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平成３０年６月１９日判決言渡
平成２８年(行ケ)第１０２５０号審決取消請求事件
口頭弁論終結日平成３０年４月１０日
判決
原告ウシオ電機株式会社
同訴訟代理人弁護士松尾和子
相良由里子
松野仁彦
同訴訟代理人弁理士大塚文昭
谷口信行
越柴絵里
被告株式会社ブイ・テクノロジー
同訴訟代理人弁護士赤尾直人
鈴木一徳
同訴訟代理人弁理士岩﨑孝治
小橋立昌
白坂一
主文
１原告の請求を棄却する。
２訴訟費用は原告の負担とする。
事実及び理由
第１請求
特許庁が無効２０１５－８０００２１号事件について平成２８年１０月１７
日にした審決のうち，「特許第５３４４１０５号の請求項１ないし５に係る発
明についての特許を無効とする。」との部分を取り消す。
第２前提となる事実（証拠を掲記した以外の事実は，当事者間に争いがないか，
弁論の全趣旨から認められる。）
１特許庁における手続の経緯等
原告は，平成２５年３月８日，発明の名称を「光配向用偏光光照射装置及び
光配向用偏光光照射方法」とする特許出願（特願２０１３－４７３５０号）を
し，同年８月２３日，特許権の設定の登録（特許第５３４４１０５号。請求項
の数は５。）を受けた（以下，この特許を「本件特許」という。甲１２）。
被告は，平成２７年２月２日，本件特許の請求項１から５に係る発明につき
無効審判を請求した（無効２０１５－８０００２１号）。
原告は，平成２８年７月２８日付けで，本件特許の明細書及び特許請求の範
囲について訂正請求をした（以下「本件訂正」といい，本件訂正後の明細書及
び図面を併せて「本件明細書」という。甲３３）。
特許庁は，平成２８年１０月１７日，本件訂正請求を認めた上，「特許第５
３４４１０５号の請求項１ないし５に係る発明についての特許を無効とする。」
との審決をし，その謄本は，同月２７日，原告に送達された。
原告は，平成２８年１１月２５日，審決の取消しを求めて，本件訴訟を提起
した。
２特許請求の範囲の記載
本件特許につき，本件訂正後の特許請求の範囲の記載は，後記(1)から(5)の
とおりである（以下，本件訂正後の請求項１から５に記載された発明を，請求
項の番号に従って，それぞれ「本件訂正発明１」などといい，これらを総称し
て「本件訂正発明」ともいう。）。
(1)請求項１
設定された照射領域に偏光光を照射する照射ユニットと，
光配向用膜材付きの基板が載置されるステージと，
照射領域にステージを移動させることでステージ上の基板に偏光光が照射
されるようにするステージ移動機構とを備えており，
ステージとして第一第二の二つのステージが設けられており，
ステージ移動機構は，照射領域の一方の側に設定された第一の基板搭載位
置から第一のステージを照射領域に移動させ，前記照射ユニットにより偏光
光が照射されている該照射領域を通過させるものであるとともに，照射領域
の他方の側に設定された第二の基板搭載位置から第二のステージを照射領域
に移動させ，前記照射ユニットにより偏光光が照射されている該照射領域を
通過させるものであり，
ステージ移動機構は，第一のステージ上の基板が照射領域を通過した後に
第一のステージを第一の側に戻すとともに，第二のステージ上の基板が照射
領域を通過した後に第二のステージを第二の側に戻すものであり，かつ，前
記第一のステージの前記第一の側への復路移動に続くように前記第二のステ
ージの前記照射ユニット方向への往路移動を行わせ，前記第二のステージの
前記第二の側への復路移動に続くように前記第一のステージの前記照射ユニ
ット方向への往路移動を行わせるものであり，
第一の基板搭載位置に位置した第一のステージと照射領域の間には，第二
のステージ上の基板が照射領域を通過する分以上のスペースが確保され，第
二の基板搭載位置に位置した第二のステージと照射領域の間には，第一のス
テージ上の基板が照射領域を通過する分以上のスペースが確保されており，
前記第一第二ステージの各々は，基板を吸着するための吸着孔を有する，
一体的に移動可能な複数のピンを含むことを特徴と（判決注：原文のまま）
光配向用偏光光照射装置。
(2)請求項２
設定された照射領域に偏光光を照射する照射ユニットと，
光配向用膜材付きの基板が載置されるステージと，
照射領域にステージを移動させることでステージ上の基板に偏光光が照射
されるようにするステージ移動機構とを備えており，
ステージとして第一第二の二つのステージが設けられており，
ステージ移動機構は，照射領域の一方の側に設定された第一の基板搭載位
置から第一のステージを照射領域に移動させ，前記照射ユニットにより偏光
光が照射されている該照射領域を通過させるものであるとともに，照射領域
の他方の側に設定された第二の基板搭載位置から第二のステージを照射領域
に移動させ，前記照射ユニットにより偏光光が照射されている該照射領域を
通過させるものであり，
ステージ移動機構は，第一のステージ上の基板が照射領域を通過した後に
第一のステージを第一の側に戻すとともに，第二のステージ上の基板が照射
領域を通過した後に第二のステージを第二の側に戻すものであり，かつ，前
記第一のステージの前記第一の側への復路移動に続くように前記第二のステ
