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平成２１年６月２９日判決言渡
平成２０年（行ケ）第１０４２９号審決取消請求事件
平成２１年４月１５日口頭弁論終結
判決
原告東京エレクトロン株式会社
訴訟代理人弁護士舟橋定之
訴訟代理人弁理士伊東忠彦
同大貫進介
同山口昭則
同伊東忠重
同鬼山英幸
被告Ｙ
訴訟代理人弁護士堤義成
同中村しん吾
主文
１特許庁が無効２００８−８００００６号事件について平成２０年１０
月１４日にした審決を取り消す。
２訴訟費用は被告の負担とする。
事実及び理由
第１請求
主文同旨
第２争いのない事実
１特許庁における手続の経緯
（１）被告は，特許第４００５６０９号（発明の名称：基板処理装置及び基
板処理方法並びに基板の製造方法設定登録時の請求項の数は１４以下本。。「
件特許」といい，その特許発明を「本件特許発明」という。甲１）の特許権
者として登録された者である。
本件特許の特許出願（特願２００５−１７７０９９号。以下「本件特許出
願」という）は，被告を出願人及び発明者として平成１３年４月２７日に。
出願された特許出願（特願２００１−１７０２８４号。以下「原出願」とい
い，その明細書を「原出願明細書」という。出願公開番号は特開２００２−
３２９６６１号である。甲２，甲２３）の一部を分割して，平成１７年６月
１７日に新たな特許出願としたものである。
本件特許出願については，平成１９年４月９日付け，同年６月２６日付け
で手続補正がされ，同年８月３１日，本件特許の設定登録がされた。
（２）本件特許発明に係る特許請求の範囲の記載は，以下のとおりである。
【請求項１】
被処理基板をローラ搬送で搬送するローラ搬送機構を内部に備えるととも
に被処理基板をローラにて搬送しつつ前記被処理基板に対して洗浄処理を施
す洗浄処理部と，被処理基板を搬送する第一の搬送機構を内部に備えるとと
もに前記第一の搬送機構にて搬送される被処理基板に対してレジストを塗布
する処理を施すレジスト塗布処理部と，前記洗浄処理部及び前記レジスト塗
布処理部の外部であって前記洗浄処理部と前記レジスト塗布処理部との間に
配置され前記被処理基板を搬送する自走不可である第二の搬送機構と，前記
洗浄処理部または／及び前記レジスト塗布処理部に対する前記被処理基板の
搬入または／及び搬出される位置の上方に配置され前記被処理基板に熱処理
を施す処理部を複数積層してなる第一の熱処理部と，被処理基板をローラ搬
送で搬送するローラ搬送機構を内部に備えるとともに被処理基板をローラに
て搬送される前記被処理基板に対して現像処理を施す現像処理部と，この現
像処理部の外部に配置され前記被処理基板を搬送する自走不可である第三の
搬送機構と，前記現像処理部に対する前記被処理基板の搬入または／及び搬
出される位置の上方に配置され前記被処理基板に熱処理を施す処理部を複数
積層してなる第二の熱処理部と，を具備し，前記第二の搬送機構は，前記第
一の熱処理部に対して前記被処理基板を搬入出自在であり，前記第三の搬送
機構は，前記第二の熱処理部に対して前記被処理基板を搬入出自在であるこ
とを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
被処理基板をローラ搬送で搬送するローラ搬送機構を内部に備えるととも
に被処理基板をローラにて搬送される前記被処理基板に対して現像処理を施
す現像処理部と，この現像処理部の外部に配置され前記被処理基板を搬送す
る自走不可である搬送機構と，前記現像処理部に対する前記被処理基板の搬
入または／及び搬出される位置の上方に配置され前記被処理基板に熱処理を
施す処理部を複数積層してなる熱処理部と，を具備し，前記搬送機構は，前
記熱処理部に対して前記被処理基板を搬入出自在であることを特徴とする基
板処理装置。
【請求項３】
前記搬送機構は，前記現像処理部に対する前記被処理基板の搬入または／
及び搬出される位置の上方に配置された熱処理部とは別の熱処理部に対して
前記被処理基板を搬入出自在であることを特徴とする請求項２記載の基板処
理装置。
【請求項４】
前記現像処理部は，前記被処理基板に紫外線を照射して処理を施す紫外線
処理室を有することを特徴とする請求項２又は請求項３記載の基板処理装
置。
【請求項５】
前記熱処理部は，高い位置の処理部ほど高い温度で処理を行うことを特徴
とする請求項１から請求項４のいずれかに記載の基板処理装置。
【請求項６】
被処理基板をローラ搬送で搬送する第一のローラ搬送機構を内部に備える
とともに被処理基板を第一のローラ搬送機構のローラにて搬送しつつ前記被
処理基板に対して洗浄処理を施す洗浄処理部と，被処理基板を搬送する第一
の搬送機構を内部に備えるとともに前記第一の搬送機構にて搬送される被処
理基板に対してレジストを塗布する処理を施すレジスト塗布処理部と，前記
洗浄処理部及び前記レジスト塗布処理部の外部であって前記洗浄処理部と前
記レジスト塗布処理部との間に配置され前記被処理基板を搬送する自走不可
である第二の搬送機構と，前記洗浄処理部または／及び前記レジスト塗布処
理部に対する前記被処理基板の搬入または／及び搬出される位置の上方に配
置され前記被処理基板に熱処理を施す処理部を複数積層してなる第一の熱処
理部と，被処理基板をローラ搬送で搬送する第二のローラ搬送機構を内部に
備えるとともに被処理基板を第二のローラ搬送機構のローラにて搬送される
前記被処理基板に対して現像処理を施す現像処理部と，この現像処理部の外
部に配置され前記被処理基板を搬送する自走不可である第三の搬送機構と，
前記現像処理部に対する前記被処理基板の搬入または／及び搬出される位置
の上方に配置され前記被処理基板に熱処理を施す処理部を複数積層してなる
第二の熱処理部と，を具備し，前記第二の搬送機構は，前記第一の熱処理部
に対して前記被処理基板を搬入出自在であり，前記第三の搬送機構は，前記
第二の熱処理部に対して前記被処理基板を搬入出自在であり，前記第一の熱
処理部及び前記第二の熱処理部とは別の熱処理部を有し，前記第三の搬送機
構が前記別の熱処理部に対して前記被処理基板を搬入出自在であることを特
徴とする基板処理装置。
【請求項７】
前記現像処理部は，前記被処理基板に紫外線を照射して処理を施す紫外線
処理室を有することを特徴とする請求項６記載の基板処理装置。
【請求項８】
前記第一の熱処理部，前記第二の熱処理部または／及び前記別の熱処理部
は，高い位置の処理部ほど高い温度で処理を行うことを特徴とする請求項６
又は請求項７に記載の基板処理装置。
【請求項９】
被処理基板を複数収納自在に構成されたカセットを複数配置するととも
に，前記カセットに対して被処理基板を搬入出自在に構成され所定方向に自
走自在である第四の搬送機構を配置するカセット配置部を有することを特徴
とする請求項１から請求項８のいずれかに記載の基板処理装置。
【請求項１０】
前記第四の搬送機構が自走する前記所定方向とほぼ直交する方向に自走自
在であり，前記被処理基板を支持して搬送する別の搬送機構を有することを
特徴とする請求項９に記載の基板処理装置。
【請求項１１】
前記第四の搬送機構と前記別の搬送機構とは前記被処理基板を受け渡し自
在に構成されていることを特徴とする請求項１０に記載の基板処理装置。
【請求項１２】
前記第四の搬送機構と前記第三の搬送機構とは，前記第二の熱処理部又は
前記別の熱処理部を介して受け渡し自在に構成されていることを特徴とする
請求項９から請求項１１のいずれかに記載の基板処理装置。
【請求項１３】
請求項１から請求項１２のいずれかに記載の基板処理装置を使用して，被
処理基板を順次処理することを特徴とする基板処理方法。
【請求項１４】
請求項１から請求項１２のいずれかに記載の基板処理装置を使用して，被
処理基板を製造することを特徴とする基板の製造方法。
（３）原告は，平成２０年１月１５日，本件特許が，発明者でない者であっ
てその発明について特許を受ける権利を承継しないものの特許出願（以下，
同要件に係る出願を「冒認出願」という場合がある）に対してされたもの。
であり，特許法（以下，条文は特許法の条文を示す）１２３条１項６号に。
該当することを理由として，無効審判（無効２００８−８００００６号）を
請求した（甲３７，審判請求書は平成２０年１月１１日付けである。。）
，，「，。」特許庁は平成２０年１０月１４日本件審判の請求は成り立たない
との審決をし，その謄本は，同月２４日，原告に送達された。
２審決の理由
審決の理由は，別紙審決書写しのとおりであり，要するに，冒認出願である
ことの主張立証責任を無効審判請求人である原告が負うとの判断を前提とし，
無効審判請求人である原告が提出した各証拠，及び原告が主張する無効にすべ
き理由によっては，本件特許が冒認出願に対してされたものであるとすること
はできないというものである。
第３取消事由に係る原告の主張
審決は，次に述べるとおり，冒認出願についての主張立証責任の判断の誤り
（取消事由１，審決の結論に影響を及ぼす手続上の誤り（取消事由２，本件））
特許が冒認出願に対してされたものであるとすることはできないとの判断の誤
り（取消事由３）があるから，違法として取り消されるべきである。
１冒認出願についての主張立証責任の判断の誤り（取消事由１）
審決は，以下のとおり，冒認出願についての主張立証責任の判断に誤りがあ
る。
すなわち，特許法が，特許権を取得し得る者を発明者及びその承継人に限定
していることから，冒認出願を理由として請求された無効審判請求において，
出願人又はその承継者である特許権者は「特許出願がその特許に係る発明の，
発明者自身又は発明者から特許を受ける権利を承継した者によりされたこと」
についての主張立証責任を負うものと解される。
そうすると，本件審判においては，出願人であり特許権者である被告が，本
件特許発明の発明者であることについての主張立証責任を負う。ところが，審
決は，冒認出願であることの主張立証責任を無効審判請求人である原告が負う
との誤った判断をした。
，，。したがって審決は冒認出願についての主張立証責任の判断に誤りがある
２審決の結論に影響を及ぼす手続上の誤り（取消事由２）
審決は，以下のとおり，審決の結論に影響を及ぼす手続上の誤りがある。
すなわち，無効審判は，口頭審理によるのが原則であり，合理的な理由があ
る場合に限って書面審理によるべきである（１４５条１項。そして，冒認出）
願を理由とする無効審判は，書面審理よりは口頭審理によって冒認か否かの事
実を明らかにするのが適当と解されるから，口頭審理によるべきである。とこ
ろが，審判長は，合理的な理由がないにもかかわらず，職権で，冒認出願を理
由とする無効審判の審理を口頭審理から書面審理に変更した。
また，原告は，平成２０年８月２９日付け当事者等尋問申出書（甲３２）を
提出して，被告本人及び無効審判における被告代理人Ａ弁理士（以下「Ａ弁理
士」ということがある）の尋問の申出をし，同年９月１８日付け審理再開申。
立書（甲３３）及び同月２４日付け証人尋問申出書（甲３４）を提出して，原
告が，本件特許発明の真の発明者であると主張するＢの証人尋問を申し出た。
しかし，審判官は，これらの尋問を採用しなかった。
さらに，Ａ弁理士らへの委任を記載した被告作成名義の包括委任状（甲３６
の２）は，平成１６年１０月１３日付けであり，被告の住所が「茨城県石岡市
・・・」と記載されているが，被告は，住民票（甲１２）によれば，平成１２
年５月２９日に「茨城県石岡市・・・」から「東京都大田区・・・」に転居し
ており，包括委任状の日付である平成１６年１０月１３日当時は，東京都大田
区に住所があった。そのため，包括委任状に記載された被告の住所は，その日
付当時の被告の住所ではなかったまた包括委任状には委任事項として無。，，「
効審判請求に対する応答手続」が記載されていないから，審判請求に対する答
，，。弁書提出手続についてＡ弁理士は被告を代理する権原を有していなかった
原告は，平成２０年７月２日付け第２回上申書（甲３６の１）を提出すること
により，Ａ弁理士に代理権がないことを主張をしたが，審判官はその点につい
て審理をしなかった。
，。，上記の手続上の誤りは審決の結論に影響を及ぼすものであるしたがって
審決は，審決の結論に影響を及ぼす手続上の誤りがある。
３本件特許が冒認出願に対してされたものであるとすることはできないとの判
断の誤り（取消事由３）
審決は，以下のとおり，本件特許が冒認出願に対してされたものであるとす
ることはできないとの判断に誤りがある。
すなわち，被告の経歴等からして被告が本件特許発明をすることは不可能で
あり，原出願明細書と原告が行った特許出願の明細書との間に多くの共通点・
類似点があるから，被告は発明者ではなく，原告が巨額の開発費を投じて行っ
た発明を知り得る立場にあった第三者が自らの名前を秘すべき事情があったた
め，被告が本件特許出願を行ったものである。被告が発明者でないことは，下
記のとおり「被告が真の発明者でないことを示す間接事実」によって裏付け，
られる。それにもかかわらず，審決は，原告が提出した書証をもってしては本
