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言渡平成25年8月29日
交付平成25年8月29日
裁判所書記官
平成２４年（ワ）第８１３５号特許権侵害差止等請求事件
口頭弁論の終結の日平成２５年７月１８日
判決
横浜市＜以下略＞
原告株式会社シンクロン
同訴訟代理人弁護士服部昌明
池田和郎
西川久貴
山本和彦
北畑亮
田中伸英
同訴訟代理人弁理士秋山敦
埼玉県川越市＜以下略＞
被告株式会社オプトラン
同訴訟代理人弁護士升永英俊
同補佐人弁理士佐藤睦
大石幸雄
主文
原告の請求をいずれも棄却する。
訴訟費用は原告の負担とする。
事実及び理由
第１請求
１被告は，別紙装置等目録記載１の装置を製造し，譲渡し，輸出若しくは輸入
し，又は貸渡しのために展示してはならない。
２被告は，前項の装置及びその半製品を廃棄せよ。
３被告は，別紙装置等目録記載２の方法を使用してはならない。
４被告は，原告に対し，７億円及びこれに対する訴状送達の日の翌日から支払
済みまで年５分の割合による金員を支払え。
第２事案の概要
本件は，成膜方法及び成膜装置に関する特許権を有する原告が，被告の製造
販売する装置及びその使用する方法について，上記特許権に係る特許発明の技
術的範囲に属するとして，被告に対し，特許法１００条に基づき，装置の製造，
販売等及び使用する方法の差止め並びに装置等の廃棄，民法７０９条に基づき，
７億円及びこれに対する訴状送達の日の翌日から支払済みまで民法所定の年
５分の割合による遅延損害金の支払を求める事案である。
１前提事実（当事者間に争いのない事実並びに後掲各証拠及び弁論の全趣旨に
より認められる事実）
(1)本件特許権
原告は，発明の名称を「成膜方法及び成膜装置」とする特許（特許番号第
４８２３２９３号）に係る特許権（以下「本件特許権」という。）を有してい
る。
(2)本件発明
上記特許の願書に添付された特許請求の範囲の請求項１及び８の記載は，
本判決添付の特許公報の該当項記載のとおりである（以下，この請求項１に
係る発明を「本件発明１」といい，請求項８に係る発明を「本件発明２」と
いう。）。
(3)本件発明の構成要件の分説
ア本件発明１を構成要件に分説すると，次のとおりである（以下，分説し
た構成要件をそれぞれの符号に従い「構成要件１－Ａ」のようにいう。）。
１－Ａ基体保持手段の基体保持面の全域に向け成膜材料を供給すること
によって前記基体保持面に保持され回転している基体のすべてに対
して前記成膜材料を連続して供給するとともに，
１－Ｂ前記基体保持面の一部の領域に向けイオンを照射することによっ
て前記基体の一部に対して前記イオンを連続して照射することによ
るアシスト効果を与えながら，前記基体の表面に薄膜を堆積させる
１－Ｃことを特徴とする成膜方法。
イ本件発明２を構成要件に分説すると，次のとおりである（以下，分説し
た構成要件をそれぞれの符号に従い「構成要件２－Ａ」のようにいう。）。
２－Ａ真空容器内に回転可能に配設され，基体を保持するための基体保
持手段と，
２－Ｂ前記基体保持手段の基体保持面の全領域に対して成膜材料を供給
可能となるような配置及び向きで前記真空容器内に設置された成膜
手段と，
２－Ｃイオンを前記基体保持面の一部の領域に対し部分的に照射可能と
なるような構成，配置及び／又は向きで前記真空容器内に設置され
た成膜アシスト手段とを，
２－Ｄ有する成膜装置。
(4)被告の行為
被告は，別紙装置等目録記載１の装置（以下「被告装置」という。）の譲渡
の申出をしている。
(5)構成要件充足性
別紙装置等目録記載２の方法（以下「被告方法」という。）は，本件発明１
の構成要件をすべて充足し，被告装置は，本件発明２の構成要件２－Ａ，２
－Ｃ及び２－Ｄを充足する。
(6)原告は，平成２５年３月８日，被告が本件特許について請求した特許無効