ージの前記照射ユニット方向への往路移動を行わせ，前記第二のステージの
前記第二の側への復路移動に続くように前記第一のステージの前記照射ユニ
ット方向への往路移動を行わせるものであり，
第一の基板搭載位置に位置した第一のステージと照射領域の間には，第二
のステージ上の基板が照射領域を通過する分以上のスペースが確保され，第
二の基板搭載位置に位置した第二のステージと照射領域の間には，第一のス
テージ上の基板が照射領域を通過する分以上のスペースが確保されており，
前記照射ユニットは，前記第一第二の各ステージが往路移動する際と復路
移動する際の双方において各ステージ上の基板に対し，偏光子からの偏光光
を直接照射して，往路における照射による露光量と復路における照射による
露光量とが積算されるようにすることを特徴とする光配向用偏光光照射装置。
(3)請求項３
設定された照射領域に偏光光を照射する照射ユニットと，
アライメントマークを有し，光配向用膜材付きの基板が載置されるステー
ジと，
照射領域にステージを移動させることでステージ上の基板に偏光光が照射
されるようにするステージ移動機構と，
前記ステージに載置された前記基板上の前記アライメントマークを検出す
るアライメントセンサとを備えており，
ステージとして第一第二の二つのステージが設けられており，前記第一第
二の各ステージには，前記アライメントセンサにより検出された前記アライ
メントマークの位置情報に基づいて，搭載された基板の向きを，照射される
偏光光の偏光軸に対して所定の向きに円周方向に調整する基板アライナーが
設けられ，
ステージ移動機構は，照射領域の一方の側に設定された第一の基板搭載位
置から第一のステージを照射領域に移動させ，前記照射ユニットにより偏光
光が照射されている該照射領域を通過させるものであるとともに，照射領域
の他方の側に設定された第二の基板搭載位置から第二のステージを照射領域
に移動させ，前記照射ユニットにより偏光光が照射されている該照射領域を
通過させるものであり，
ステージ移動機構は，第一のステージ上の基板が照射領域を通過した後に
第一のステージを第一の側に戻すとともに，第二のステージ上の基板が照射
領域を通過した後に第二のステージを第二の側に戻すものであり，
第一の基板搭載位置に位置した第一のステージと照射領域の間には，第二
のステージに搭載された基板の向きを前記基板アライナーにより調整した後
の該第二のステージ上の基板が照射領域を通過する分以上のスペースが確保
され，第二の基板搭載位置に位置した第二のステージと照射領域の間には，
第一のステージに搭載された基板の向きを前記基板アライナーにより調整し
た後の該第一のステージ上の基板が照射領域を通過する分以上のスペースが
確保されていることを特徴とする光配向用偏光光照射装置。
(4)請求項４
設定された照射領域に偏光光を照射する照射ユニットと，
アライメントマークを有し，光配向用膜材付きの基板が載置されるステー
ジと，
照射領域にステージを移動させることでステージ上の基板に偏光光が照射
されるようにするステージ移動機構と，
前記ステージに載置された前記基板上の前記アライメントマークを検出す
るアライメントセンサとを備えており，
ステージとして第一第二の二つのステージが設けられており，前記第一第
二の各ステージには，前記アライメントセンサにより検出された前記アライ
メントマークの位置情報に基づいて，搭載された基板の向きを，照射される
偏光光の偏光軸に対して所定の向きに円周方向に調整する基板アライナーが
設けられ，
ステージ移動機構は，照射領域の一方の側に設定された第一の基板搭載位
置から第一のステージを照射領域に移動させ，前記照射ユニットにより偏光
光が照射されている該照射領域を通過させるものであるとともに，照射領域
の他方の側に設定された第二の基板搭載位置から第二のステージを照射領域
に移動させ，前記照射ユニットにより偏光光が照射されている該照射領域を
通過させるものであり，
ステージ移動機構は，第一のステージ上の基板が照射領域を通過した後に
第一のステージを第一の側に戻すとともに，第二のステージ上の基板が照射
領域を通過した後に第二のステージを第二の側に戻すものであり，かつ，前
記第一のステージの前記第一の側への復路移動に続くように前記第二のステ
ージの前記照射ユニット方向への往路移動を行わせ，前記第二のステージの
前記第二の側への復路移動に続くように前記第一のステージの前記照射ユニ
ット方向への往路移動を行わせるものであり，
第一の基板搭載位置に位置した第一のステージと照射領域の間には，第二
のステージ上の基板が照射領域を通過する分以上のスペースが確保され，第
二の基板搭載位置に位置した第二のステージと照射領域の間には，第一のス
テージ上の基板が照射領域を通過する分以上のスペースが確保されており，
前記ステージ移動機構は，前記第一第二のステージの移動方向に沿ってガ
イド部材を備えており，このガイド部材は，前記第一のステージの移動のガ
イドと前記第二のステージの移動のガイドとに兼用された，
ことを特徴とする光配向用偏光光照射装置。
(5)請求項５
設定された照射領域に偏光光を照射する照射ユニットと，