件特許出願が冒認出願によるものであることを証明するに足りないとして，本
件特許は冒認出願に対してされたものであるとすることはできないとの誤った
判断をした。したがって，審決は，本件特許が冒認出願に対してされたもので
あるとすることはできないとの判断に誤りがある。
記
「被告が真の発明者でないことを示す間接事実」
（審決後に明らかになった事実を含む）。
「１本訴に至った背景
（１）被告から原告顧客への警告状
Ａ弁理士（平成１３年●月●日弁理士登録）は，被告の代理人として，原告（東京エレクトロ
ン株式会社）の顧客であるオプトロニクスコーポレーション（，以AUAUOptronicsCorporation
下「社」という）に対し，平成１９年１１月２０日付け警告状（甲３）を送付した。同警AUO。
，（，，告状の内容は被告が３件の日本国特許権特許第３６１１５６８号特許第３９６６８８４号
特許第４００５６０９号（本件特許）を有しており，社製造のパネル基板が，上記各）AUOLCD
特許権を侵害する原告製造の液晶製造装置であるシリーズ（など）又CLCL1200,CL1300,CL1700
はシリーズによって処理されているので，社の製造行為は上記各特許権を侵害EXCELINERAUO
する行為である，というものであった。
Ａ弁理士は，シャープ株式会社（以下「シャープ」という）に対しても，同様な内容の平成。
１９年１１月２０日付け警告状を送付した。そのため，シャープは，原告に対し，原告製品及び
Chi上記各特許権への対応を求めた甲２１原告は原告の顧客である三星電子株式会社韓国（）。，（），
（），。MeiOptoelectronicsCorp.台湾からも同様な内容の警告状を受け取ったという連絡を受けた
上記３件の特許権は，いずれも被告（Ｙ）を発明者かつ出願人とする原出願（特願２００１−
１７０２８４号，その公開公報は特開２００２−３２９６６１号公報（甲２）である）の分割出。
願に係るものである。原出願に基づく分割出願は，上記３件の特許権に係る分割出願の他に５件
（特開２００５−１４２５９０号，特開２００８−５３７３８号，特開２００８−１０９１５８
号，特開２００８−１２４５０２号，特開２００８−１６６８２０号）あり，これらは特許庁に
おいて審査中であって，本件特許に関連する特許出願は，原出願を含めて９件ある。
このように，原告は，顧客から原告製品について対応を迫られ，本件特許の出願，特許権者，
原出願について調査をする必要が生じた。
（２）被告の人物調査
本件特許発明は，半導体ウエハ又は液晶表示装置に用いるガラス基板等を処理する基板処理装
置等に関する高度な先端技術に属するものであり，クリーンルーム環境をもたなければ開発がで
きず，何百億円という巨額の開発費を投じ得る企業又は大学などの研究機関に所属していなけれ
ば創作不可能な発明である。
原告の調査によると，被告は，原告，原告の製造関連子会社である東京エレクトロン九州株式
会社（以下「東京エレクトロン九州」という）又はこれらの関連会社に在職したことがなく，ま。
た，原告の顧客やサプライヤに在職したこともないことが分かった。
Ｃ調査事務所の調査結果（甲９）によると，被告は，本件特許発明に関連する業務に就労して
いた形跡はなく，本件特許発明に関する知識，経験を有していない。したがって，被告が本件特
許発明を創作できたとは，到底考えられない。
（３）Ａ弁理士と原告との関係
社及びシャープに送付された警告状は，被告の代理人としてＡ弁理士が作成・発送したAUO
ものである。Ａ弁理士は，以前，原告の特許明細書を作成した経験がある。Ａ弁理士は，弁理士
（）資格を取得する前の平成６３年●月から平成８年●月までＤ特許事務所現Ｄ特許綜合事務所
に勤務しており，原告等の国内外における出願及び権利化を担当する部門に所属していた。Ａ弁
理士は，その当時，弁理士資格を有していなかったが，Ｄ特許事務所内の明細書作成業務を行う
技術者（以下「特許技術者」という）として，原告等の半導体及び液晶製造装置用のレジスト塗。
布・現像装置技術に関する発明に関して，明細書の作成業務を担当していた。
原告が国内外へ特許出願をする際には，原告の知的財産部門担当者及び発明者と，出願依頼先
の特許事務所の弁理士又は特許技術者との間で，発明に係る技術内容の詳細な説明のための打合
せを行っている。原告は，必要に応じて発明に係る装置の図面を提供し，開発中の装置に関する
技術を理解しやすくするため，弁理士又は特許技術者による装置の見学等も実施している。Ａ弁
，，，理士はＤ特許事務所に在籍していた当時原告の事業の技術分野及び最先端の開発技術の詳細
並びに当時の原告の知的財産部門担当者や開発技術者をよく知り得る立場にあった。
（４）Ｅの宣誓供述書
前記（１）ないし（３）の状況の詳細は，原告知的財産部長Ｅの宣誓供述書（甲２２）に詳述
されたとおりである。
（５）特許庁審判官の審理
上記のような事情により調査を続けたところ，本件特許発明は原告の特許出願に係る発明と実
質的に同一であることが分かり，原告は，本件特許発明は被告が発明したものではないという確
信をもつに至り，冒認出願である本件特許を無効にするために，特許庁に無効審判を請求した。
本件審判の手続の中で，原告は，冒認の事実を明らかにするために，被告本人及びＡ弁理士の尋
。，，，問を申し出たしかし審判官は口頭審理によるべき無効審判の審理方式を書面審理に変更し
尋問を行わずに請求不成立の審決をした。そこで，原告は，本訴（審決取消訴訟）を知的財産高
等裁判所に提起した。
２被告の発明に関する能力等
（１）本人出願
，。原出願は代理人によることなく被告自身によって出願手続がされたいわゆる本人出願である
被告は，基板処理装置に係わる企業に在職していた形跡がなく，高度な技術内容の発明の創作を
し，その発明に関する明細書を自ら作成する能力を有していることには疑問があった。そこで，
原告は，Ｃ調査事務所に被告の身上調査を依頼し，平成１９年１２月１２日付けのＣ調査事務所
作成の調査報告書（甲９）を得た。
（２）被告について
①被告の職務経歴
，「．．．被告はかつて１有・無線設備の据付工事及び調整２有・無線器機の製造販売３
前各号に附帯する一切の業務」を業務目的とする会社に勤務しており，その勤務期間は厚生年
金に加入していたようであるが，上記会社の業務目的は，基板処理装置とは無関係である。被
告は，上記会社を退職し，原出願明細書が作成された平成１３年４月ころは，定職に就いてい
たか明らかでない。
②被告の収入
被告は上記会社を退職後は国民年金に加入しており，定収入を得ていたか明らかでない。
③被告の住居
被告は，平成１２年５月に東京都大田区に転居しており，原出願時は同所に居住していた。
しかし，原出願の願書上の住所は茨城県石岡市と記載されていた。
（３）被告が発明したとは考えられないこと
上記調査によれば，被告は，原出願に係る発明に関連する業務に就労していた形跡がない。被
告が勤務していた会社の業務分野は，有・無線設備等に関するものであって，原出願に係る発明
の基板処理装置に関する技術分野とは全く異なる。被告は，原出願に係る発明に関連する分野の
エンジニアリングの経験が見当たらず，それらの発明をするのに必要な基板処理装置設備を利用
できる技術的環境になかった。したがって，被告が，平成１３年４月ころ，原出願に係る発明を
するのに必要な知識，経験，発明能力，環境等を有していたとは到底考えられない。
また，被告は，厚生年金を脱退した後定収入を得ていたか明らかでなく，巨額の開発投資を要
する発明をしたとは到底考えられない。
さらに，原出願当時の被告の生活状況からみても，被告は，高度な設備，知識，環境を必要と
する原出願に係る発明をするような境遇になかったと考えられる。
上記状況から判断して，被告が原出願明細書を自ら作成する能力があったとは到底考えられな
い。原出願に係る発明の技術的内容を具体的に検討すると，上記状況にあった被告が原出願に係
る発明を創作できたはずがないということがより明確に理解される。
（４）原出願に係る発明をするための知識，能力等
原出願に係る基板処理装置を発明するためには，半導体デバイスや液晶ディスプレイ（）LCD
などの製造工程における基板処理装置の各処理部（紫外線処理部２４，洗浄処理部２１(洗浄部３
０，乾燥促進部３５)，レジスト塗布処理部２２(レジスト塗布部５１，減圧乾燥部５２，不要レ
ジスト膜除去部５３)，現像処理部２３(現像液供給部８０，リンス液供給部８２)，熱系の処理部
７２等(温調処理部７７等，加熱処理部７５等)など。番号は，原出願の公開公報である甲２にお
けるものである）が果たす役割，これら各処理部の構成に要する要素技術，各処理部で行われる。
各処理工程における構成上の問題点，及び各処理が半導体デバイスやの特性に与える一般的LCD
な問題点などに関する知識が必要である。
また，ガラスや半導体ウエハなどの薄板状材料を損傷させることなく，各処理部間で移送する
ことが可能な移送装置（ローラー搬送機構３８等，搬送機構１２，１３，１４，１５，１６等。
番号は原出願の公開公報である甲２におけるものである及びそのメカニズムや構成要素等動，。）（
力源，継ぎ手など）に関する知識，装置設計に関する知識も必要となる。特に，そのような移送
装置を発塵が生じないように構成する知識も欠くことができない。原出願に係る発明は，フット
，，プリントを小さくすることを目的としているからこの目的を達成する発明を完成するためには
，。何故フットプリントの縮小化が求められているかについての知見を有していなければならない
しかも，基板処理装置に関する発明は，個人発明家が何らの設備を利用もせずに思考実験のみ
で創作することができる程容易なものではなく，家庭用品や事務用品などの実用品に関する発明
を手作業の実験でのみ創作し得るのとは大きく異なる。例えば，所望どおりにフットプリントを
小さくできるか否かについての発明の効果の検証を欠くことはできない。特に，半導体デバイス
やの製造においては，各工程で１００％に限りなく近い歩留まりが要求されているという実LCD
情を考慮すれば，基板処理装置に関する発明をした者が，発明に係る基板処理装置を再現性良く
作動させた上で発明の効果を奏するか否かについての検証を行わないということは，通常，考え
られない。
検証のためには，試験機を作成したり，既存の試験機を改造したりする必要がある。したがっ
て，そのような試験機を用意するだけの資力が当然に必要である。また，試験機の作製又は改造
に際しては，たとえ自ら工作機械や設備を使用して作製等を行わないとしても，どのような工作
機械や設備を使用すべきかを判断するため，工作機械や設備の知識も必要であるし，作製等を業
者（協力者）に依頼する場合には，どの業者（協力者）から必要な部品（改造部品）を入手可能
であるかも知らなければならない。
さらに，原出願に係る発明のような基板処理装置においては，各処理部での動作はコンピュー
タ制御により行われるから，たとえ自らはコンピュータプログラムを作成することができないと
しても，必要なコンピュータプログラムの作成を依頼するため，基板処理装置の制御に関して経
験のあるプログラマー（協力者）の所在に関する知識も必要となる。
少なくとも上記のような知識を有していなければ，原出願に係る発明をすることができないと
考えられるところ，被告の職務経歴等によれば，被告がそのような高度かつ広範な知識を取得し
た上で，開発設備ももたずに一個人でそのような発明を完成することができたものとは，到底理
解することができない。
（５）誤って添付された要約書
，。原出願は代理人によることなく被告自身によって出願手続がされたいわゆる本人出願である
しかし，上記のような被告の状況から推察すると，原出願に係る発明のような高度な発明につい
て被告自身が明細書を作成する能力を有しているとは到底考えられない。したがって，誰か他の
人物が原出願明細書を作成したものであると推察される。
ところで，原出願には，出願当初，原出願とは全く無関係の別の発明（送信側と受信側で色「
再現の目標を共有し，複数の色再現の目標と色再現の分担に柔軟に対応できるようにすること」
を課題とする）に係る要約書が誤って添付されていた。この誤って添付された要約書は，代理人。
弁理士Ｆにより原出願と同日の平成１３年４月２７日に出願された出願人松下電器産業株式会社
の特許出願（特願２００１−１３２１９１号。以下「松下出願」という。公開公報は特開２００
２−３３０２９６号公報（甲２５）である）の要約書（甲２４）と同一であった。この松下出願。
の出願公開日は，平成１４年１１月１５日であり，原出願の出願日よりも後であるから，原出願
明細書の作成者は，通常のルートでは，松下出願の要約書の内容を知り得ないはずである。そう
すると，松下出願の要約書を知り得る立場にあった者が原出願の出願にかかわっていたと推測さ
れる。
，（），，一方Ｃ調査事務所の平成２０年６月１１日付け調査報告書甲２６によるとＡ弁理士は
平成１０年１月から平成１３年１０月までの間，Ｆ弁理士を所長とするＦ特許事務所に特許技術