審判（無効２０１２－８００１０９号）において，請求項１及び８について，
特許請求の範囲の減縮又は明りょうでない記載の釈明を目的として，訂正の
請求をし，本件において，被告の特許法１０４条の３の主張に対し，上記訂
正の請求をし，この訂正により無効理由が解消され，かつ，被告装置の稼働
により使用する方法が訂正後の請求項１に係る発明の技術的範囲に属し，被
告装置が訂正後の請求項８に係る発明の技術的範囲に属すると主張した。
（甲３０，乙２，８，９）
２争点
本件の争点は，次のとおりである。
(1)被告装置の稼働により使用する方法が被告方法の「基体保持手段の基体保
持面の全域に向け成膜材料を供給することによって前記基体保持面に保持さ
れ回転している基体のすべてに対して前記成膜材料を連続して供給するとと
もに，」の構成（以下「構成ａ」という。）を充足するか否か（争点１）
当事者は，被告装置の稼働により使用する方法が本件発明１の構成要件１
－Ａを充足するか否かについて主張するが，原告は，被告装置の稼働により
使用する方法を別紙装置等目録記載２のとおりに特定するところ，これによ
り特定された方法（被告方法）が本件発明１の構成要件１－Ａを充足するこ
とは明らかであるから，当事者の上記主張は，被告装置の稼働により使用す
る方法が被告方法の構成ａを充足するか否かをいうものとして理解される。
(2)被告装置が本件発明２の構成要件２－Ｂを充足するか否か（争点２）
(3)本件特許が特許無効審判により無効にされるべきものと認められるか否
か（争点３）
３争点についての当事者の主張
(1)争点１（被告装置の稼働により使用する方法が被告方法の構成ａを充足す
るか否か）について
ア原告
(ア)被告装置の図面（甲６の２）の「９ＳＵＢＳＴＲＡＴＥＤＯＭ
Ｅ」とは「基板ドーム」のことで，構成ａ「基体保持手段」に相当し，
この基板ドームが回転することはカタログの記載から明らかである。ま
た，上記図面の「５ＨＥＡＲＴＨ］，「６ＲＨＳＯＵＲＣＥ」とは
「電子銃１基」，「抵抗加熱１基」のことで，薄膜を形成する成膜材料を
供給する蒸着源（成膜手段）を指す。そして，成膜材料は，ハース（「５
ＨＥＡＲＴＨ］）及びＲＨソース（「６ＲＨＳＯＵＲＣＥ」）からド
ーム（「９ＳＵＢＳＴＲＡＴＥＤＯＭＥ」）の基体保持面の全てに対
して連続的に供給される。
そして，原告のした検証の結果（甲７）によれば，成膜材料の到達範
囲は仕切り板によって制限されないことが判明したし，「Coatingson
Glass」（甲８）１９８頁の記載からは，成膜材料が，残留ガスとの衝突
により自由な方向に拡散しながら基体に到達する性質を持ち，直線状に
供給範囲を制限できるものではないことが分かるから，被告装置は，成
膜材料が基体保持面の全域に供給されるものである。
(イ)そうであるから，被告装置の稼働により使用する方法は，被告方法
の構成ａを充足する。
イ被告
(ア)被告装置は，ハース及びＲＨソースという二つの蒸発源を備えてい
るが，ハース用仕切り板及びＲＨソース用仕切り板を設け，これにより，
それぞれから蒸発した成膜材料はその蒸発方向（角度）が制限されるの
であり，また，成膜材料は成膜される各層について一つしか選択するこ
とができないから，ハース及びＲＨソースのいずれか一方のみからしか
供給されないものである。
そして，被告のした実験の結果（乙７）によれば，成膜材料の到達範
囲はドームの基体保持面の一部の領域であることを明確に示している。
(イ)そうであるから，被告装置では，各蒸発源による成膜材料の供給範
囲はドームの基体保持面の一部の領域に制限され，かつ，成膜材料が両
方の蒸発源から同時に供給されることはないのであって，被告装置の稼
働により使用する方法は，被告方法の構成ａの「基体保持手段の基体保
持面の全域に向け成膜材料を供給する」を充足しない。
(2)被告装置が本件発明２の構成要件２－Ｂを充足するか否か（争点２）
ア原告