アライメントマークを有し，光配向用膜材付きの基板が載置されるステー
ジと，
照射領域にステージを移動させることでステージ上の基板に偏光光が照射
されるようにするステージ移動機構と，
前記ステージに載置された前記基板上の前記アライメントマークを検出す
るアライメントセンサとを備えており，
ステージとして第一第二の二つのステージが設けられており，前記第一第
二の各ステージには，前記アライメントセンサにより検出された前記アライ
メントマークの位置情報に基づいて，搭載された基板の向きを，照射される
偏光光の偏光軸に対して所定の向きに円周方向に調整する基板アライナーが
設けられ，
ステージ移動機構は，照射領域の一方の側に設定された第一の基板搭載位
置から第一のステージを照射領域に移動させ，前記照射ユニットにより偏光
光が照射されている該照射領域を通過させるものであるとともに，照射領域
の他方の側に設定された第二の基板搭載位置から第二のステージを照射領域
に移動させ，前記照射ユニットにより偏光光が照射されている該照射領域を
通過させるものであり，
ステージ移動機構は，第一のステージ上の基板が照射領域を通過した後に
第一のステージを第一の側に戻すとともに，第二のステージ上の基板が照射
領域を通過した後に第二のステージを第二の側に戻すものであり，かつ，前
記第一のステージの前記第一の側への復路移動に続くように前記第二のステ
ージの前記照射ユニット方向への往路移動を行わせ，前記第二のステージの
前記第二の側への復路移動に続くように前記第一のステージの前記照射ユニ
ット方向への往路移動を行わせるものであり，
第一の基板搭載位置に位置した第一のステージと照射領域の間には，第二
のステージ上の基板が照射領域を通過する分以上のスペースが確保され，第
二の基板搭載位置に位置した第二のステージと照射領域の間には，第一のス
テージ上の基板が照射領域を通過する分以上のスペースが確保されている光
配向用偏光光照射装置を使用して基板に光配向用の偏光光を照射する光配向
用偏光光照射方法であって，
前記第一の基板搭載位置において前記第一のステージ上に基板を搭載し，
前記アライメントセンサにより検出された前記アライメントマークの位置情
報に基づいて，搭載された基板の向きを照射される偏光光の偏光軸に対して
所定の向きに円周方向に調整する第一の基板搭載調整ステップと，
前記第二の基板搭載位置において前記第二のステージ上に基板を搭載し，
前記アライメントセンサにより検出された前記アライメントマークの位置情
報に基づいて，搭載された基板の向きを照射される偏光光の偏光軸に対して
所定の向きに円周方向に調整する第二の基板搭載調整ステップと，
基板が搭載された前記第一のステージを，前記第二の基板回収位置への前
記第二のステージの復路移動に続くように前記第一の基板搭載位置から移動
させ，前記照射領域を基板が通過した後，前記一方の側に設定された第一の
基板回収位置まで前記第一のステージを戻す第一の移動ステップと，
基板が搭載された前記第二のステージを，前記第一の基板回収位置への前
記第一のステージの復路移動に続くように前記第二の基板搭載位置から移動
させ，前記照射領域を基板が通過した後，前記他方の側に設定された第二の
基板回収位置まで前記第二のステージを戻す第二の移動ステップと，
第一の基板回収位置において前記第一のステージから基板を回収する第一
の基板回収ステップと，
第二の基板回収位置において前記第二のステージから基板を回収する第二
の基板回収ステップとを有しており，
第一の基板回収ステップ及び第一の基板搭載ステップが行われる時間帯は，
第二の移動ステップが行われる時間帯と全部又は一部が重なっており，
第二の基板回収ステップ及び第二の基板搭載ステップが行われる時間帯は，
第一の移動ステップが行われる時間帯と全部又は一部が重なっていることを
特徴とする光配向用偏光光照射方法。
３審決の理由
審決の理由は，別紙審決書（写し）記載のとおりである。その概要は，次の
とおり，本件訂正発明はいずれも当業者が容易に発明をすることができたもの
であるから，本件特許を無効とすべきというものである。
(1)本件訂正発明１，２及び４は，本件特許の出願前に頒布された特開２００
７－１１４６４７号公報（以下「参考資料３」という。甲８）に記載された
発明（以下「参考資料３発明」という。）及び特開２００９－２９５９５０
号公報（甲２）に記載された発明並びに周知技術（特開２０００－２２１４
６１号公報（乙１の１），特開２００２－８２３３４号公報（乙１の２），
特開２００５－２４９９３８号公報（乙１の３），特開２００６－１１３１
８０号公報（乙１の４）に記載のもの）に基づいて当業者が容易に発明をす
ることができたものである。
(2)本件訂正発明３及び５は，参考資料３発明，甲２に記載された発明，本件
特許の出願前に頒布された特許第５１０５５６７号公報（甲５）に記載され
た発明（以下「甲５発明」という。）及び周知技術に基づいて当業者が容易
に発明をすることができたものである。
４審決が認定した参考資料３発明の内容並びに本件訂正発明と参考資料３発明
との一致点及び相違点
(1)参考資料３発明
設定された照射領域へ偏光光を出射する光照射部２０Ａ，２０Ｂが配置さ
れ，