，（），。，者として勤務しており原出願平成１３年４月２７日出願はその間にされたしたがって
当時まだ弁理士でなかったＡが原出願にかかわっていたとの強い推測が働く。
（６）被告の他の特許出願
原出願と同じころに，被告を発明者及び出願人として，原出願とは異なる技術分野の特許出願
。，，。がされているこの発明も被告が発明したものとは考えられず冒認出願である蓋然性が高い
すなわち，被告を発明者及び出願人として，平成１４年７月２２日，特許出願（特願２００２
−２４４３５２号）がされ，その特許出願を国内優先権主張の基礎として，平成１５年７月１９
日特許出願特願２００３−３０２０７１号公開公報は特開２００４−７２１２０号公報甲，（。（
１４）がされた。）
特開２００４−７２１２０号公報（甲１４）に記載された発明の技術分野は，原出願に記載さ
れた被処理基板の搬送に関する技術分野とは異なり，半導体基板上の露光済みレジストの現像に
際し，半導体基板の周辺域からの排気に工夫を加えることにより，半導体基板上の現像液に対す
る気流の影響を低減する現像方法及び現像装置に関するものである。
大規模な製造装置や半導体製造装置などの開発設備を利用できる状態になかった被告個LCD
人が，原出願に開示された被処理基板搬送に関する発明と，甲１４に開示された半導体基板周辺
域からの排気に関する発明という全く異なる両発明を，平成１３年４月２７日から平成１４年７
月２２日までの短期間に続けて発明したとは到底考えられず，何者かが被告の名を利用して両出
願をしたものと推察される。
（７）小括
被告が原出願に係る発明に関する知識，経験をもたず，その発明に必要な技術的環境を有して
いない等の状況からして，被告が原出願及び本件特許出願をしたとは到底考えられないし，被告
が原出願明細書を作成したとも到底考えられない。
３原出願に係る発明と原告の特許出願に係る発明との類似性
原出願に係る発明は，明細書中の表現，図面，技術分野，従来技術，課題，目的・効果の諸点に
おいて，原告の特許出願に係る発明と一致している。
（１）表現の一致
本件特許は，原出願（特願２００１−１７０２８４号）からの分割出願によるものである。原
出願の出願日前に，原告は，原出願と同様な内容を含む５件の特許出願（特開２００２−１５１
，，，３８４号(甲４)特開２００２−３３４９１８号(甲５)特開２００２−２８９５０１号(甲６)
特開２００２−３１３６９９号(甲７)，特開２００２−３２４７４０号(甲８)。以下，これらの
「」，「」特許出願を包括して甲４−８出願といいそれらの明細書を包括して甲４−８出願明細書
という）をした。原出願明細書中では，原告の甲４−８出願明細書中で用いられている表現に類。
似する表現が多く用いられ，全く同一の表現が複数個存在する。
例えば，原出願明細書と原告の甲４−８出願明細書において，以下のとおり，全く同一の４個
の表現が，同一項目中に同一の順序で用いられている。
①ア表現
「被処理基板「いわゆるフォトリソグラフィー技術により回路パターンを形成する」」，
イ記載箇所
原出願明細書【０００２【従来の技術】】
原告の甲４−８出願明細書【０００２【従来の技術】】
②ア表現
「一辺が１ｍにも及ぶような巨大なものまで出現するに至り」
イ記載箇所
原出願明細書【０００４【発明が解決しようとする課題】】
原告の甲４−８出願明細書【０００５（甲４，５，７，８【０００６（甲６【発】），】）
明が解決しようとする課題】
③ア表現
「フットプリントが極めて大きなものとなって」
イ記載箇所
原出願明細書【０００４【発明が解決しようとする課題】】
原告の甲４−８出願明細書【０００５（甲４，５，７，８【０００６（甲６【発】），】）
明が解決しようとする課題】
④ア表現
「装置構成上の問題を伴うことなく「フットプリントを小さくすることができ」」，
イ記載箇所
原出願明細書【０００８【発明が解決しようとする課題】】
原告の甲４−８出願明細書【０００７（甲４，７【０００８（甲５【発明が解決】），】）
しようとする課題】
これらの表現は，特許庁ホームページの特許電子図書館を用いた検索結果によれば，原出願明
細書，原出願から分割された本件特許の明細書及び原告の特許出願の明細書にのみ用いられてお
り，原告及び被告による特許出願の明細書以外には用いられていない（甲２７。原出願当時，原）
告の上記５件の特許出願はいずれも公開されておらず，被告はこれらの表現を知り得る立場には
なかった。それにもかかわらず原出願明細書中にこれらの表現が用いられたのは，何者かが原告
の特許出願の明細書の内容を何らかの手段を講じて不正に取得したと推測される。
（２）図面の一致
原出願の実施形態と，原告の甲４−８出願明細書の実施形態とは，以下のとおり，全体構成及
び特徴的部分が一致している。
①原出願の第１の実施形態（図１，甲２）と原告の特願２００２−５７３０３号の第１の実施
形態（図１，甲５）の対比
ア全体構成の一致
原出願の第１の実施形態（図１，甲２）と原告の特願２００２−５７３０３号の第１の
実施形態（図１，甲５）とは，以下のとおり，全体構成が一致している。
すなわち，これらのレジスト塗布現像処理装置は，共に，カセットＣを載置するカセッ
トステーション（原出願：カセットステーション部９０，特願２００２−５７３０３号：カ
セットステーション１）と，基板Ｇにレジスト塗布及び現像を含む一連の処理を施すための
複数の処理ユニットを備えた処理ステーション（原出願：処理ステーション部９１，特願２
００２−５７３０３号：処理ステーション２）と，露光装置との間で基板の受け渡しを行う
ためのインターフェイスステーション（原出願：インターフェイスステーション部９２，特
願２００２−５７３０３号：インターフェイスステーション３）とを備えており，処理ステ
ーションの両端にそれぞれカセットステーション及びインターフェースステーションが配置
されている。
処理ステーションは，共に，横方向に伸びる平行な２列の搬送ラインを有しており，下
側の搬送ラインには，（原出願：洗浄処理部２１，特願２００２−５７洗浄処理ユニット等
，，３０３号：エキシマＵＶ照射ユニット()２２スクラブ洗浄処理ユニット()２１e-UVSCR
熱的処理ユニットブロック()３１，（原出願：レジスト塗布処TB）レジスト処理ユニット等
理部２２，特願２００２−５７３０３号：熱的処理ユニットブロック()３２，レジストTB
処理ユニット２３，熱的処理ユニットブロック()３４）が配列されている。また，上側TB
の搬送ラインには，（原出願：現像処理部２３，特願２００２−５７３現像処理ユニット等
０３号：熱的処理ユニットブロック()３５，現像処理ユニット()２４，ｉ線ＵＶ照TBDEV
射ユニット()２５，熱的処理ユニットブロック()３７）が配列されている。また，i-UVTB
洗浄処理ユニット等とレジスト処理ユニット等との間には（原出願：搬送機第１の搬送装置
構１２，特願２００２−５７３０３号：第１の搬送装置３３）が配置され，レジスト処理ユ
ニット等と現像処理ユニット等との間には（原出願：搬送機構１３，特願２第２の搬送装置
００２−５７３０３号：第２の搬送装置３６）が配置され，現像処理ユニット等とカセット
ステーションとの間には（原出願：搬送機構１４，特願２００２−５７３０第３の搬送装置
３号：第３の搬送装置３９）が配置されている。
イシャトルの一致
全体構成の一致に加え，特徴的な部分として，原出願の第１の実施形態（図１，甲２）
と特願２００２−５７３０３号の第１の実施形態（図１，甲５）とは，共に，装置中央部に
ある２列の搬送ラインの空間内に（原出願：搬送機構１６，特願２００２−５７３シャトル
０３号：シャトル４１）を設けている点で一致している。
②原出願の第２の実施形態（図１５，甲２）と原告の特願２００１−１２５７５０号の第１の
実施形態（図１，甲８）の対比
ア全体構成の一致
原出願の第２の実施形態（図１５，甲２）と原告の特願２００１−１２５７５０号の第
１の実施形態（図１，甲８）とは，以下のとおり，全体構成が一致している。
すなわち，これらのレジスト塗布現像処理装置は，共に，カセットＣを載置するカセッ
トステーションと，基板にレジスト塗布及び現像を含む一連の処理を施すための複数の処理
ユニットを備えた処理ステーションと，露光装置との間で基板の受け渡しを行うためのイン
ターフェイスステーションとを備えており，処理ステーションの両端にそれぞれカセットス
テーション及びインターフェースステーションが配置されている。
処理ステーションは，共に，横方向に伸びる平行な２列の搬送ラインを有しており，下
側の搬送ラインには，（原出願：洗浄処理部２１，特願２００１−１２洗浄処理ユニット等
５７５０号：エキシマＵＶ照射ユニット()２２，スクラブ洗浄処理ユニット()２e-UVSCR
１，熱的処理ユニットブロック()３１，（原出願：レジスト塗TB）レジスト処理ユニット等
布処理部２２，特願２００１−１２５７５０号：レジスト処理ユニット２３，熱的処理ユニ
現像処理ユニットブロック()３４）が配列されている。また，上側の搬送ラインには，TB
（原出願：現像処理部２３，特願２００１−１２５７５０号：熱的処理ユニットブロット等
ック()３５，現像処理ユニット()２４，ｉ線ＵＶ照射ユニット()２５，熱的処TBDEVi-UV
理ユニットブロック()３８）が配列されている。また，洗浄処理ユニット等とレジストTB
処理ユニット等との間には（原出願：搬送機構１２，特願２００１−１２５第１の搬送装置
７５０号：第１の搬送装置３３）が配置され，レジスト処理ユニット等と現像処理ユニット
等との間には（原出願：搬送機構１３，特願２００１−１２５７５０号：第第２の搬送装置
第２の搬送装置３７）が配置され，現像処理ユニット等とカセットステーションとの間には
（原出願：搬送機構１４，告特願２００１−１２５７５０号：第３の搬送装置３の搬送装置
４０）が配置されている。
イ空間内の熱的処理ユニットの一致
，，（，）全体構成の一致に加え特徴的な部分として原出願の第２の実施形態図１５甲２
と原告の特願２００１−１２５７５０号の第１の実施形態（図１，甲８）とは，共に，装置
中央部にある２列の搬送ラインの空間内に（原出願：熱系処理部１１０，熱的処理ユニット
１１１，特願２００１−１２５７５０号：熱的処理ユニットブロック()３２，３９）をTB
設けている点で一致している。
③原出願の第３の実施形態（図１７，甲２）と原告の特願２０００−３４３４０１号の第１の
実施形態（図１，甲４）の対比
ア全体構成の一致
原出願の第３の実施形態（図１７，甲２）と原告の特願２０００−３４３４０１号の第
１の実施形態（図１，甲４）とは，以下のとおり，全体構成が一致している。
すなわち，これらのレジスト塗布現像処理装置は，共に，カセットＣを載置するカセッ
トステーションと，基板にレジスト塗布及び現像を含む一連の処理を施すための複数の処理
ユニットを備えた処理ステーションと，露光装置との間で基板の受け渡しを行うためのイン
ターフェイスステーションとを備えており，処理ステーションの両端にそれぞれカセットス
テーション及びインターフェイスステーションが配置されている。
処理ステーションは，共に，横方向に伸びる平行な２列の搬送ラインを有しており，下
側の搬送ラインには，（原出願：洗浄処理部２１，特願２０００−３４洗浄処理ユニット等
３４０１号：エキシマＵＶ照射ユニット()２２，スクラブ洗浄処理ユニット()２e-UVSCR
１，（原出願：レジスト塗布処理部２２，特願２０００−３４３）レジスト処理ユニット等
４０１号：レジスト処理ユニット２５）が配列されている。また，上側の搬送ラインには，
（原出願：現像処理部２３，特願２０００−３４３４０１号：現像処理現像処理ユニット等
ユニット()２３，ｉ線ＵＶ照射ユニット()２４）が配列されている。DEVi-UV
イ水平方向搬送装置及び垂直方向搬送装置の一致
，，（，）全体構成の一致に加え特徴的な部分として原出願の第３の実施形態図１７甲２
と原告の特願２０００−３４３４０１号の第１の実施形態（図１，甲４）とは，共に，装置
中央部に（原出願：搬送機構１６ａ，１６ｂ，特願２０００−３４３４０水平方向搬送装置
１号：水平方向搬送装置１４，１５）を備え，かつ，洗浄処理ユニット等とレジスト処理ユ
垂直方向搬送装置ニット等との間及び現像処理ユニット等とカセットステーションとの間に
（原出願：搬送機構１２，１４，特願２０００−３４３４０１号：垂直方向搬送装置６１，
６２）を備えている点で一致している。
④結論
以上のとおり，原出願の第１の実施形態（図１，甲２）と原告の特願２００２−５７３０３
号の第１の実施形態（図１，甲５，原出願の第２の実施形態（図１５，甲２）と原告の特願）
２００１−１２５７５０号の第１の実施形態（図１，甲８，原出願の第３の実施形態（図１）
７，甲２）と原告の特願２０００−３４３４０１号の第１の実施形態（図１，甲４）は，全体
構成及び特徴部が一致しており，全体として類似している。
（３）その他の類似点
原出願に係る発明は，以下のとおり，その他の点においても，原告の甲４−８出願に係る発明
と一致し又は極めて類似している。