(ア)被告装置の図面（甲６の２）の「９ＳＵＢＳＴＲＡＴＥＤＯＭ
Ｅ」とは「基板ドーム」のことで，構成要件１－Ａの「基体保持手段」
に相当し，この基板ドームが回転することはカタログの記載から明らか
である。また，上記図面の「５ＨＥＡＲＴＨ］，「６ＲＨＳＯＵＲ
ＣＥ」とは「電子銃１基」，「抵抗加熱１基」のことで，薄膜を形成する
成膜材料を供給する蒸着源（成膜手段）を指す。そして，成膜材料は，
ハース（「５ＨＥＡＲＴＨ］）及びＲＨソース（「６ＲＨＳＯＵＲ
ＣＥ」）からドーム（「９ＳＵＢＳＴＲＡＴＥＤＯＭＥ」）の基体保
持面の全てに対して連続的に供給される。
そして，原告のした検証の結果（甲７）や「CoatingsonGlass」（甲
８）１９８頁の記載によれば，被告装置は，成膜材料が基体保持面の全
域に供給されるものである。
(イ)そうであるから，被告装置は，本件発明２の構成要件２－Ｂを充足
する。
イ被告
前記(1)イ(ア)のとおりであって，被告装置では，各蒸発源による成膜材
料の供給範囲はドームの基体保持面の一部の領域に制限され，かつ，成膜
材料が両方の蒸発源から同時に供給されることはないから，被告装置は，
本件発明２の構成要件２－Ｂを充足しない。
(3)本件特許が特許無効審判により無効にされるべきものと認められるか否
か
ア被告
(ア)本件発明１について
ａ本件特許の特許出願前に頒布された刊行物である乙１（Ａ１，Ａ２
著「イオンアシスト蒸着によって作成されたＺｒＯ２薄膜の光学的不均
一性及び微細構造」応用光学第３５巻第２８号，以下「引用例」とい
う。）には，次の発明（以下「引用発明１」という。）が記載されてい
る。
「基板を保持するドームの基体保持面の全域に向けＺｒＯ２を供給する
ことによって基体保持面に保持され回転している基板のすべてに対
してＺｒＯ２を連続して供給するとともに，
基体保持面の一部の領域に向けイオンを照射することによって基体の
一部に対してイオンを連続して照射することによるアシスト効果を
与えながら，基体の表面に薄膜を堆積させる
ことを特徴とする成膜方法。」
ｂ引用発明１の「基板」，「ドーム」及び「ＺｒＯ２」は，それぞれ本件
発明１の「基体」，「基体保持手段」及び「成膜材料」に相当するから，
本件発明１は引用発明１と同一である。そして，仮に同一でないとし
ても，本件発明１は，当業者が引用発明１に基づいて容易に発明をす
ることができたものである。
ｃそうであるから，請求項１に係る特許権には，特許法１２３条１項
２号，同法２９条１項又は２項の無効事由があり，請求項１に係る特
許は，特許無効審判により無効にされるべきものと認められる。
(イ)本件発明２について
ａ引用例には，次の発明（以下「引用発明２」という。）が記載されて
いる。
「真空チャンバ内に回転可能に配設され，基板を保持するためのドー
ムと，
ドームの基体保持面の全領域に対してＺｒＯ２を供給可能となるよう
な配置及び向きで真空チャンバ内に設置された電子ビーム銃と，
イオンを基体保持面の一部の領域に対し部分的に照射可能となるよう
な構成，配置及び向きで真空チャンバ内に設置されたイオンソースと
を，
有する成膜装置。」
ｂ引用発明２の「真空チャンバ」，「基板」，「基板を保持するためのド
ーム」，「ドームの基体保持面」，「ＺｒＯ２」，「電子ビーム銃」及び「イ
オンソース」は，それぞれ本件発明２の「真空容器」，「基体」，「基体
を保持するための保持手段」，「前記基体保持手段の基体保持面」，「成
膜材料」，「成膜手段」及び「成膜アシスト手段」に相当するから，本
件発明２は引用発明２と同一である。そして，仮に同一でないとして
も，本件発明２は，当業者が引用発明２に基づいて容易に発明をする
ことができたものである。
ｃそうであるから，請求項８に係る特許権には，特許法１２３条１項
２号，同法２９条１項又は２項の無効事由があり，請求項８に係る特