光配向膜５１が形成された矩形状のワーク５０がワークステージ上に載置
され，
前記ワークステージを直線移動させるステージ移動機構，を備え，
前記光照射部２０Ａ，２０Ｂから偏光光を照射しながら前記ワークステー
ジを直線移動させて，前記光照射部２０Ａと２０Ｂの両方の下を通過させ，
前記光配向膜５１の光配向処理をするものであって，
前記ワーク５０を往復移動させて，光照射部２０Ｂ→２０Ａ→２０Ａ→２
０Ｂのように偏光光を照射するようにした，
前記光配向膜５１の光配向を行なう，液晶素子の製造に関するスキャン照
射する偏光光照射装置。
(2)本件訂正発明と参考資料３発明との一致点
設定された照射領域に偏光光を照射する照射ユニットと，
光配向用膜材付きの基板が載置されるステージと，
照射領域にステージを移動させることでステージ上の基板に偏光光が照射
されるようにするステージ移動機構とを備えており，
ステージ移動機構は，照射領域の一方の側に設定された基板搭載位置から
ステージを照射領域に移動させ，前記照射ユニットにより偏光光が照射され
ている該照射領域を通過させるものであり，
ステージ移動機構は，ステージ上の基板が照射領域を通過した後にステー
ジを戻すものである，
光配向用偏光光照射装置
(3)本件訂正発明と参考資料３発明との相違点
ア本件訂正発明１との相違点
次の相違点１及び相違点２において相違する。
＜相違点１＞
本件訂正発明１は，「ステージとして第一第二の二つのステージが設け
られており，ステージ移動機構は，照射領域の一方の側に設定された第一
の基板搭載位置から第一のステージを照射領域に移動させ，前記照射ユニ
ットにより偏光光が照射されている該照射領域を通過させるものであると
ともに，照射領域の他方の側に設定された第二の基板搭載位置から第二の
ステージを照射領域に移動させ，前記照射ユニットにより偏光光が照射さ
れている該照射領域を通過させるものであり，ステージ移動機構は，第一
のステージ上の基板が照射領域を通過した後に第一のステージを第一の側
に戻すとともに，第二のステージ上の基板が照射領域を通過した後に第二
のステージを第二の側に戻すものであり，かつ，前記第一のステージの前
記第一の側への復路移動に続くように前記第二のステージの前記照射ユニ
ット方向への往路移動を行わせ，前記第二のステージの前記第二の側への
復路移動に続くように前記第一のステージの前記照射ユニット方向への往
路移動を行わせるものであり，第一の基板搭載位置に位置した第一のステ
ージと照射領域の間には，第二のステージ上の基板が照射領域を通過する
分以上のスペースが確保され，第二の基板搭載位置に位置した第二のステ
ージと照射領域の間には，第一のステージ上の基板が照射領域を通過する
分以上のスペースが確保されて」いるのに対し，参考資料３発明は，ステ
ージの個数が二つではなく一つであって，ステージ移動機構は，その一の
ステージ上の基板が照射領域を通過した後にその一のステージを戻すこと
ができるものの，ステージの個数が二つであることに伴う構成，すなわち，
第一のステージ上の基板が照射領域を通過した後に第一のステージを第一
の側に戻すとともに，第二のステージ上の基板が照射領域を通過した後に
第二のステージを第二の側に戻す構成，及び，第一の基板搭載位置に位置
した第一のステージと照射領域の間には，第二のステージ上の基板が照射
領域を通過する分以上のスペースが確保され，第二の基板搭載位置に位置
した第二のステージと照射領域の間には，第一のステージ上の基板が照射
領域を通過する分以上のスペースが確保されている構成，を有していない
点。
＜相違点２＞
本件訂正発明１の「第一第二ステージの各々」は，「基板を吸着するた
めの吸着孔を有する，一体的に移動可能な複数のピンを含む」のに対して，
参考資料３発明の「ワークステージ」は，「光配向膜５１が形成された矩
形状のワーク５０」を「ワークステージ上に載置」するための詳細な構成
が特定されていない点。
イ本件訂正発明２との相違点
上記相違点１及び次の相違点３において相違する。
＜相違点３＞
本件訂正発明２の「照射ユニット」は，「第一第二の各ステージが往路
移動する際と復路移動する際の双方において各ステージ上の基板に対し，
偏光子からの偏光光を直接照射して，往路における照射による露光量と復
路における照射による露光量とが積算されるようにする」ものであるのに
対して，参考資料３発明の光照射部２０Ａ，２０Ｂは，このようなものと
特定されない点。
ウ本件訂正発明３との相違点
次の相違点１´及び相違点４において相違する。
＜相違点１´＞
相違点１から，「かつ，前記第一のステージの前記第一の側への復路移
動に続くように前記第二のステージの前記照射ユニット方向への往路移動
を行わせ，前記第二のステージの前記第二の側への復路移動に続くように
前記第一のステージの前記照射ユニット方向への往路移動を行わせるもの
であり，」との発明特定事項を除いた点。
＜相違点４＞
本件訂正発明３の「第一第二の各ステージ」は「アライメントマークを
有し，」「前記ステージに載置された前記基板上の前記アライメントマー
クを検出するアライメントセンサとを備えており，」「前記第一第二の各
ステージには，前記アライメントセンサにより検出された前記アライメン