①発明が属する技術分野の一致
原出願に係る発明と原告の甲４−８出願に係る発明とは，いずれも液晶表示装置（）ガLCD
ラス基板等の被処理基板に対してレジスト塗布及び露光後の現像処理，加熱処理等を施す基板
処理装置（処理システム）に関するものであり，技術分野が一致している。
②従来技術の一致
原出願に係る発明と原告の甲４−８出願に係る発明とは，いずれもフォトソリグラフィー技
術により回路パターンを形成するための処理システムとして，搬送路の両側に処理ユニットを
配置した処理システムを従来技術としている点で一致している。
③発明が解決しようとする課題の一致
原出願に係る発明と原告の甲４−８出願に係る発明とは，いずれも基板の大型化によLCD
り，処理システムのフットプリントが極めて大きなものとなってしまうことを課題としている
点で一致している。
④発明の目的・効果の一致
原出願に係る発明と原告の甲４−８出願に係る発明とは，いずれも基板処理のスループット
を低下させることなく，かつ装置構成上の問題を伴うことなく，処理システムのフットプリン
トを小さくすることができるという効果を有している点で一致している。
（４）原出願は原告の特許出願の情報を利用したものであること
原告の甲４−８出願（ただし，甲５については優先権主張の基礎とされた出願(特願２００１
−６６０２０号，優先日平成１３年３月９日)）は，原出願の出願日である平成１３年４月２７
日以前である平成１２年１１月１０日から平成１３年４月２４日までの間に出願され，原出願の
出願時には未だ公開されていないので，被告や原出願明細書の作成者は，原告の甲４−８出願の
内容・表現を通常のルートでは知り得ないはずである。それにもかかわらず，原出願の内容が原
告の甲４−８出願の内容と一致又は酷似しているということは，原出願明細書の作成者が，原告
の甲４−８出願の内容を不正な手段により又は悪意をもって取得し，これに基づいて原出願の出
願書類を作成したことに相違ないということができる。このように，原出願の出願書類は，原告
の甲４−８出願の出願書類に依拠し，その内容を利用して作成されたものであり，原出願に係る
発明及び本件特許発明は，被告によって発明されたものではないということができる。
４原告の特許出願に係る発明の背景
（１）原告の研究開発体制
原告は，半導体製造装置及び製造装置を製造・販売するメーカーである。原出願に係るLCD
発明及び本件特許発明の技術分野である半導体及び製造装置の分野においては，顧客から常LCD
に最先端の技術が求められる。そのため，原告は研究開発に力を注いでおり，平成１９年３月期
には売上高の７．７％に当たる５７０億円の研究開発投資を行った。そして，それらの研究開発
の成果を確実に保護するため，日本及び諸外国への積極的な特許出願を行っている。
半導体及び製造装置の製造・開発の現場では，塵芥（コンタミネーション）の発生を防LCD
ぐため，クリーンルーム設備が求められており，製造の分野では，ガラス基板サイズが年々LCD
大型化し，製造装置自体の大きさも４０ｍを超すものもあり，巨大なクリーンルーム設備が必要
となるため，そのための開発投資も数十億円に上る。
（２）原告の半導体塗布・現像装置
原告は半導体製造用の塗布・現像装置ＣＬＥＡＮＴＲＡＣＫＭａｒｋシリーズ以下Ｍ，（「
ａｒｋシリーズ」という）を平成元年以来販売してきた。Ｍａｒｋシリーズの第２世代であるＭ。
ａｒｋＶは，装置の中央に位置する搬送路に自走する搬送装置（メインアーム）を配置し，そ
の中央搬送路の両側にレジスト処理（塗布）ユニット・現像処理ユニット等を配するという特徴
的な構成を有していた。この特徴的な構成により，ＭａｒｋＶは，ユニット間を予め配置され
たとおりの順番に搬送することしかできなかった旧来装置及び競合メーカー装置と異なり，各ユ
ニットに対して自由にアクセスすることができ，高いスループットを実現可能とした。加えて，
競合メーカー装置と比べ，稼働中のトラブルが少なく，安定した高い稼働性を有していた。この
ような技術的優位性により，ＭａｒｋＶは顧客の信頼を得て多くの引き合いがあり，原告の半
導体塗布・現像装置が世界中で売れるきっかけとなった。その結果，原告の半導体塗布・現像装
置は，平成１２年時点での売上高が世界の７５．０％という圧倒的なシェアを有していた。
（３）原告の塗布・現像装置LCD
原告は，平成４年，第１．５世代基板（処理するガラス基板のサイズが３６０ｍｍ×４６５ｍ
ｍ）に対応する用塗布・現像装置ＣＳ４５０の販売を開始し，以後ＣＳシリーズの販売を行LCD
った。ＣＳシリーズは，ＭａｒｋＶのコンセプトをもとに開発・製造され，ＭａｒｋＶによ
って培った高いスループット，安定した高い稼働性を受け継いでいたため，顧客の信頼を得て多
くの引き合いがあった。その結果，原告の製造装置は，平成１２年時点での売上高が，塗布LCD
装置及び現像装置としてそれぞれ世界の５９％，７４％という圧倒的なシェアを有していた。
（４）新たな製造装置の必要性LCD
しかし，の分野では絶えず大型化の要求が強く，平成１２年ころには，要求される基板サLCD
イズが第４世代（例えば７３０ｍｍ×９２０ｍｍ）となり，更には第５世代（例えば１１００ｍ
ｍ×１２５０ｍｍ）も検討されるようになった。基板サイズの大型化に伴い，従来の製造装LCD
置をそのままスケールアップしただけでは，装置そのものの運搬や顧客の製造工場内における設
置場所に支障を生じてしまうことが明らかになった。さらに，基板サイズの大型化とは裏腹に，
ガラス基板の厚さは，薄型化への要求から，当初１．１ｍｍあったものが０．５又は０．７ｍｍ
と，より薄いものになってきた。これにより，ガラス基板のたわみが非常に大きくなり，従来の
搬送機構では高速に搬送することができず，スループットが低下することが明白であった。そこ
で，原告は，直径２００ｍｍまでの半導体基板が対象であるＭａｒｋシリーズを基礎とするＣＳ
シリーズの設計から脱却し，第５世代以降のガラス基板に対応するために，新しい搬送方式を採
り入れた次世代製造装置の開発に着手することにした。LCD
（５）次世代製造装置LCD
新しい搬送方式を採り入れた次世代製造装置の開発経緯は，以下のとおりである。LCD
①次世代製造装置の開発LCD
平成１２年●月●日に原告社内において開催された開発会議において，次世代製造装LCD
置の開発スケジュールが決定され，原告の甲４−８出願に係る発明の発明者であるＢを含むプ
ロジェクトメンバー１６名が選ばれ，以降，次世代製造装置の開発が始まり，装置コンLCD
セプトが検討され，Ｂ等により装置レイアウトが発明された。
②装置コンセプト
装置コンセプトについては，洗浄ユニット及び現像ユニットを回転式から平流し方式（ロー
ラー搬送方式）に変更すること，塗布ユニットは既存の装置の回転式を踏襲すること，熱処理
ユニットの設置面積を減らして積層数を増やし，これに応じて昇降ストロークを大きくしたサ
ブアームを設けること，平流し方式とサブアームとを用いてガラス基板を搬送すること，スキ
ップ搬送と基板回収が可能となるようにシャトルを設けることが検討された。
③装置レイアウト
上記装置コンセプトをもとに，Ｂは，基板搬送装置を外部の露光装置に接続し，複数枚のガ
ラス基板を収容するカセットを載置するカセットステーションからガラス基板を搬出し，外部
，（）の露光装置での処理を終えた後同じカセットステーションに戻す形式インラインシステム
の案として４つの案（Ａ案，Ｂ案，Ｂ’案，Ｃ案）と，露光装置を挟んで処理ユニットを直線
状に配置する形式（ストレートライン）の案の合計五つの装置レイアウトをまとめ上げた。
Ａ案とＢ案は，メインアームを用いずに平流し方式とサブアームとを組み合わせてガラス基
板を搬送し処理する装置レイアウトであり，Ｂ’案は，Ｂ案にシャトルを設けた装置レイアウ
トであり，Ｃ案は，メインアームを残し平流し方式とサブアームを有した装置レイアウトであ
り，ストレートラインの案は，洗浄ユニット（平流し方式）及び塗布ユニットと，現像ユニッ
ト（平流し方式）とにより，露光機を挟んだレイアウトである。
このようにして，原告社内で，Ｂ等により，装置レイアウトに関する５件の発明がされた。
５原告の特許出願に係る発明の発明者
上記５件の発明は，いずれも原告の子会社である東京エレクトロン九州の従業員であるＢ，Ｇ等
によって発明された。Ｂ，Ｇ等は，上記５件の発明についてそれぞれ知的財産権報告書を東京エレ
クトロン九州に提出した。例えばそのうち提案日が平成１３年（２００１年）●月●日の受付番号
●●●●の知的財産権報告書（甲２８）に記載された発明は，特願２００１−６６０２０号として
特許出願され，同特許出願は，特願２００２−５７３０３号（特開２００２−３３４９１８号，甲
５）の優先権主張の基礎とされた。
上記５件の装置レイアウトに関する発明について，Ｂ，Ｇ等と，東京エレクトロン九州の知的財
産部員，弁理士による打合せが行われ，これらの発明について，甲４−８出願がされた。上記５件
の発明と甲４−８出願との関係等は，以下のとおりである。
①特願２０００−３４３４０１号（特開２００２−１５１３８４号，甲４）
特願２０００−３４３４０１号は，原出願の出願日前の平成１２年１１月１０日に出願され，
原出願の出願日後に公開された。特願２０００−３４３４０１号に係る発明は，Ｂ等により発明
されたＣ案に相当する。
②特願２００２−５７３０３号（特開２００２−３３４９１８号，甲５）
特願２００２−５７３０３号は，原出願の出願日前の平成１３年３月９日に出願された特願２
００１−６６０２０号を優先権主張の基礎として出願され，原出願の出願日後に公開された。特
願２００２−５７３０３号に係る発明は，Ｂ等により発明されたＢ’案（Ｂ案も含む）に相当す。
る。
③特願２００１−８９８４７号（特開２００２−２８９５０１号，甲６）
特願２００１−８９８４７号は，原出願の出願日前の平成１３年３月２７日に出願され，原出
願の出願日後に公開された。特願２００１−８９８４７号に係る発明は，Ｂ等により発明された
ストレートラインに関する案に相当する。
④特願２００１−１１６３１１号（特開２００２−３１３６９９号，甲７）
特願２００１−１１６３１１号は，原出願の出願日前の平成１３年４月１６日に出願され，原
出願の出願日後に公開された。特願２００１−１１６３１１号に係る発明は，Ｂ等により発明さ
れたＢ案に変形を加えたものである。
⑤特願２００１−１２５７５０号（特開２００２−３２４７４０号，甲８）
特願２００１−１２５７５０号は，原出願の出願日前の平成１３年４月２４日に出願され，原
出願の出願日後に公開された。特願２００１−１２５７５０号に係る発明は，Ｂ等により発明さ
れたＡ案に相当する。
６本件特許発明と原告の出願に係る発明との類似性
下記の表に示すとおり，本件特許（甲１）の請求項１に係る発明の構成は，原告の出願である特
願２００２−５７３０３号の公開公報である特開２００２−３３４９１８号公報（甲５）にすべて
記載されている（対応する構成を同一色で示す。また，本件特許発明の他の請求項に係る発明の。）
構成も，特願２００２−５７３０３号に係る発明の構成に類似している。
甲第１号証甲第５号証
（特許第４００５６０９号特許公報）（特開２００２−３３４９１８号公報）
請求項１
スクラブ洗浄処理ユニッＡ．被処理基板をローラ搬送で搬送する【図１【００２２】上記ロー】
（３８：図２）を内部に備えるとは，その中で基板Ｇが従来のようラ搬送機構ト（ＳＣＲ）２１
洗浄ともに被処理基板をローラにて搬送しつつ前に回転されることなく，略水平に搬送されつつ
記被処理基板に対してを施すを行うようになっている。…。洗浄処理洗浄処処理および乾燥処理
（２１：図１，図２）と，なお，これらスクラブ洗浄処理ユニット（ＳＣＲ）理部
２１および現像処理ユニット（ＤＥＶ）２４では，
基板Ｇの搬送は例えばまたはベルト搬送にコロ搬送
より行われ・・後略・・，（）
熱的処理ユニッ【図１【００２４・・前略・・】】（）
スクラブ洗浄処理ユニットブロック（ＴＢ）３１は
側に設けられ・・後略・・ト（ＳＣＲ）２１，（）
：スクラブ洗浄処理ユニット（ＳＣＲ）２１と熱註
的処理ユニットブロック（ＴＢ）３１が「洗浄処理
部」に相当する。
レジスト処理ユニッＢ被処理基板を搬送する７【図１【図２【００２３】．（】】第一の搬送機構
９（６９，７０：図４）を内部に備えるととは，図２のその内部の平面図に示すように，）ト２３
もに前記第一の搬送機構にて搬送される被処カップ５０内で基板Ｇをスピンチャック５１により
理基板に対してを施回転させつつ図示しないノズルからレジスト液を滴レジストを塗布する処理
レジスト塗布処理装置（ＣＴ）２す（２２：図３，図４）下させて塗布するレジスト塗布処理部
と，ａ・・中略・・がその順に配置されており，ガ３，（）
一対のサブイドレール５５にガイドされて移動する
により基板Ｇがこれらの間を略水平に搬アーム５６
送される・・後略・・。（）
熱的処理ユニッ【図１【００２４・・前略・・】】（）
レジスト処理ユニット２トブロック（ＴＢ）３２は
側に設けられている・・後略・・３。（）
