速度は当業者において適宜設定しうるものであり，そこで設定されたガス
速度に応じてファンブレード（ブロワーブレード）の構造を決定すること
は設計的事項であると認められる。原告の上記主張は採用することができ
ない。
３結語
以上のとおりであるから，原告主張の取消事由は全て理由がない。
よって，原告の請求を棄却することとして，主文のとおり判決する。
知的財産高等裁判所第２部
裁判長裁判官中野哲弘
裁判官今井弘晃
裁判官清水知恵子

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