トマークの位置情報に基づいて，搭載された基板の向きを，照射される偏
光光の偏光軸に対して所定の向きに円周方向に調整する基板アライナーが
設けられ，」，さらに，「第一第二の各ステージ」には，「搭載された基
板の向きを，照射される偏光光の偏光軸に対して所定の向きに調整する基
板アライナーが設けられ」，第一の基板搭載位置に位置した第一のステー
ジと照射領域の間には，「第二のステージに搭載された基板の向きを前記
基板アライナーにより調整した後の」該第二のステージ上の基板が照射領
域を通過する分以上のスペースが確保され，第二の基板搭載位置に位置し
た第二のステージと照射領域の間には，「第一のステージに搭載された基
板の向きを前記基板アライナーにより調整した後の」該第一のステージ上
の基板が照射領域を通過する分以上のスペースが確保されているのに対し
て，参考資料３発明のワークステージ，ステージ移動機構及び光照射部２
０Ａ，２０Ｂは，このようなものと特定されない点。
エ本件訂正発明４との相違点
上記相違点１及び次の相違点５において相違する。
＜相違点５＞
本件訂正発明４の「ステージ移動機構」は，「第一第二のステージの移
動方向に沿ってガイド部材を備えており，このガイド部材は，前記第一の
ステージの移動のガイドと前記第二のステージの移動のガイドとに兼用さ
れ」るのに対して，参考資料３発明のステージ移動機構は，このようなも
のと特定されない点。
５審決が認定した引用発明の内容
(1)特開２００９－２９５９５０号公報（甲２）に記載された発明
ア甲２発明
基板Ｗ，Ｗ´を，所定の方向であるＸ方向および該所定の方向と直交す
る方向であるＹ方向に搬送する基板搬送機構１４と，Ｙ方向に沿って並ん
でそれぞれ配置され，複数のマスクＭをそれぞれ保持する複数のマスク保
持部１１と，マスク保持部１１をそれぞれ駆動する複数のマスク駆動部１
２と，複数のマスク保持部１１の上部にそれぞれ配置されて露光用光を照
射する複数の照射部１３と，を備え，
前記基板搬送機構１４は，基板Ｗ，Ｗ´をそれぞれ上面に載置する第１，
２の部材，及び，前記第１，２の部材をそれぞれ移動する第１，２の機構
を備え，
前記基板Ｗが，第１の基板交換領域Ｃ１に搬入され，搬入された前記基
板Ｗのプリアライメントが行われた後，前記第１の部材によって保持され，
前記基板Ｗを上面に載置した前記第１の部材を第１の機構によって，前
記基板Ｗを一定の速度でＸ方向に搬送させて，第１の基板保持領域Ｂ１へ
移動し，また，前記基板Ｗは，一定の速度でＸ方向に搬送されて，露光領
域Ａ内に進入し，それぞれのマスクＭを介して照射部１３から露光用光Ｅ
Ｌが照射されてマスクパターン６１が露光転写され，露光領域Ａを通過し
て第２の基板保持領域Ｂ２に位置する基板Ｗには，第１の転写パターン８
３が形成され，
前記第１の転写パターン８３形成後，基板Ｗを上面に載置した前記第１
の部材を，第１の機構によって，基板ＷをＹ方向に所定の距離Ｌだけ移動
させ，第１の機構の，基板Ｗの搬送方向をＸ方向と逆方向に切り替えて，
第２の基板保持領域Ｂ２に保持されていた基板Ｗを，Ｘ方向と逆方向に搬
送し，
前記照射部１３からの露光用光ＥＬを，それぞれのマスクＭを介して照
射して，未露光部にマスクパターン６２を露光転写して第２の転写パター
ン８４を形成し，この一連の露光動作中に，第２の基板交換領域Ｃ２では，
基板Ｗ´の搬入，基板Ｗ´のプリアライメント，基板Ｗ´の第２の部材に
よる保持が行われ，
前記第１の部材によって保持された露光済みの基板Ｗが，第１の基板保
持領域Ｂ１から第１の基板交換領域Ｃ１へ移動する際に，同時に，第２の
部材によって保持された未露光の基板Ｗ´が第２の基板保持領域Ｂ２へ露
光動作時の速度より速い速度で搬送され，
前記第１の基板交換領域Ｃ１では，露光済み基板Ｗの搬出と，未露光基
板Ｗの搬入，未露光基板Ｗのプリアライメント，未露光基板Ｗの保持が行
われ，一方，この間に，第２の部材によって保持された基板Ｗ´も上述し
た同様の露光動作によって，往路によるスキャン露光によって第１の転写
パターン８３が露光され，第１の基板保持領域Ｂ１に保持された基板Ｗ´
に対してＹ方向への基板Ｗ´の移動を行い，復路によるスキャン露光によ
って第２の転写パターン８４が露光されるものであって，
前記基板搬送機構１４の第１及び第２の部材は，それぞれ複数のマスク
Ｍと基板Ｗ及びＷ´とがＹ方向に所定の距離Ｌ，即ち，隣接するマスクＭ
のマスクパターン６１，６２のＹ方向における中心間距離Ｄの略１／２だ
け移動するように構成され，
前記基板Ｗの往路搬送時に，所定の間隔Ｇずつ離れた第１の転写パター
ン８３を露光させ，基板搬送機構１４により基板Ｗを所定の間隔Ｌだけ移
動させた後，基板Ｗを復路搬送して，往路搬送時に露光した第１の転写パ
ターン８３間に形成された未露光部に第２の転写パターン８４を隙間なく
露光させることにより，必要となるマスク保持部１１および照射部１３の
数量が削減され，スキャン露光装置１の製造費用が大幅に低減し，
前記露光領域Ａと，第１及び第２の基板保持領域Ｂ１，Ｂ２と，第１及
び第２の基板交換領域Ｃ１，Ｃ２と，を設けて，基板搬送機構１４は，露
光領域Ａ，第１及び第２の基板保持領域Ｂ１，Ｂ２，及び第１の基板交換