：レジスト処理ユニット２３と熱的処理ユニット註
ブロック（ＴＢ）３２が「レジスト塗布処理部」に
相当する。
Ｃ．前記（２１：図１，図２）及【図１【図３【００２４】第１の熱的処理ユニ洗浄処理部】】
び前記（２２：図３，図ットセクション２６は，基板Ｇに熱的処理を施す熱レジスト塗布処理部
熱的処４）の外部であって前記洗浄処理部と前記レ的処理ユニットが積層して構成された２つの
ジスト塗布処理部との間に配置され前記被処を有してお理ユニットブロック（ＴＢ）３１，３２
熱的処理ユ理基板を搬送する自走不可であるり・・中略・・そして，これら２つの第二の搬送，（）
第１の搬機構（１２：図１，図２，図３）と，の間にニットブロック（ＴＢ）３１，３２
送装置３３第１のが設けられている・・中略・・。（）
は，パスユニット（ＰＡＳＳ）６１を搬送装置３３
介してのスクラブ洗浄処理ユニット（ＳＣＲ）２１
からの基板Ｇの受け取り，上記熱的処理ユニット間
，（）の基板Ｇの搬入出およびパスユニットＰＡＳＳ
６５を介してのレジスト処理ユニット２３への基板
Ｇの受け渡しを行う。
熱的処理Ｄ．前記（２１：図１，図２）ま【図１【図３【００２４・・前略・・洗浄処理部】】】（）
たは／及び前記レジスト塗布処理部（２２：は，下から順に基板ユニットブロック（ＴＢ）３１
，図３，図４）に対する前記被処理基板の搬入Ｇの受け渡しを行うパスユニットＰＡＳＳ６１（）
脱水ベまたは／及び搬出されるの上方に配置さ基板Ｇに対して脱水ベーク処理を行う２つの位置
れ前記被処理基板に熱処理を施す処理部を複，基板Ｇに対しークユニット（ＤＨＰ）６２，６３
アドーヒージョン処理ユニット数積層してなる（２５，２８て疎水化処理を施す第一の熱処理部
：図２）と，の４段積層されて構成されており・・（ＡＤ）６４，
パスユニットＰ（），後略・・第１の搬送装置３３は（
スクラブ洗浄処理ユニットＡＳＳ）６１を介しての
，（）（）ＳＣＲ２１からの基板Ｇの受け取り・・中略
・・を行う。
現像処理ユＥ．被処理基板をローラ搬送で搬送する【図１【００２２・・前略・・上記ロー】】（）
（８５：図６）を内部に備えるとも，その中で基板Ｇが回転さラ搬送機構ニット（ＤＥＶ）２４
現像液塗布，ともに被処理基板をローラにて搬送される前れることなく，略水平に搬送されつつ
記被処理基板に対してを施すを行うように現像処理現像処現像後の現像液洗浄，および乾燥処理
（２３：図６）と，なっている。なお，これらスクラブ洗浄処理ユニッ理部
（）トＳＣＲ２１および（）現像処理ユニットＤＥＶ
では，基板Ｇの搬送は例えばまたはベ２４コロ搬送
ルト搬送により行われ・・後略・・，（）
第Ｆ．この（２３：図６）の外部に【図１【図４【００２６・・前略・・なお，現像処理部】】】（）
配置され前記被処理基板を搬送する自走不可は，第１の搬送装置３３と同じ構２の搬送装置３６
である（１３：図１）と，造を有しており，熱的処理ユニットブロック３４，第三の搬送機構
３５のいずれのユニットにもアクセス可能である。
現像処理ユニット（ＤＥ註：第２の搬送装置３６が
の外部に配置されることは図１から明らかＶ）２４
である。
熱的処理Ｇ．前記（２３：図６）に対する【図１【図４【００２６・・前略・・現像処理部】】】（）
前記被処理基板の搬入または／及び搬出されは，下から順に基板ユニットブロック（ＴＢ）３５
，る（２３：図５，図６）の上方に配置さＧの受け渡しを行う位置パスユニットＰＡＳＳ７３（）
れ前記被処理基板に熱処理を施す（７基板Ｇを冷却するクーリングユニット（ＣＯＬ）７処理部
プ５：図５，図６）を複数積層してなる４，基板Ｇに対してプリベーク処理を行う２つの第二の
（７３：図５，図６）と，の熱処理部リベークユニット（ＰＲＥＢＡＫＥ）７５，７６
を具備し，４段積層されて構成されている。第２の搬送装置３
６は，パスユニット（ＰＡＳＳ）６９を介してのレ
ジスト処理ユニット２３からの基板Ｇの受け取り，
パスユ上記熱的処理ユニット間の基板Ｇの搬入出，
現像処理ユニッニット（ＰＡＳＳ）７３を介しての
，（）トＤＥＶ２４（）への基板Ｇの受け渡し・・中略
・・を行う・・後略・・。（）
第１の搬Ｈ前記１２：図１図２【図１【図３【００２５・・前略・・．（，，】】】（）第二の搬送機構
図３）は，前記（２５，２８はこのように上下動，前後動，旋回動可第一の熱処理部送装置３３
熱的処理ユニットブロッ：図２）に対して前記被処理基板を搬入出自能に設けられているので，
在であり，，３２のいずれのユニットにもアクク（ＴＢ）３１
セス可能である。
第Ｉ．前記（１３：図１）は，【図１【図４【００２６・・前略・・なお，第三の搬送機構】】】（）
前記（７３：図５，図６）には，第１の搬送装置３３と同じ構第二の熱処理部２の搬送装置３６
対して前記被処理基板を搬入出自在である造を有しており，３４，熱的処理ユニットブロック
のいずれのユニットにもアクセス可能である。３５
Ｊ．ことを特徴とする基板処理装置。【０００１】本発明は，例えば液晶表示装置（Ｌ
ＣＤ）ガラス基板等の被処理基板に対してレジスト
塗布および露光後の現像処理，ならびにそれらの前
後に行う熱的処理のような複数の処理を施す処理装
置に関する。
原出願明細書の【００３６】の「最小単位の装置の構成化を図ることにより装置の配置構成に自
由度を向上させ，装置構成上の問題を伴うことなく装置全体の小型化が向上し装置全体のフットプ
リントを小さくすることができる」との記載によれば，原出願に係る発明の「フットプリントを小。
」，「」。，さくするという課題は最小単位の装置のブロック構成化を図ることにより達成される他方
甲５の【００１７】には「前記複数の熱的処理ユニットが，前記各熱的処理に対応するもの毎に集，
約された複数の熱的処理ユニットセクションを構成するようにすることにより，よりフットプリン
トを小さくすることができ」と記載されており「各熱的処理に対応するもの毎に集約された複数の，
熱的処理ユニットセクションを構成する」ことは「最小単位の装置のブロック構成化を図ること」，
に他ならない。このように，甲５に記載された発明と原出願に係る発明は，課題解決のための技術
的思想が同一であり，発明として同一又は少なくとも類似である。したがって，原出願明細書は，
甲５を含む甲４−８出願明細書に依拠して作成されたと推測される。
７原出願の出願手続
（１）原出願明細書作成者
原出願は，原告の元従業員であるＨ（以下「Ｈ」という）が出願書類を作成し，Ｈの名を秘。
すべき事情から，被告が出願したものと推測される。
（２）Ｉ弁理士の陳述書
，，（），原出願は特許出願時には弁理士の代理によらないいわゆる本人出願甲２３であったが
平成１５年１１月１１日付けでＩ弁理士（以下「Ｉ弁理士」という）等が代理人受任届を特許庁。
に提出しており，現在はＩ弁理士が代理人の一人である。Ｉ弁理士は，本件特許の出願の代理人
の一人でもある（甲１。Ｉ弁理士の説明によれば，Ａ（当時は弁理士ではない）が原出願の代）。
理をＩ弁理士に依頼した後，被告（Ｙ）を名乗る人物がＩ弁理士の事務所を訪問し，原出願に関
する基板処理装置の搬送について技術的な説明を精力的に行った。
被告（Ｙ）を名乗ってＩ弁理士を訪問した人物は，実は，被告（Ｙ）ではなく，当時原告の従
業員であったＨ（甲４６，４７）であった。Ｈは，平成１５年７月●日に原告を退職し，同年１
０月●日，知的財産権に関する様々なサービスを提供するＪ社（以下「Ｊ社」という）という会。
，。，（），社を設立し現在は同社の代表取締役社長であるＨは本名を隠して被告Ｙになりすまし
Ｉ弁理士に対して原出願に関する技術を詳しく説明したことから，原出願の冒認の経緯に密接に
関連していることが強く推測される。
（３）原出願とＡとの関係
原出願の要約書の誤添付の事実から，Ａは，原出願に関与していたことが認められ，Ａは，原
出願の出願当時原告の従業員であったＨから原出願明細書，特許請求の範囲，図面の原案を渡さ
れて，原出願の出願書類の校正，製図（外部業者に依頼）を行った上，出願の手続を行ったもの
と推測される。
（４）原出願とＨとの関係
Ｈは，平成２年●月●日に原告に中途入社した後，平成１５年７月●日に原告を早期退職する
まで，原告社内で特許出願，権利化，他社の特許に対する対策，特許権侵害訴訟等の知的財産に
関する業務に従事していた（甲４６。）
Ａは，昭和６３年４月から平成８年１２月まで，Ｄ特許事務所に特許技術者として勤務し，そ
の間，原告や原告の製造関連子会社である東京エレクトロン九州（以下，原告と「東京エレクト
ロン九州」を包括して「原告会社等」という）の担当であった。Ｈは，原告の知的財産部員であ。
ったころ，原告会社等の業務を通じて，Ｄ特許事務所に勤務していたＡと懇意になった。
Ｈは，原出願（平成１３年４月２７日出願）当時，原告の従業員であり（甲４６，原告の知）
的財産に関する業務に従事していたことから，原告の甲４−８出願明細書等の書類の内容・所在
場所を知っており，それらの書類を取得する手段を知っていた。Ｈは，原告の甲４−８出願明細
書等に基づいて，原出願の明細書，特許請求の範囲，図面原案を作成したものと推測される。
ＨがＡ弁理士に宛てた平成１９年（２００７年）８月８日午前１１時３８分の電子メール（甲
５１）によれば，ＨはＡ弁理士に対し，原出願（特願号）について，早期審査請求2001-170284
ではなく，通常の審査請求を依頼し，現在のクレームを添付クレームに差し替えるよう55claims
にとの指示を出している。その指示の際に「現クレームはカモフラージュなので不必要です」，。
と述べている。原出願は，平成１３年４月２７日に特許出願されてから一度も補正がされておら
ず，上記の「現クレーム」とは，出願当初のクレームを指す。そうすると，Ｈは，原出願の出願
当初のクレームの意義をよく知っていたということであり，原出願のクレームを作成した者は，
被告（Ｙ，Ａではなく，Ｈであると推測される。）
したがって，Ｈは，原告の甲４−８出願明細書等を原告社内で取得し，これらに基づいて原出
願の明細書，特許請求の範囲，図面原案を作成し，原告会社等とは何ら関係のない被告（Ｙ）を
発明者及び出願人として願書に記載し，Ａに出願手続を依頼したものと推測される。
ちなみに，Ａ弁理士は，ＨからＡ弁理士に宛てられた平成１９年（２００７年）８月８日午前
１１時３８分の電子メールを，Ｋ特許事務所の事務員であるＬに対し，同日午後１２時４６分に
転送して送信している（甲５１。この転送の電子メールの送信者であるＡ弁理士のメールアドレ）
スは「省略）」であり，Ｊ社のメールアドレスであることを示すドメイン名（@abcdefgh.com
「」が含まれている（甲５２のＡ弁理士の電子メールでも同様である。Ｊ社の従@abcdefgh.com。）
業員ではないＫ特許事務所のＡ弁理士がＪ社のメールアドレスをもっていることから，ＨとＡ弁
理士との間に非常に密接な関係があるといえる。
（５）原出願とＩ弁理士との関係（甲４５）
①Ｉ弁理士への原出願の代理の依頼
Ｉ弁理士は，平成１２年●月に新宿区高田馬場にＭ特許事務所を開設し，平成１５年●月に
中央区京橋にＫ特許事務所を開設し，平成１６年５月にＡ弁理士がＫ特許事務所にパートナー
として入所したが，平成２１年，Ｉ弁理士はＡ弁理士とのパートナーシップを解消した。
Ｉ弁理士は，平成１３年，以前勤務していたＤ特許事務所の同僚であったＡ（当時はまだ弁
理士ではなかった）から，原出願（特願２００１−１７０２８４号）に関し「特願２００１。，
（），。−１７０２８４号の出願人発明者であるＹは願書表示上の住所に不在となることが多い
，，，，このため特許庁から書類等が発送されると本人に渡らないか紛失する可能性があるので
Ｙの代理人となっていただきたい」との代理の依頼を受けた。。
②被告（Ｙ）になりすました人物とＩ弁理士の面会
Ａからの代理の依頼の後，Ｙを名乗る人物がＩ弁理士の事務所に来所した。来所時期は，平
，。，，（）成１４年８月以前であり平成１３年であると考えられるＹを名乗る人物は実は被告Ｙ
ではなく，Ｙを名乗るＨであった。
③Ｈの面会の内容
Ｈは，Ｉ弁理士の事務所の会議室に設置してあったホワイトボードに，基板処理装置の搬送
に関する事項を書きながら，大きな声で精力的に技術的な話をした。また，特許の拒絶理由に
ついての実務的な話（公知文献と被告（Ｙ）名義の出願に係る発明を対比した説明）をした。
Ｈは，さらに，ある会社（大日本スクリーン製造株式会社と考えられる）の半導体や液晶基。
（），板の製造装置が被告Ｙ名義の出願に係る発明の技術的範囲に属することを示す資料として
それらの装置のカラーコピーを示した。
④Ｉ弁理士への原出願の代理の２回目の依頼
Ｉ弁理士は，Ａから原出願について代理の依頼があった後も，特許庁に被告（Ｙ）の代理人
受任届を提出していなかった。Ｙを名乗るＨは，Ｉ弁理士に対し，平成１５年１１月４日付け
ＦＡＸにより，直接，原出願の代理を依頼した。平成１５年１１月４日付けＦＡＸ（甲５３）
は，Ｋ特許事務所の事務担当Ｎに宛てた，Ｙ作成名義の文書であるが，以下に示すとおり，Ｈ
がＹの名を用いて作成したものである。
Ｙの住所として記載されている（住所省略）は，Ｊ社の住所である（甲４８ないし５０。）