許は，特許無効審判により無効にされるべきものと認められる。
イ原告
(ア)本件発明１について
ａ引用例は，「ＺｒＯ２薄膜の屈折率と微構造に於ける不均質性に於い
てアルゴンイオン衝撃の効果を研究すること」を目的としているから，
本件発明１の構成要件を何ら開示していない。そして，引用例には，
「ドームの基体保持面の全域に向けＺｒＯ２を供給する」ことや「基板
のすべてに対してＺｒＯ２を連続して供給する」ことの記載がなく，ま
た，「基体保持面の一部の領域に向けイオンを照射する」ことや「基
体の一部に対してイオンを連続して照射する」ことの記載もない。
ｂ本件発明１は引用発明１と同一でないし，引用発明１は，成長中の
膜において，イオンビームの照射を受けるときとイオンビームの照射
を受けないときとの両方が存在するという特徴を備えていないから，
本件発明１は，当業者が引用発明１に基づいて容易に発明をすること
ができない。
ｃそうであるから，請求項１に係る特許権には，特許法１２３条１項
２号，同法２９条１項又は２項の無効事由がなく，請求項１に係る特
許は，特許無効審判により無効にされるべきものとは認められない。
(イ)本件発明２について
ａ引用例は，「ＺｒＯ２薄膜の屈折率と微構造に於ける不均質性に於い
てアルゴンイオン衝撃の効果を研究すること」を目的としているから，
本件発明２の構成要件を何ら開示していない。そして，引用例には，
「イオンを基体保持面の一部の領域に対し部分的に照射可能となる
ような構成，配置及び向きで真空チャンバ内に設置されたイオンソー
ス」の記載がない。
ｂ本件発明２は引用発明２と同一でないし，引用発明２は，成長中の
膜において，イオンビームの照射を受けるときとイオンビームの照射
を受けないときとの両方が存在するという特徴を備えていないから，
本件発明２は，当業者が引用発明２に基づいて容易に発明をすること
ができない。
ｃそうであるから，請求項８に係る特許権には，特許法１２３条１項
２号，同法２９条１項又は２項の無効事由がなく，請求項８に係る特
許は，特許無効審判により無効にされるべきものとは認められない。
第３当裁判所の判断
１争点１（被告装置の稼働により使用する方法が被告方法の構成ａを充足する
か否か）について
(1)証拠（甲３の２，６の１ないし３，乙３，７）及び弁論の全趣旨によれば，
(ア)被告装置には，成膜材料の蒸発源として，ハースと呼ばれる電子銃に
より加熱するものとＲＨソースと呼ばれる抵抗加熱により加熱するものを備
えているが，成膜材料は成膜される各層について一つしか選択することがで
きないから，成膜材料がハースとＲＨソースとの両方から同時に供給される
ことはなく，いずれか一方からしか供給されない，(イ)被告装置には，ハ
ースに隣接してハース用仕切り板が設けられ，ＲＨソースに隣接してＲＨソ
ース用仕切り板が設けられているところ，ハース又はＲＨソースから蒸発し
た成膜材料は，ハース用仕切り板又はＲＨソース用仕切り板により，蒸発の
方向（角度）が制限され，その結果，ドームの基体保持面の全域には供給さ
れない，(ウ)被告補佐人は，被告装置を用いて，ハースから成膜材料ＳｉＯ
２を蒸発させ，ハース用仕切り板を設置しない状態と設置した状態とに分け
て，基板保持面に保持された基板に形成された膜の厚さを測定する実験をし
たところ，ハース用仕切り板を設置しない状態では，ドームの左側１０か所
（Ａ１ないし１０）及び右側１０か所（Ｂ１ないし１０）いずれの基板につ
いても膜が形成されたが，ハース用仕切り板を設置した状態では，左側１０
か所は，そのうちの３か所（Ａ７，８及び１０）の基板については全く膜が
形成されず，その余の基板についても右側１０か所と比較して膜が極めて薄
くしか形成されなかったこと，以上の事実が認められる。
原告は，被告補佐人がした実験について，①ハース用仕切り板の形状か
らすれば，その効果をもたらす範囲は左側１０か所のうちの５か所（Ａ６な