領域Ｃ１間で基板ＷをＸ方向に沿って往復移動可能な第１の部材と，露光
領域Ａ，第１及び第２の基板保持領域Ｂ１，Ｂ２，及び第２の基板交換領
域Ｃ２間で基板ＷをＸ方向に沿って往復移動可能な第２の部材と，を備え
るようにしていることにより，前記基板Ｗの露光動作，即ち，第１の転写
パターン８３の形成工程，Ｙ方向への基板Ｗの移動工程，及び第２の転写
パターン８４の形成工程と，基板Ｗの搬出工程及び搬入工程とを行うタイ
ミングを少なくともオーバーラップさせて行うことができ，スループット
を向上することができ，
前記基板Ｗ，Ｗ´上に前記マスクＭの前記マスクパターン６１，６２を
露光転写する，液晶装置の製造に関してマスクパターンを露光転写するス
キャン露光装置。
イ甲２´発明
(ア)甲２発明における「所定の距離Ｌ，即ち，隣接するマスクＭのマスク
パターン６１，６２のＹ方向における中心間距離Ｄの略１／２だけ移動」，
「基板Ｗの往路搬送」及び「基板Ｗを復路搬送」をそれぞれ「動作Ａ」，
「動作Ｂ」及び「動作Ｃ」とし，甲２発明を動作Ｂ及び動作Ｃの組合せ
の観点から整理すると，後記(イ)のとおりの甲２´発明となる。
(イ)基板Ｗを上面に載置する第１，２の部材，及び，前記第１，２の部材
を移動する第１，２の機構を備える基板搬送機構１４を有し，
前記基板Ｗを，少なくとも第１の基板交換領域Ｃ１から第１の基板保
持領域Ｂ１を経て露光領域Ａを通過して第２の基板保持領域Ｂ２に移動
させた後，基板Ｗの搬送方向をＸ方向と逆方向に切り替えて，第２の基
板保持領域Ｂ２から露光領域Ａを通過して第１の基板保持領域Ｂ１を経
て第１の基板交換領域Ｃ１に移動させ（動作イ），
さらに，基板Ｗ´を，少なくとも第２の基板交換領域Ｃ２から第２の
基板保持領域Ｂ２を経て露光領域Ａを通過して第１の基板保持領域Ｂ１
に移動させた後，基板Ｗ´の搬送方向を逆方向に切り替えて，第１の基
板保持領域Ｂ１から露光領域Ａを通過して第２の基板保持領域Ｂ２を経
て第２の基板交換領域Ｃ２に移動させ（動作ロ），
前記基板搬送機構１４が，第１の部材によって保持された露光済みの
基板Ｗを，第１の基板保持領域Ｂ１から第１の基板交換領域Ｃ１へ移動
し（戻し），第２の部材によって保持された基板Ｗ´を，同様の露光動
作によって，搬出工程及び搬入工程とを行い（戻し），
上記動作イに続けて動作ロを行い，動作ロに続けて，交換された別の
基板にて動作イを行うという動作を行うものであって，
前記第２の基板保持領域Ｂ２は，露光領域Ａと第２の基板交換領域Ｃ
２との間の領域であって，露光領域Ａを通過した基板Ｗを保持する領域
であり，前記第１の基板保持領域Ｂ１は，露光領域Ａと第１の基板交換
領域Ｃ１との間の領域であって，露光領域Ａを通過した基板Ｗ´を保持
する領域であって，前記第２の基板保持領域Ｂ２及び前記第１の基板保
持領域Ｂ１は，それぞれ基板Ｗ及び基板Ｗ´が露光領域Ａを通過する分
以上のスペースを有する液晶装置の製造に関してマスクパターンを露光
転写するスキャン露光装置。
(2)甲５発明
液晶表示装置に用いられる基板上において，液晶分子が望ましい角度と方
向に整列するよう配向膜に配向性を付与するための光配向照射装置であって，
前記光配向照射装置は，偏光光照射手段２，走査手段を主な構成要素とし
て有し，
前記偏光光照射手段２は，基板９の表面に形成された配向膜に対して紫外
線のビームを照射することで，配向膜に配向特性を付与する手段であり，反
射鏡２１ａ，紫外線照射光源２１ｂを有する紫外線照射手段２１と，偏光手
段３を備えて構成され，
前記走査手段は，ステージ４を所定の移動方向に移動させることで，偏光
光照射手段２から照射されるビームを基板９上に走査させる手段であり，ス
テージ４，可動台５５，ボールネジ５２，ＬＭガイド５１，回転部５４を有
して構成され，
前記可動台５５は，回転部５４を介してステージ４と機械的に結合され，
ＬＭガイド５１にて走査方向に移動可能とされ，
前記ＬＭガイド５１は，ＬＭレール５１ａ，５１ｂ上を，ＬＭブロック５
１ｃ，５１ｄが摺動可能とされ，
前記ＬＭブロック５１ｃ，５１ｄには可動台５５が固定され，
２本のＬＭガイド５１ａ，５１ｂによって可動台５５を移動可能とし，
前記可動台５５は，上面に回転部５４が設けられ，
前記回転部５４は，回転を実行可能としており，偏光光照射手段２にて照
射される偏光光の偏光方向の調整に使用され，
前記偏光手段３は，隣接方向３３に沿って隣接配置された複数の単位偏光
子３１ａ～３１ｆを有して構成され，
偏光方向確認処理を実行することで，各単位偏光子３１ａ～３１ｆの偏光
方向の確認を行うと共に，確認した偏光方向に基づいて，回転部５４を回転
させ偏光方向が適正となる補正処理も行い，
偏光方向検知手段は，１乃至複数の偏光センサー６を使用して構成し，ス
テージ４外に偏光センサー６ａ～６ｆを配置し，ステージ４に基板９を設置
した状態であっても，偏光方向確認処理を実行することを可能とした，
液晶表示板製造分野にて使用される液晶表示装置に用いられる基板上にお
いて配向膜に配向性を付与するための光配向照射装置。
第３原告主張の取消事由
１取消事由１（参考資料３発明の認定の誤り並びに本件訂正発明との一致点及
び相違点の認定の誤り）