Ｙの電話番号として記載されている（電話番号省略）はＨの携帯電話番号（甲４８）である。
「Ｙ」との署名の筆跡は，本訴委任状（甲５４）の筆跡と異なり，Ｈのものである。上記Ｆ’
ＡＸの署名は，本来「Ｙ」と記すべきところ，誤って「Ｙ」と記載されており，Ｙによって’
。，，，書かれたものではない上記ＦＡＸでは原出願の代理の依頼の他原出願の分割出願を行い
その分割出願の早期審査請求をすることの依頼が記載されており，併せてその分割出願のため
のクレーム案が添付されていた。上記ＦＡＸの文面には「親願「分割を早期審査請求」な，」，
どのような特許出願手続に精通している者の表現が用いられている。被告（Ｙ）本人は，分割
出願や早期審査請求の制度をよく知っているはずはなく，このような制度を熟知しているＨが
これらを依頼したものであり，上記ＦＡＸに添付されていた分割出願のためのクレーム案もＨ
。，，（），，が作成したものと推測されるこのようにＨは被告Ｙになりすまして原出願の依頼
中間処理依頼をした。
（６）Ｊ社への請求
①被告（Ｙ）名義の特許出願等の案件に関して，平成１６年８月までの費用は，Ｋ特許事務所
から被告（Ｙ）に請求され，被告（Ｙ）の名義で支払われている。平成１６年５月にＡ弁理士
がＫ特許事務所に入所し，被告（Ｙ）の案件の担当がＡ弁理士に変更された後，すなわち平成
１６年１０月２６日以降の被告（Ｙ）の案件（本件無効審判，本訴に関する費用も含む）の。
費用は，直接Ｊ社に請求され，Ｊ社が支払っている（甲５５。）
②被告（Ｙ）の案件の費用は，被告（Ｙ）自身が支払うべきところ，請求がＪ社に対してされ
。，（），ている点は不自然であるまた被告Ｙの案件の費用合計は１３６４万６３０４円になり
これは，平成１０年の退職後定期収入を得ておらず，生活に困らない程度の資産を有していた
という被告（Ｙ）が普通に支払える金額を超えたものであるから，Ｊ社が支払ったものと考え
られるが，これも不自然である。
（７）Ｏ弁理士の陳述書
①原告の甲４−８出願明細書は，Ｏ弁理士（以下「Ｏ弁理士」という）が作成し，その出願は。
Ｏ弁理士が代理人として行ったものである。
②Ｏ弁理士の見解によれば，原出願は甲４−８出願（特に特開２００２−３３４９１８号，甲
５）と同一内容を含み，非常によく似ている。Ｏ弁理士は，顧客である原告の知的財産担当者
であったＨをよく知っており，Ａ弁理士とは，Ｄ特許事務所に勤務していた時の同僚として既
知の間柄である。
③Ｏ弁理士の記憶によれば，Ｈは，平成４年から原告の知的財産担当となり，最初はプラズマ
エッチング装置等に関する特許を担当しており，途中から本件に関係のある塗布・現像装置の
特許の担当となった。Ｏ弁理士は，知的財産部門の担当者であるＨとは案件ごとに打ち合わせ
を行っていた。Ｈは平成１２年ころから塗布・現像装置のマーケティングの所属となったが，
依然として知的財産の業務を行っており，特許出願の中間処理の打ち合わせ，特許庁審判官と
の面接に関与していた。Ｈは，特許に関する知識，社内の技術に関する知識が豊富であり，極
めて積極的で仕事熱心であった。特許案件の一つ一つについて極めてハードな打ち合わせを行
い，クレームドラフティングもＨが積極的に行っていた。また，特許事務所を事前の予約なし
に訪れて中間処理等の打ち合わせを行うこともあり，その際にはホワイトボードを使って熱心
に説明していた。
④Ｏ弁理士によれば，Ａは，昭和６３年にＤ特許事務所に入所し，主に無機材料，半導体，半
導体製造装置等の特許明細書の作成及び中間処理の案件に従事しており，同事務所在勤中はま
だ弁理士になっていなかった。平成４年ころから，原告の扱うプラズマエッチング装置や本件
に関連する塗布・現像装置等の外国出願を担当するようになった。Ｏ弁理士は，Ａ弁理士がど
の程度の明細書作成能力を有するか把握していない。
⑤Ｏ弁理士によれば，原告が扱っている半導体製造装置等は，いわゆる産業機械であるため，
一般人の目に触れることがなく，技術的に極めて専門的である。そして，このような技術分野
の発明は，過去の長い技術の蓄積に基づくものが多く，しかも種々の技術が複合したものであ
って，この分野の技術に日々従事している者でなければ発明をすることが困難であると考えら
れる。
被告（Ｙ）の主張によれば，被告は，幾つもの企業を転々とし，種々の技術分野に経験を有
しているというが，それでは高度の専門性を獲得できないはずであり，本件特許発明のような
技術的に極めて専門的で複雑な発明をする能力に欠けていたと考えるのが自然である。明細書
の作成に当たっては，専門的な技術知識と高度な明細書作成能力の両方を必要とするが，原出
願に係る発明と同一技術分野の業務に従事したことがない被告が原出願に係る発明及び本件特
許発明をしたとは考えられない。原出願明細書は，原告の甲４−８出願のうち特開２００２−
３３４９１８号（甲５）の明細書と全体構成がほぼ同じであるものの，細部では詳しい技術内
容が加えられており，原出願明細書を作成した者は，半導体製造装置等の技術に極めて精通し
ており，明細書の作成にも精通した者であると考えられる。さらに，被告（Ｙ）が発明者又は
出願人である特許出願は，原出願が初めてである。このようなことから，被告が原出願に係る
発明，本件特許発明をし，その明細書を作成したとは考え難い。
⑥Ａ弁理士は，原告関連の業務としては，基礎となる日本出願が存在する外国出願しか行って
おらず，その従事期間も短いから，原出願に係る発明，本件特許発明の技術分野に精通してい
たとは考えられない被告の指示のもとに原出願や本件特許出願の明細書を作成できたとは考え
難い。
原出願明細書には，原告の甲４−８出願明細書と同一の表現が同一の順序で「従来の技術」
と「発明が解決しようとする課題」の欄に用いられており，これは偶然の一致とは考え難く，
原告の甲４−８出願明細書を見て原出願明細書が作成されたと推測される。
⑦Ｏ弁理士の記憶によれば，Ｈは，特許の知識が豊富で，技術にも精通していたから，Ｈの能
力をもってすれば，原告の甲４−８出願明細書を見て原出願明細書を作成することは可能であ
り，また，原出願から分割出願を行うことは容易に行うことができる。
⑧原出願当時，Ｈは，原告の組織上はマーケティング部門に属していたが，弁理士との特許案
件の打ち合わせに同席することもあった。Ｈが，Ｏ弁理士が作成した甲４−８出願明細書を取
得することは容易であったと考えられる。
⑨原出願に係る発明及び本件特許発明は，被告が発明したとは考え難く，Ｈが原告の甲４−８
出願明細書を取得し，その内容に，Ｈが原告社内で取得した技術情報を加え，被告（Ｙ）を発
明者及び出願人として，Ａを通じて特許出願したものであると考えられる」。
第４被告の反論
，，。審決の認定判断に誤りはなく原告主張の取消事由はいずれも理由がない
１冒認出願についての主張立証責任の判断の誤り（取消事由１）に対し
冒認出願であることの主張立証責任を無効審判請求人である原告が負うとの
審決の判断に誤りはない。
，，，また発明者を出願人として公知技術でない発明の内容を特許請求の範囲
明細書に記載して特許出願した場合には，冒認出願ではなく発明者本人による
出願であるとの事実上の推定が働き，この推定は，冒認出願であるという抽象
的な指摘を受けただけで覆ることはない。そのため，仮に発明者であることの
主張立証責任が出願人である特許権者にあるとしても，冒認出願であることを
主張する者が，上記の事実上の推定に合理的な疑いを生じさせるような主張立
証を行う必要がある。
２審決の結論に影響を及ぼす手続上の誤り（取消事由２）に対し
審判においてどのような審理方式を採用するかは審判官の裁量であり，口頭
審理を採用せず書面審理によったことに違法はない。
本件審判において原告が行った主張立証によっては，被告が発明者であるこ
とに合理的な疑いを生じさせることはないから，審判官が証人尋問，当事者本
人尋問を不採用としたことに違法はない。
被告作成名義の包括委任状の被告の住所が住民票と相違し，委任事項の記載
に多少の問題があったとしても，本件審判における答弁書の提出について委任
の意思を読み取ることができれば，委任の効力が妨げられることはない。被告
は，平成１６年１０月当時は，茨城県石岡市の家と東京都大田区のアパートを
往復する生活をしており，住所として前者を記載しただけのことであるから，
委任の意思は明確である。また，仮にＡ弁理士が代理権なく答弁書を提出した
としても，答弁書の内容は簡単なものであるから，それによって審決の結論に
影響があったとは考えられない。
３本件特許が冒認出願に対してされたものであるとすることはできないとの判
断の誤り（取消事由３）に対し
原告は，本件審判において，被告の経歴等からして被告が本件特許発明をす
ることは不可能であること，原出願明細書と原告が行った特許出願の明細書と
，，の間に多くの共通点・類似点があることを根拠として被告は発明者ではなく
原告が巨額の開発費を投じて行った発明を知り得る立場にあった第三者が自ら
の名前を秘すべき事情があったため，被告が本件特許出願を行ったものである
と主張するのみであり，原告は，本件特許出願が冒認出願ではなく発明者本人
による出願であるとの事実上の推定に合理的な疑いを生じさせるような主張立
証を行わなかった。そのため，審決は，本件特許が冒認出願に対してされたも
のであるとすることはできないと判断したものであり，審決の判断に誤りはな
い。被告が発明者であることは，下記の「被告が発明者であることを示す間接
事実」記載のとおりである。
記
「被告が発明者であることを示す間接事実」
（審決後に明らかになった事実を含む）。
「１被告の職歴，素養
被告は昭和２●年生まれであり，専門学校を卒業後，昭和４●年●月に就職して通信機器のメン
テナンス技術者となった。同年●月から別会社に勤務し，主に安定化電源装置の試作品の稼働デー
タの取得業務に従事した。昭和５●年●月から昭和５●年●月まで●●●に留学し，専門学校に在
学してデジタル技術の単位を取得するなどした。そのころに，パネルジェネレーター（機械装置の
制御関係等に用いられる装置）の試作を行った。帰国後，就職し，パーソナルコンピューターの開
発（インターフェイスの開発・試作品の稼働データの取得など）に従事した。その後，昭和５３年
●月から同年●月まで建築設計事務所の勤務を経て（この経験は，その後，機構の検討の際に役立
った，同月から別会社に勤務した。同社を昭和５９年●月に退社し，会社を設立して平成７年１。）
２月まで経営した。同会社が業務を受託した先は，主に日本電気株式会社（ＮＥＣ）や株式会社東
芝であった。被告は，昭和５３年から平成７年１２月までの約１７年間，機械装置制御や無線制御
に関する開発，例えば，洗浄装置，レジスト処理装置，エッチング処理装置，プリント基板製造装
置，ＣＶＤ装置，通信制御関係の装置に関する開発等に従事した。
被告は，平成７年に会社の経営を終えたが，バブル破綻までの好景気の時期にそれなりの資産を
蓄えた。その後，同年から就職し，無線機の作成などに従事したが，平成１０年に退職し，その後
は定期収入を得ていないが，生活に困らない程度の資産を保有している。
被告は，特許に関心があったことから，特許明細書を読み，ＦＰＤ（フラットパネルディスプレ
イ）の展示会も訪れ，大日本スクリーン製造株式会社の特許（特開平１１−２６０８８３号。以下
「大日本スクリーン特許」という。その公開公報は乙１である）が目にとまり，同特許を出発点に。
他の特許も参照するなどしながら特願２００１−１７０２８４号（原出願）に係る発明をした。
２被告が原出願に係る発明をした事実
被告は，大日本スクリーン特許（乙１）を基礎とし，乙２ないし５の特許公報を参考にして原出
願に係る発明をした。
（１）大日本スクリーン特許を基礎とすること
原出願にかかる発明は，大日本スクリーン特許の図１の実施形態に以下の改良を加えたもので
ある。
①脱水ベークユニット２０を洗浄ユニット１０とレジスト塗布ユニット３０の上部に分割して
配置。
②ＵＶオゾン洗浄部１２を洗浄ユニット１０の上部に配置。
③ポストベークユニット９０を現像ユニット８０の上部に配置。
④空間部の基板の載置テーブル７を，空間部内を移動可能にした。
⑤ポストベークユニット９０，脱水ベークユニット２０を上部に配置したことから，被処理基
板がローラー搬送で搬入できないため，非自走の搬送機構を複数配置。
⑥ポストベークユニット９０，脱水ベークユニット２０を上部に配置したが，これら熱処理部
からの熱が洗浄ユニット１０，レジスト塗布ユニット３０，現像ユニット８０に影響するのを
抑制するために，温度調整処理部を介在させた。
（２）他の参考特許公報
被告は，原出願に係る発明をするために，大日本スクリーン特許を基礎として，以下のとおり
乙２ないし５の特許公報を参考にした。
①洗浄ユニット１０と現像ユニット８０の各内部については，特開平１１−８７２１０号公報
（特許権者：大日本スクリーン製造株式会社，乙２）を参考にした。
，（，②レジスト塗布３０の内部については特開２０００−１９４１３９号公報特許権者：原告
乙３）を参考にした。
