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平成１６年（行ケ）第５０９号　特許取消決定取消請求事件
口頭弁論終結日　平成１７年３月２８日
判　　　　　　　　　　決
原　　　　　　告　　ソニー株式会社
訴訟代理人弁理士　　　　小池　晃
　　　　同　　　　　　田村榮一
　　　　同　　　　　　伊賀誠司
　　　　同　　　　　　藤井稔也
　　　　同　　　　　　野口信博
　　　被　　　　　　告　　特許庁長官　小川洋
　　　　指定代理人　　　　岡野卓也
　　　　同　　　　　　西川惠雄
　　　　同　　　　　　岡田孝博
　　　　同　　　　　　宮下正之
主　　　　　　　　　　　文
１　特許庁が異議２００３－７０７６６号事件について平成１６年９月２８
日にした決定中，「特許第３３２６６４２号の請求項１，５，６及び１１に係る特
許を取り消す。」との部分を取り消す。
２　訴訟費用は原告の負担とする。
事実及び理由
１　原告の請求
(1)主文１項と同旨。
(2)訴訟費用は被告の負担とする。
２　当事者間に争いのない事実
(1)特許庁における手続の経緯
原告は，発明の名称を「基板の研磨後処理方法およびこれに用いる研磨装
置」とする特許第３３２６６４２号の特許（平成５年１１月９日出願，平成１４年
７月１２日設定登録。以下「本件特許」という。請求項の数は１４である。）の特
許権者である。
本件特許に対し，請求項１ないし１４につき，特許異議の申立てがあり，特
許庁は，この申立てを，異議２００３－７０７６６号事件として審理した。原告
は，この審理の過程で，平成１６年４月５日，本件特許の出願に係る願書に添付し
た明細書の訂正の請求をした。特許庁は，上記事件につき審理し，その結果，平成
１６年９月２８日，「訂正を認めない。特許第３３２６６４２号の請求項１乃至１
４に係る特許を取り消す。」（以下，請求項１ないし１４に係る発明をまとめて
「本件各発明」という。）との決定をし，同年１０月１８日，その謄本を原告に送
達した。
(2)決定の理由
要するに，本件各発明は，公知技術に基づいて当業者が容易に発明をするこ
とができたものであるから，特許法２９条２項の規定に該当する，したがって，本
件特許は，請求項１ないし１４のいずれについても，この規定に違反して登録され
たものである，ということである。
(3)訂正審判の確定
　　原告は，本訴係属中に，本件特許の出願に係る願書に添付した明細書の訂正
をすることについて審判を請求した。特許庁は，これを訂正２００５－３９０１０
号事件として審理し，その結果，平成１７年２月２２日に訂正（以下「本件訂正」
という。）することを認める旨の審決（以下「本件訂正審決」という。）をし，こ
れが確定した。本件訂正は，請求項１，５，６，及び１１（以下，これらの請求項
に係る発明を「本件訂正発明」という。）を順次請求項１ないし４とした上で次の
とおり訂正するというものである（請求項２ないし４，７ないし１０，１２ないし
１４は削除された。）。
(4)本件訂正前の本件訂正発明の特許請求の範囲
「【請求項１】基板に研磨処理を施した直後から後処理が終了するまでの
間，シャワーヘッド又は超音波加湿器により，該基板の湿潤状態を維持することを
特徴とする基板の研磨後処理方法。
【請求項５】前記薬液洗浄工程ではスピン洗浄を行うことを特徴とする請求
項３または請求項４に記載の基板の研磨後処理方法。
【請求項６】基板に研磨処理を施す研磨ユニットと，該基板の洗浄処理を行
う洗浄ユニットと，該基板のリンスおよび乾燥を行うリンス／乾燥ユニットとを備
え，隣接するこれらユニット間が，シャワーヘッド又は超音波加湿器により前記基
板を湿潤雰囲気下で搬送可能なユニット間湿潤搬送機構により連結されてなること
を特徴とする研磨装置。
【請求項１１】前記薬液洗浄室は，スピン洗浄手段を備えてなることを特徴
とする請求項９または請求項１０に記載の研磨装置。」
(5)本件訂正後の本件訂正発明の特許請求の範囲（下線部が本件訂正による訂正
箇所である。）
「【請求項１】化学機械研磨ユニットにおいて基板に対して化学機械研磨を
施す化学機械研磨工程と，　
　前記化学機械研磨ユニットにより化学機械研磨が施された前記基板を，洗