(1)参考資料３発明の認定の誤り
ア審決は，参考資料３発明を「ワーク５０を往復移動させて，光照射部２
０Ｂ→２０Ａ→２０Ａ→２０Ｂのように偏光光を照射するようにした」構
成，すなわち基板を往復移動させる構成を有するものとして認定したが，
次のとおり，この認定は誤りである。
イ引用文献から認定される引用発明は，本件特許の請求項及び明細書に接
していない本件特許出願当時の技術的知識を有する当業者が，当該発明の
課題を念頭に置いたときに，当該引用文献の記載のみから想到することが
できるものでなければならない。
ウ参考資料３に開示されている発明は，ワークの大型化により複数の偏光
素子を並べて使用せざるを得ないことに伴って，偏光素子間に境界部が生
じ，その境界部の照度が低下することによって照度分布が悪化するという
課題を解決するため，搬送方向に沿って光照射部を複数段配置し，かつ，
各段の偏光素子間の境界部が搬送方向に対して互いに重ならないようずら
して配置することで，光配向膜全体に均一なエネルギー分布で偏光光を照
射する光配向用偏光光照射装置を提案するものである。そのため，照射対
象のワークについては，単に「光配向膜」とのみ特定し，これが長尺であ
るか基板であるか等の態様を発明の構成として特定していないし，光配向
膜の搬送機構の構成についても何ら特定していない。
確かに，参考資料３の段落【００１７】には，ワーク５０は「矩形状の
ワークであってもよい」，「ワーク５０を往復させて…も良い。」との記
載がある。しかし，参考資料３に開示されている発明は，上記のとおり，
光照射部を多段に構成することによって課題を解決するものである以上，
この課題との関係ではワークを往復移動させる必要はない。そのため，参
考資料３には，ワークを往復移動させることの利点や，往復移動させない
ことによる不都合について，開示も示唆も一切されていない。
したがって，参考資料３の段落【００１７】の「往復させて…も良い」
との記載に接した当業者は，参考資料３に開示されている発明においては
ワークを往復移動することが望ましいという意味ではなく，参考資料３に
開示されている「光配向膜全体に均一なエネルギー分布で偏光光を照射す
る」という課題との関係で，ワークを往復させても不都合はないという程
度の意味にすぎないと理解する。
エこれに対し，参考資料３の開示に接した当業者が，「スループット向上」
との観点で矩形状のワークを搬送する構成を考えた場合，ワークを往復移
動させる構成は，照射済みワークの搬出と未照射のワークの搬入とに要す
る時間が全てタクトタイムとして加算され，スループットが悪化すること
が明らかであるから，当業者は，矩形状のワークの場合には，複数個のワ
ークを片道移動で搬送し続ける構成が最も効率的であり，往復移動させる
構成はむしろ回避すべきであると理解する。
したがって，参考資料３に記載も示唆もされていない「スループット向
上」という課題を設定した場合に，当業者が，参考資料３に基づいて，光
配向用偏光光照射装置において矩形状のワークを往復移動させる構成を採
用することはあり得ない。
よって，審決が，基板を往復移動させる構成を有する参考資料３発明を
認定したのは誤りである。
(2)本件訂正発明と参考資料３発明との一致点及び相違点の認定の誤り
審決は，本件訂正発明と参考資料３発明との一致点として，「ステージ移
動機構は，ステージ上の基板が照射領域を通過した後にステージを戻すもの
である」との構成を挙げている。
しかし，上記(1)のとおり，「スループット向上」との課題に直面した当業
者が，参考資料３に開示されている発明として認識するのは，矩形状のワー
クの場合も，往復移動させずに片道移動で搬送し続ける構成の発明である。
したがって，往復移動に関する構成は，一致点ではなく相違点と認定される
べきである。
よって，本件訂正発明と参考資料３発明との一致点及び相違点についての
審決の認定は，いずれも誤りである。
(3)小括
以上のとおり，審決は，参考資料３発明の認定を誤り，その結果，本件訂
正発明と参考資料３発明との一致点及び相違点の認定を誤ったもので，これ
らの誤りが結論に影響を及ぼすことは明らかである。
２取消事由２（相違点１についての判断の誤り：参考資料３発明と甲２発明の
組合せの動機付けについての認定の誤り）
(1)審決は，相違点１についての判断に当たり，参考資料３発明と甲２発明に
は技術分野の関連性及び課題の共通性があるから，参考資料３発明に甲２発
明を組み合わせる動機付けがあると認定したが，この認定は次のとおり誤り
である。
(2)技術分野及びステージ動作要件の相違
ア参考資料３に開示されている発明は，液晶分子を挟む配向膜を作製する
偏光光照射装置に関する発明である。これに対し，甲２記載の発明は，基
板に回路パターンを露光転写する装置に関する発明であって，対象とする
装置が全く異なる。
イまた，参考資料３に開示されている装置は，配向膜に偏光光を一定時間
照射して配向を形成するものであるから，配向膜付きの基板を必ず往復移
動させなければならないものではなく，片道移動でも構わない。そして，
基板全体に均一に偏光光を照射する必要があるものの，基板を連続的に搬
送しながら偏光光を照射できるから，基板一枚当たりの処理時間を短くす