③原出願明細書（甲２）の【０１０８】の第３の実施例以降において空間部の搬送機構にアー
ムを使用することについては，特開２０００−５６４７５号公報（特許権者：原告，乙４）又
は特開２０００−１９４１３９号公報（特許権者：原告，乙３）を参考にした。
④原出願明細書甲２の０１３６以降の記載は特開２０００−１３３６４７号公報特（）【】，（
許権者：原告，乙５）を参考にした。
（３）発明の過程
被告は，大日本スクリーン特許を見ながら，まず，制御関係を検討した。また，ある単位装置
（），，，本件原出願でいう各処理部が発する熱電波飛散物等は他の単位装置に影響を与えるため
制御関係の検討は，単位装置の互いの位置関係，装置の配置とも関係するから，大日本スクリー
ン特許の【図１】などを見ながら，装置の配置についても関心を抱いた。そして，この大日本ス
クリーン特許の【図１】の実施形態から，連続する単位装置によって構成される全体としての一
連の装置（生産ライン）が直線的に長く設置面積「フットプリント」が大きいという印象を受け
た。
，，，，被告は一連の装置の配置が長くフットプリントが大きいとそれだけ工場内における装置
設備のレイアウトに制約を生じさせ，工場設備（クリーンルームなど）に対するコストの上昇を
招くこと，他方ではフラットパネルディスプレイの大型化等に伴い，それを製造する単位装置や
それによって構成される一連の装置も必然的に大型化がすすんでいることは，従前から当然の知
識として有していた（フットプリントの縮小化に言及している特許公報も複数存在した。そこ。）
で，もっと単位装置の効率的な配置が考えられないかということに強い関心を抱いた。まず思い
至ったのは「熱を発する単位装置（熱処理部）を他の単位装置（他の処理部）の上にあげてしま，
ってはどうだろうか。他の処理部の上に上げればその分はフットプリントが小さくなり，更に熱
は上に昇るので熱処理部を上に上げることにより他の単位装置に熱の影響も与えにくくなる」と。
いう発想であった（そうすると上に基板を搬送する機構が必要となる。。）
また，一連の装置の配置が長く，その長く配置された装置を経て基板が製造されるということ
は，ある単位装置における処理において不良・不具合が発生した基板に対して，その後も他の単
位装置による処理が続けられることを意味するが，これでは効率が悪く，ある単位装置における
処理において不良・不具合が発生した基板のみを一連の装置の搬送過程の途中で取り出して改め
て当該単位装置における処理を受けさせるなどする方が効率的である。このことから「単位装置，
における処理において不良・不具合が発生した基板のみを一連の装置の搬送過程の途中で取り出
して改めて当該単位装置における処理を受けさせるような搬送機構を備えた方が良いのではない
か。そのためには，大日本スクリーン特許の【図１】における中央の空間部（おそらく装置のメ
）。ンテナンスなどに利用するために人間が移動するための空間の活用をしてみたらどうだろうか
空間部の基板の載置テーブル７を空間部内を移動可能にとしてみたどうだろうか」という発想を。
抱いた。
さらに，構想を続け，例えば「洗浄装置内とレジスト塗布装置内と現像装置内においてミスト
等の雰囲気干渉の影響を与えないようにシャッターないしエアナイフをつけてはどうだろうか」。
など，さまざまな検討をした。他の特許も参考とした。例えば，もともと大日本スクリーン特許
において基板の搬送には平流し方式（ローラー搬送方式）がとられていた。他方で，原告の既に
公開されている特許（特開２０００−５６４７５号(乙４)，特開２０００−１９４１３９号(乙
）。，３)ではアーム方式が採用されていた平流し方式とアーム方式にはそれぞれ長短があるところ
特定の基板（単位装置で不良が生じた基板）を一連の装置の搬送過程から取り出したり上下に移
動させたりするにはアーム方式が適する。それをサブに用いて，メインである平流し方式を補完
しようとする発想を得た。
このような発想，検討の結果，原出願の基板処理装備，処理方法，基板の製造方法が良いので
はないかという結論にたどり着いた。また，上記から理解されるとおり，公知事実を前提とすれ
，，，ば巨額の資金特別な設備や原告主張の知識すべてを原告主張の程度にまで有していなくても
原出願に係る発明をすることは可能であり，事実，被告が原出願に係る発明をした。
３被告の発明と原告の特許出願に係る発明の非類似性
（１）原告主張の破綻
原出願明細書と原告の甲４−８出願明細書が類似する箇所は数箇所にとどまり，全体にわたる
ものではない。また，本件特許の請求項は複数あるにもかかわらず，そのうちで原告が甲４−８
出願に係る発明との類似点を具体的に指摘しているのは，請求項１についてのみであり，その他
の請求項に関する具体的な主張は全くない。このように，原告主張を前提としても，原出願に係
る発明と原告の甲４−８出願に係る発明の類似点はごく一部にとどまり，一部分についての類似
点の存在を理由として，原出願に係る発明及び本件特許発明の全部について真の発明者はＢ等で
あるなどと結論付ける原告の主張は明らかに論理破綻している。
（２）非類似の請求項の存在
原告は，本件特許の請求項１に係る発明の構成が，原告の出願である特願２００２−５７３０
３号の公開公報である特開２００２−３３４９１８号（甲５）にすべて記載されていると主張す
るが，本件特許の他の請求項について，原告の出願に係る発明との類似性を具体的に主張してい
ない。
，，，，また類似する請求項が一部に存在するとしても被告は原告の特許も参考にしているので
直ちに冒認が根拠づけられることはない。
（３）表現の一致について
原告は，原出願明細書と原告の甲４−８出願明細書に「被処理基板「いわゆるフォトリソ，」，
グラフィー技術により回路パターンを形成する「一辺が１ｍにも及ぶような巨大なものまで出」，
現するに至り「フットプリントが極めて大きくなって「装置構成上の問題を伴うことなく，」，」，」
「フットプリントを小さくすることができ」という表現が使われていることから，何者かが原告
の特許出願の明細書の内容を何らかの手段を講じて不正に取得したと推測されると主張する。
確かに，これらの表現が共通していることは事実であるが，これらは，それほど特徴的である
とはいえないありきたりの表現であって，この程度の言葉の重複をもって，冒認との重大な結論
。，を導くことはできないこれらの言葉ないしそれらに類似する表現が用いられている公報の例は
平成１１年と平成１２年に公開になったものだけから探しても，以下のとおり存在する。
①「被処理基板「いわゆるフォトリソグラフィー技術により回路パターンを形成する」」，
番号出願人箇所文言
特開平いわゆる…フォトリソグラフィー技術により…パターン化を図110008
−東レ㈱った339554
（乙６）フォトリソグラフィー技術を用いて回路パターンを形成する0016
特開フォトリソグラフィー技術…回路パターンを形成する20000003
188251−
（乙７）原告被処理基板0004
フォトリソグラフィー技術によって形成するべき回路パターン0005
特開トリソグラフィー技術により，各種基板上に電子回路などのパ20000001
−日本ゼオン㈱ターンを形成して664177
（乙８）
②「一辺が１ｍにも及ぶような巨大なものまで出現するに至り」
番号出願人箇所文言
特開１メートル程度のサイズのものが望まれており20000004
−シャープ㈱260598
（乙９）１辺が１ｍの正方形の0025
１辺９００ｍｍの正方形のガラス基板0025
特開１辺が１ｍ程度の大面積の20000010
−キャノン㈱251725
（乙１０）
③「フットプリントが極めて大きくなって「装置構成上の問題を伴うことなく「フットプリ」，」，
ントを小さくすることができ」
番号出願人箇所文言
特開フットプリントの縮小化を図る20000004
−原告フットプリントの縮小化235480007
0049（乙１１）
特開大日本スクリ装置のフットプリントが大きくなっていた。20000007
−ーン㈱182926
（乙１２）
特開住友重機装置全体のフットプリント（設置面積）を小さくすることので20000007
−工業㈱きる178719
（乙１３）
特開平㈱ニコン要約フットプリントを小さくすることができる11
329937−
（乙１４）
特開㈱ニコン要約装置構成上も2000
321015−
（乙１５）
特開装置構成上…フットプリント（占有設置面積）が大きくなり20000003
−原告323425
（乙１６）フットプリントが大きくなるという問題点0003
処理装置のフットプリントを減少させることができる0007
（４）構成の相違について
原出願と原告の甲４−８出願の実施形態には，全体的構成や特徴的部分において一致しない点
が多く，このことから，被告が原告の甲４−８出願を見た上で原出願をしたものでないことは明
らかである。
４Ａ弁理士の関与がないこと
ＡがＤ特許事務所に特許技術者として勤務したのは，昭和６３年●月から平成８年●月までのよ
うであり，これに対し，原告主張によれば，東京エレクトロン九州の従業員であるＢ等が原告の甲
４−８出願に係る発明をしたのは平成１２年４月２０日以降であったことが明確であるから，Ａが
Ｄ特許事務所勤務時に原告の甲４−８出願に係る発明の内容を知ることは不可能である。
原告の甲４−８出願の代理人を務めたのはＯ弁理士であるところ，Ｏ弁理士もＡがＤ特許事務所
に勤務していた時期に同事務所に勤務していたことから，Ａ（当時は弁理士資格はない）が作成に。
関与した原出願明細書に原告の甲４−８出願明細書と同じような表現が見られたとしても不思議は
ない。
Ａは，Ｆ特許事務所に平成１０年●月から平成１３年●月まで勤務していたが，原告がＦ特許事
務所に特許出願の明細書作成業務を依頼していた事実はないようであるから，ＡがＦ特許事務所勤
務時に原告の甲４−８出願に係る発明の内容を知ることは不可能である。
被告は，Ａ（当時は弁理士資格はない）に特許出願の願書の作成に関与してもらったことから，。
要約書の誤添付が生じた」。
第５当裁判所の判断
１冒認出願についての主張立証責任の判断の誤り（取消事由１，審決の結論）
に影響を及ぼす手続上の誤り（取消事由２，本件特許が冒認出願に対してさ）
れたものであるとすることはできないとの判断の誤り（取消事由３）について
審決は，無効審判請求人（原告）において，冒認出願であることの主張立証
，。，を尽くしたとはいえないとして無効審判請求を成り立たないとしたしかし
当裁判所は，①冒認出願に関する主張立証責任の所在に関する判断に誤りがあ
ること（取消事由１参照，②主張立証責任の所在に関する判断の誤りは，本）
件審理手続の過誤，及び審決の結論に影響する過誤であるといえること（取消
事由２及び３参照）から，審決を取り消すべきものと判断する。
その理由は，以下のとおりである。
（１）冒認出願に係る事実の主張立証責任ないし主張立証の程度について
特許法は，２９条１項に「発明をした者は，‥‥‥特許を受けることがで
きる」と，３３条１項に「特許を受ける権利は，移転することができる」。。
と，３４条１項に「特許出願前における特許を受ける権利の承継は，その承
継人が特許出願をしなければ，第三者に対抗することができない」と，そ。
れぞれ規定していることから明らかなとおり，特許権を取得し得る者を発明
者及びその承継人に限定している。このような，いわゆる「発明者主義」を
採用する特許制度の下においては，特許出願に当たって，出願人は，この要
件を満たしていることを，自ら主張立証する責めを負うものである。このこ
とは，３６条１項２号において，願書の記載事項として「発明者の氏名及び
住所又は居所」が掲げられ，特許法施行規則５条２項において，出願人は，
特許庁からの求めに応じて譲渡証書等の承継を証明するための書面を提出し
なければならないとされていることによっても，裏付けられる。
，，ところで１２３条１項は特許無効審判を請求できる場合を列挙しており
同項６号は「その特許が発明者でない者であつてその発明について特許を，
受ける権利を承継しないものの特許出願に対してされたとき（冒認出願）。」
と規定する。同規定を形式的にみると「その特許が発明者でない者・・・，
に対してされたとき」との事実につき，無効審判請求人において，主張立証
責任を負担すると読む余地がないわけではないが，このような規定振りは，
あくまでも同条の立法技術的な理由に由来するものであって，同規定から，
２９条１項等所定の発明者主義の原則を，変更したものと解することは妥当
でない。したがって，冒認出願（１２３条１項６号）を理由として請求され
た特許無効審判において「特許出願がその特許に係る発明の発明者自身又，
は発明者から特許を受ける権利を承継した者によりされたこと」についての
主張立証責任は，特許権者が負担すると解すべきである。
もっとも，冒認出願（１２３条１項６号）を理由として請求された特許無
効審判において「特許出願がその特許に係る発明の発明者自身又は発明者，
から特許を受ける権利を承継した者によりされたこと」についての主張立証
責任を，特許権者が負担すると解したとしても，そのような解釈は，すべて