浄ユニットの互いに隣接する複数の洗浄室に順次搬送して，物理洗浄と薬液洗浄の
洗浄処理を施す洗浄工程と，　
　リンス／乾燥ユニットにおいて前記洗浄ユニットにより洗浄された前記基
板にリンス及び乾燥処理を施すリンス／乾燥工程を有し，　
　互いに隣接し，ゲートバルブが設けられた隔壁により分離された前記化学
機械研磨ユニットと前記洗浄ユニットとの間，及び互いに隣接し，ゲートバルブが
設けられた隔壁により分離された前記洗浄ユニットと前記リンス／乾燥ユニットと
の間に亘って，前記ゲートバルブを介して前記基板を搬送する際，前記化学機械研
磨ユニットと前記洗浄ユニットとの間，及び前記洗浄ユニットと前記リンス／乾燥
ユニットとの間にそれぞれ配置されたシャワーヘッド又は超音波加湿器を備えるユ
ニット間湿潤搬送機構により湿潤状態を維持して搬送するとともに，　
　前記洗浄ユニットの前記複数の洗浄室間に設けられたゲートバルブを介し
て前記洗浄室間に亘って前記基板を搬送する際，前記洗浄室間に配置されたシャワ
ーヘッド又は超音波加湿器を備えるユニット内湿潤搬送機構により湿潤状態を維持
して搬送することを特徴とする基板の研磨処理方法。
【請求項２】前記薬液洗浄は，スピン洗浄により行われることを特徴とする
請求項１記載の基板の研磨処理方法。
【請求項３】基板に対して化学機械研磨を施す化学機械研磨ユニットと，
　前記化学機械研磨ユニットにより化学機械研磨が施された前記基板の物理
洗浄を行う少なくとも１基の物理洗浄室と，前記基板の薬液洗浄を行う少なくとも
１基の薬液洗浄室とが互いに隣接して設けられ，各洗浄室において前記基板を順次
洗浄する洗浄ユニットと，　
　前記洗浄ユニットにより洗浄された前記基板にリンス及び乾燥処理を施す
リンス／乾燥ユニットとを有し，　
　前記化学機械ユニットと，前記洗浄ユニットと，前記リンス／乾燥工程ユ
ニットとは直列に配列され，　
　互いに隣接する前記化学機械研磨ユニットと前記洗浄ユニットとの間及び
前記洗浄ユニットと前記リンス／乾燥ユニットとの間は，それぞれゲートバルブが
設けられた隔壁により分離されるとともに，前記化学機械研磨ユニットと前記洗浄
ユニットとの間及び前記洗浄ユニットと前記リンス／乾燥ユニットとの間のそれぞ
れに，シャワーヘッド又は超音波加湿器を有し，前記各ユニット間に亘って搬送さ
れる前記基板の湿潤状態を維持して搬送するユニット間湿潤搬送機構が設けられ，
さらに，前記洗浄ユニットの互いに隣接する前記複数の洗浄室間に，シャ
ワーヘッド又は超音波加湿器を備えるとともにゲートバルブを備え，前記ゲートバ
ルブを介して前記洗浄室間に亘って搬送される前記基板の湿潤状態を維持して搬送
するユニット内湿潤搬送機構が設けられていることを特徴とする研磨装置。
【請求項４】前記薬液洗浄室は，スピン洗浄手段を備えていることを特徴と
する請求項３記載の研磨装置。」
３　当裁判所の判断
上記当事者間に争いのない事実によれば，本件訂正前の特許請求の範囲の請求
項１，５，６及び１１の記載に基づき，その発明を認定し，これを前提に，特許法
２９条２項の規定に違反して登録された特許であることを理由に，同請求項につい
て本件特許を取り消した決定の取消しを求める訴訟の係属中に，当該特許に係る特
許請求の範囲の減縮を含む訂正の審判が請求され，特許庁は，これを認める本件訂
正審決をし，これが確定したということができる。
決定は，これにより，結果として，本件訂正前の上記請求項１，５，６及び１
１について判断の対象となるべき発明の要旨の認定を誤ったことになり，この誤り
が上記請求項について決定の結論に影響を及ぼすことは明らかである。したがっ
て，決定は，上記請求項につき，取消しを免れない。
　　以上によれば，本訴請求は理由がある。そこで，これを認容し，訴訟費用の負
担については，原告に負担させるのを相当と認め，行政事件訴訟法７条，民事訴訟
法６２条を適用して，主文のとおり判決する。
東京高等裁判所知的財産第３部
裁判長裁判官　　　　　佐　　　藤　　　久　　　夫
裁判官　　　　　設　　　樂　　　隆　　　一
裁判官　　　　　若　　　林　　　辰　　　繁

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