いし１０）になるはずであるが，左側１０か所全部に効果がみられる，②真
空蒸着では，基板近傍に遮蔽板を設置しない限り，急激な膜厚変化は極めて
困難であるのに，左側のＡ１から極端に膜厚が減少しているとして，ハース
用仕切り板以外の手段を用いてデータを作為的に作出した可能性があり，信
用性に欠けると主張する。しかしながら，①については，上記実験に係る実
験報告書（乙７）の図２（被告装置の図面）によれば，ハース用仕切り板の
効果をもたらす範囲が左側１０か所のうちの５か所（Ａ６ないし１０）にな
るはずであるというにとどまるし，②については，真空蒸着において，蒸発
源に隣接して仕切り板を設置したのでは，急激な膜厚変化が生じないことを
裏付ける的確な証拠はないのである。そうであるから，原告の上記主張をも
って，データを作為的に作出したということはできないし，他にデータを作
為的に作出したことを窺わせるような事情も認められない。原告の上記主張
は，採用することができない。
(2)被告補佐人がしたハースを使用した実験結果は，ＲＨソースを使用した場
合においても当てはまると考えられるから，前記(1)認定の事実によれば，被
告装置は，ハース及びＲＨソースの各蒸発源による成膜材料の供給範囲がそ
れぞれドームの基体保持面の一部の領域に制限され，かつ，成膜材料が両方
の蒸発源から同時に供給されることはないと認められる。そうすると，被告
装置は，基体保持手段の基体保持面の全域に向けて成膜材料を供給するとい
うものではない。
原告は，原告のした検証の結果（甲７）や「CoatingsonGlass」（甲８）
１９８頁の記載によれば，被告装置は，成膜材料が基体保持面の全域に供給
されるものであると主張する。しかしながら，上記検証は，被告装置とは異
なる装置を用いたものであるから，その結果が，当然に被告装置における成
膜材料の到達範囲を示すというわけではないし，また，証拠（甲８）によれ
ば，「CoatingsonGlass」（甲８）１９８頁には，「起こりうる最も単純な現
象（原子の減圧雰囲気における飛行において）は，不活性残留ガス原子との
衝突である。これらによる通常の結果は，方向と速度の変化である。これら
の原子は，もはや直線上にそって到達しない。残留圧力および蒸着源と基板
の間の距離に応じて，蒸着原子は，殆どあらゆる方向から，基板表面に到達
可能である。」と記載されていることが認められるから，成膜材料が残留ガス
との衝突により自由な方向に拡散しながら基体に到達する性質を持つという
ことができるとしても，このことは，残留圧力及び蒸着源と基板の間の距離
に応じて到達可能な場合があるにすぎず，これをもって，被告補佐人のした
実験における，ハース用仕切り板を設置した状態では膜が形成されない基板
があったとの結果を否定することはできない。原告の上記主張は，採用する
ことができない。
(3)そうすると，被告装置の稼働により使用する方法は，被告方法の構成ａの
「基体保持手段の基体保持面の全域に向け成膜材料を供給する」を充足しな
い。
２争点２（被告装置が本件発明２の構成要件２－Ｂを充足するか否か）について
上記１(1)，(2)に判示したところによれば，被告装置は，本件発明２の構成
要件２－Ｂの「基体保持手段の基体保持面の全域に向け成膜材料を供給する」
を充足しない。
３したがって，被告装置を稼働させても，被告方法の使用をすることにはなら
ないし，また，被告装置は本件発明２の技術的範囲に属しないから，原告の請
求は，その余の点について判断するまでもなく，すべて理由がない。
よって，原告の請求をいずれも棄却することとして，主文のとおり判決する。
東京地方裁判所民事第４７部
裁判長裁判官高野輝久
裁判官志賀勝
裁判官藤田壮
（本判決添付の特許公報は，掲載を省略）

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