の事案において，特許権者において，発明の経緯等を個別的，具体的に主張
立証しなければならないことを意味するものではない（むしろ，先に出願し
たという事実は，出願人が発明者又は発明者から特許を受ける権利を承継し
た者であるとの事実を推認する重要な間接事実である。。）
特許権者の行うべき主張，立証の内容，程度は，冒認出願を疑わせる具体
的な事情の内容及び無効審判請求人の主張立証活動の内容，程度がどのよう
なものかによって大きく左右される。仮に無効審判請求人が，冒認を疑わせ
る具体的な事情を何ら指摘することなく，かつ，その裏付け証拠を提出して
いないような場合は，特許権者が行う主張立証の程度は比較的簡易なもので
足りる。これに対して，無効審判請求人が冒認を裏付ける事情を具体的詳細
に指摘し，その裏付け証拠を提出するような場合は，特許権者において，こ
れを凌ぐ主張立証をしない限り，主張立証責任が尽くされたと判断されるこ
とはないといえる。そして，冒認を疑わせる具体的な事情の内容は，発明の
属する技術分野が先端的な技術分野か否か，発明が専門的な技術，知識，経
験を有することを前提とするか否か，実施例の検証等に大規模な設備や長い
時間を要する性質のものであるか否か，発明者とされている者が発明の属す
る技術分野についてどの程度の知見を有しているか，発明者と主張する者が
複数存在する場合に，その間の具体的実情や相互関係がどのようなものであ
ったか等，事案ごとの個別的な事情により異なるものと解される。
（２）本件審判の審理について
上記の観点から，本件審判の審理の経緯を検討する。本件審判の進行は，
以下のとおりである。
ア原告は，平成２０年１月１５日，特許庁に対し，審判請求書（平成２０
年１月１１日付け，甲３７）を提出し，原出願の願書に発明者及び特許出
願人として記載された被告は，原出願に開示された発明や本件特許発明の
発明者ではなく，原出願及び本件特許出願は冒認出願であり，本件特許に
は無効事由（特許法１２３条１項６号）があると主張して，本件特許につ
いて無効審判を請求した。
審判請求書には，上記主張が敷衍して記載されており，①原出願に開示
された発明や本件特許発明をするためには，巨額の開発費用と大規模な開
発設備，その技術分野の知識・経験・発明能力を必要とすること，②しか
るに，原告の調査によれば，被告は，その職務経歴等からして，発明に必
要な知識・経験・発明能力を有していたとは考えられず，発明を可能とす
るような技術的環境になく，被告の当時の生活状況からみて，発明をする
ような境遇になかったこと，③原出願明細書及び本件特許出願の明細書に
は，原告出願の特願２０００−３４３４０１号（特開２００２−１５１３
８４号，甲４，特願２００２−５７３０３号（特開２００２−３３４９）
１８号，甲５，特願２００１−８９８４７号（特開２００２−２８９５）
０１号，甲６，特願２００１−１１６３１１号（特開２００２−３１３）
６９９号，甲７，特願２００１−１２５７５０号（特開２００２−３２）
４７４０号，甲８）に係る明細書と多くの共通点・類似点があるが，これ
らの原告出願の特許は，原出願の出願後に公開されており，原告と関係の
ない被告が，原出願の出願前にその発明の内容を知ることができたとは考
えられないこと，そうすると，原出願及び本件特許出願は，原告の発明を
知り得る立場にあった第三者が，自らの名を秘すべき事情があったため，
被告が出願したものと考えられ，そのように考えなければ，上記の共通点
・類似点が生じた理由は説明がつかないことなどが，具体的な証拠を指摘
しつつ記載されていた。
原告は，特許庁に対し，審判請求書とともに，甲１ないし１４の書証を
提出した（本訴の甲１ないし１４は，審判の甲１ないし１４と同じであ
る。。）
，，，，イ被告はＡ弁理士を代理人として審判官に対し平成２０年４月７日
審判事件答弁書（甲３５）を提出し，請求不成立の審決を求めた。審判事
件答弁書は，僅か２頁からなるものであり，審判の番号，被請求人の住所
氏名，被請求人の代理人の住所氏名等，請求人の住所氏名，請求人の代理
人の住所氏名等，答弁の趣旨，添付書類又は添付物件の目録の他，理由と
して以下のとおり記載がされている。
「審判請求人は，特許権者であるＹ氏について身辺調査を行い，その結果
に基づいて，本件特許が，発明者でない者であってその発明について特許
を受ける権利を承継しないものの特許出願に対してなされたものであると
主張している。
しかしながら，審判請求人が挙げている身辺調査の報告書は，Ｙ氏の個
人情報を間違い或いは錯誤を含みつつ開示しただけのものであり，Ｙ氏が
発明者でない者であってその発明について特許を受ける権利を承継しない
ものであることを立証するものではない。すなわち，審判請求人は，単に
Ｙ氏の身辺調査をして本件特許の発明者でないと，邪推をしているだけで
ある。また，審判請求人は，自身が発明者でないと言っており，しかも特
許法第３９条第６項の解釈において重要となる真の発明者が誰であるかも
明らかにしていない。
したがって，請求人の主張は論拠を欠くものであり，何ら根拠のない不
適当なものである。
このため，本審判請求については，口頭審理に移ることなく，書面審理
において，直ちに，棄却すべき審決を賜りたい」。
ウ次いで，被告は，Ａ弁理士を代理人として，審判官に対し，平成２０年
４月１０日，上申書（甲３８）を提出した。同上申書も，僅か２頁からな
るものであり，事件の表示，請求人の住所氏名，被請求人の住所氏名，被
請求人の代理人の住所氏名等，添付書類又は添付物件の目録の他，上申の
内容として以下のとおり記載がされている。
「１）審判事件について，平成２０年４月７日付けで審判事件答弁書を（
提出しております。
この答弁書において主張しておりますように，本案件では，下記の理由
により，口頭審理及びそれに伴う証人尋問を実施しないようお願い申し上
げます。
（２）理由
審判請求書では，権利者であるＹ氏の個人情報を興信所を利用して調査
し，この調査報告を，一般人も閲覧可能な無効審判という手続において証
拠として添付しております。このような資料は，個人情報を不当に開示す
るものであって，Ｙ氏は一個人としてこのような状況になったことを非常
に遺憾に思っており，これ以上個人情報が不当に開示されることを非常に
恐れております。このような理由から，権利者であるＹ氏は，口頭審理及
，，びそれに伴う証人尋問において資産状況や過去の職歴などの個人情報を
第三者の前で証言することを望んでおりません」。
エ原告は，平成２０年５月２９日，第１回上申書（甲３９）を提出し，審
判官に対し，口頭審理を開催し，主張立証責任の原則に則り，被告等の当
事者本人尋問，証人尋問を行い，本件特許出願が冒認出願であることに関
して真相究明を尽くすことなどを求めた。
オ原告は，平成２０年７月２日，第２回上申書（甲４０）を提出し，審判
官に対し，包括委任状に記載された被告の住所が住民票上の住所と相違す
ることなどを指摘し，Ａ弁理士に対して代理権を証明する書面の提出を命
じることなどを求めた。
カ本件審判の両当事者代理人に対し，平成２０年８月２７日付け審判官及
び審判書記官氏名通知（甲４１）が送付された。
キ原告は平成２０年８月２７日審判官に対し審理の方式の申立書甲，，，（
３０）を提出し，口頭審理によるべきであることを申し立てた。
ク原告は平成２０年８月２９日審判官に対し当事者等尋問申出書甲，，，（
３２）を提出し，Ａ弁理士の証人尋問及び被告の当事者本人尋問を申し出
た。
ケ審判官は，本件審判の両当事者代理人に対し，職権により書面審理によ
るものとする旨の平成２０年８月２９日付け書面審理通知書（甲３１）を
送付した。
コ審判官は，本件審判の両当事者代理人に対し，平成２０年９月４日付け
審理終結通知書（甲４２）を送付した。
サ審判官は，審判請求人であった原告の代理人に対し，平成２０年４月７
日付け審判事件答弁書副本，被告の同月１０日付け上申書副本を，同年９
月８日付け答弁書副本の送付通知（甲４３）とともに送付した。
シ原告は，平成２０年９月１８日，審判官に対し，審理再開申立書（甲３
３）を提出し，審理の再開を求めた。
ス原告は，平成２０年９月２４日，審判官に対し，証人尋問申出書（甲３
４）を提出し，原告が原出願に開示された発明及び本件特許発明の発明者
であると主張するＢ（東京エレクトロン九州の従業員）の証人尋問を申し
出た。
セ審判官は，平成２０年１０月１４日「本件審判の請求は，成り立たな，
い」との審決をした。。
（３）判断
ア取消事由１，３に関連した判断
前記（１）のとおり，冒認出願（１２３条１項６号）を理由として請求
された特許無効審判においては「特許出願がその特許に係る発明の発明，
者自身又は発明者から特許を受ける権利を承継した者によりされたこと」
を，出願人ないしその承継者である特許権者において主張立証しなければ
ならないものというべきであるから，本件審判においては，本件特許出願
が発明者である被告によりされたことを，出願人であり特許権者である被
告が主張立証しなければならない。そして，本件特許発明の内容，事案の
経緯を踏まえ，本件審判における原告の主張（本訴において原告が主張す
る「被告が真の発明者でないことを示す間接事実」は，審決後に明らかに
なった事実を含むものであり，本件審判における原告の主張と必ずしもす
べての部分において一致するものではない，原告が提出した証拠に鑑み。）
ると，原告は，冒認を疑わせる事情を具体的に主張し，その主張に沿う証
拠を提出していたものと認められる。
ところが，前記（２）のとおり，被告は「審判事件答弁書」及び「上，
申書」を提出したのみで，その他には「特許出願がその特許に係る発明，
の発明者自身又は発明者から特許を受ける権利を承継した者によりされた
こと」について，具体的な主張立証活動を何ら行っていない。
審決は，無効審判請求人である原告が提出した各証拠，及び原告が主張
する無効にすべき理由によっては，本件特許が冒認出願に対してされたも
のであるとすることはできないと判断したが，上記の審理経緯及び証拠内
容を総合すると，審決には，冒認出願に係る事実についての主張立証責任
の所在の判断の誤り及び冒認出願か否かについての判断の誤りがある。
イ取消事由２，３に関連した判断
１７８条１項は「審決に対する訴え・・・は，東京高等裁判所の専属，
。」。，，，管轄とすると規定する本来審決は行政処分の一類型であるから
，，行政事件訴訟法によればその管轄裁判所は地方裁判所になるのであるが
以下の２つの理由から，一審を省略して，東京高等裁判所に出訴すべきも
のとされた。すなわち，①特許庁での審判手続が，裁判に類似した準司法
手続によって厳正に行われるべきことから，地方裁判所においてその適否
を判断することによる適正さの要請よりも，事件を迅速に解決するとの要
，，請を優先すべきであるとしたこと②事件の内容が専門技術的であるため
特許関係の専門官庁において実施された審判手続を尊重してよいとしたこ
とによるものである。このような理由も相まって，特許無効審判の審理に
ついても，原則として口頭審理の方式によることと規定されている（１４
５条１項。）
前記（２）のとおり，本件審判手続において，①原告は，冒認を疑わせ
る事情を具体的に主張していた，②被告は「審判事件答弁書」及び「上，
申書」を提出したのみで，その他には「特許出願がその特許に係る発明，
の発明者自身又は発明者から特許を受ける権利を承継した者によりされた
こと」について，具体的な主張立証活動を何ら行っていなかった，③審判
官は，書面審理の方式に変更した，④原告は，審判官に対し，口頭審理を
開催し，主張立証責任の原則に則り，被告等の当事者本人尋問，証人尋問
を行い，本件特許出願が冒認出願であることに関して真相究明を尽くすこ
となどを求めた，⑤しかし，審判体は，審理を終結して，本件審決をした
ものである。
本件審判手続は，上記のような経過であり，その具体的な争点の内容，
性質に照らすと，口頭審理によるべきであるが，それにもかかわらず，職
権で，冒認出願を理由とする無効審判の審理を口頭審理から書面審理に変
更した点において，著しく公正を欠く審理であるというべきである。審判
手続の進行や審理の方式については，審判体（審判長）に合理的な裁量が
あることを考慮してもなお，その裁量を逸脱しているものといえる。そし
て，このような手続上の瑕疵は，結論に影響を及ぼす誤りということがで
きる。
（４）小括
以上のとおり審決は冒認出願についての主張立証責任の判断の誤り取，，（
消事由１，審決の結論に影響を及ぼす手続上の誤り（取消事由２，本件特））
許が冒認出願に対してされたものであるとすることはできないとの判断の誤
り（取消事由３）があり，これらの誤りは，審決の結論に影響を及ぼすもの
である。
２結論
以上によれば，審決には，結論に影響を及ぼす違法があるから，原告の請求
を認容することとし，主文のとおり判決する。
知的財産高等裁判所第３部
裁判長裁判官
飯村敏明
裁判官
中平健
裁判官
上田洋幸

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