る構成も想定し得る。
これに対し，甲２に開示されている発明は，回路基板にマスクパターン
を転写する装置であって，基板の進行方向（審決が認定した甲２発明にお
けるＸ方向）に垂直な方向（同Ｙ方向）に複数のマスクを一定の間隔を空
けて配置することを特徴とする。そのため，基板が照射領域を一度通過し
て回路パターンの露光転写がされただけでは，基板全体に回路パターンが
露光転写されない。すなわち，甲２に開示されている発明においては，基
板が必ず二度照射領域を通過する必要がある上に，往路における照射と復
路における照射とは，互いに重ならない異なる領域に対してされなければ
ならない。また，基板上の所望の位置に精度良くパターンを形成しなけれ
ばならないため，マスクの大きさに対応する領域ごとに基板の搬送を逐次
停止し，マスクと基板との位置合わせを行い，その後に露光光を照射する
という動作を必要とし，相当程度の時間を要することが前提となっている。
ウこのように，参考資料３発明と甲２発明とでは，装置が全く異なってい
る上に，ステージ動作に要求される条件さえも異なっている。
(3)技術的課題の相違
参考資料３に開示されている発明においては，基板が一度照射部を通過す
れば，基板の全面に露光する作業が完了するから，基板を往復移動させる構
成を採用する必要はない。そのため，基板を往復移動させる構成を有する参
考資料３発明も想定し得るとしても，上記１(1)エのとおり，「スループット
向上」との課題を念頭に置いた当業者は，矩形状のワークの場合には，往復
移動ではなく，片道移動で搬送し続ける構成が最も効率的であると理解する。
これに対し，甲２発明は，マスク保持部及び照射部の数量を削減しつつ，
基板を往復移動させることで，スキャン露光装置の製造コストを大幅に低減
するという効果を実現するものであるから，基板の往復移動が必須の構成と
なっている。すなわち。甲２発明における「スループット向上」との課題は，
「基板を露光領域に対して往復させる」という構成が前提となっている。
(4)往復移動動作の共通性について
被告は，参考資料３発明と甲２発明とは，基板を「往復移動可能なスキャ
ン露光装置」として共通するから，両発明を組み合わせる動機付けがあると
主張する。しかし，基板の「往復移動」は，スペースが存在しさえすれば可
能であるから，両発明の技術分野の共通性を裏付けるものと評価することは
できない。
また，甲２発明におけるステージは，往路移動の後に，当該移動方向に対
して垂直の方向へ移動し，次いで復路移動するという，コの字型の移動を必
須としている。これに対し，参考資料３発明におけるステージは，往路移動
後，その位置から直ちに復路移動を開始するから，甲２発明におけるコの字
型の移動とは異なる。
したがって，本件訂正発明に接していない当業者は，参考資料３発明と甲
２発明において，何ら共通点を見出すことができない。
３取消事由３（相違点１についての判断の誤り：参考資料３発明と甲２発明の
組合せの容易性についての判断の誤り）
(1)甲２発明から動作Ａを捨象することはできない
ア審決は，スループット向上との課題を解決しようとする当業者であれば，
甲２発明における往復移動（動作Ｂ及び動作Ｃ）の組合せのみに着目する
とし，Ｙ方向への移動である動作Ａを除いた「甲２´発明」を認定した上
で，参考資料３発明に甲２発明を組み合わせることが容易であると判断し
た。
しかし，甲２発明においては，マスク保持部及び照射部の数量を削減し
た構成を採用したことにより，単に基板を往復移動させるだけではなく，
復路移動の前にＹ方向へ移動させることも必須となっている。すなわち，
単なる往復移動（動作Ｂ及び動作Ｃ）だけではなく，Ｙ方向への移動（動
作Ａ）を含めた一連の動作が必須であることを前提として，スループット
向上という甲２発明の課題が出てくるのであって，スループット向上とい
う目的のために往復移動させているのではない。
イそもそも，参考資料３発明に甲２発明を組み合わせるとしながら，技術
的思想として有機的一体性を有する甲２発明を構成ごとに分断し，その中
から動作Ａのみを捨象した「甲２´発明」を適用するというのは，本件訂
正発明を念頭に置いて，その構成を完成させるために不要な構成のみを捨
象するという判断手法にほかならず，許されない。
ウしたがって，参考資料３発明と組み合わせるために，甲２発明から動作
Ａを除いた甲２´発明を認定した審決の判断は明らかに誤りである。
(2)動作Ａの存在は阻害要因となる
審決は，動作Ａの存在が，参考資料３発明と甲２発明とを組み合わせる際
の阻害要因となることはないと判断した。
しかし，上記(1)アのとおり，甲２発明においては，動作Ａを含めた一連の
動作が必須の構成である。この事実は，スループット向上との課題を解決し
ようとする当業者が，参考資料３における実施例と甲２発明とに接した場合
に，参考資料３発明に甲２発明の構成を組み合わせるよりも，参考資料３に
おける実施例のように，矩形状のワークの場合も片道移動で搬送し続ける構
成とする方が良いと想到することを基礎付けるものである。
したがって，動作Ａの存在は，参考資料３発明と甲２発明の組合せを阻害
する要因である。
(3)参考資料３発明に甲２発明を組み合わせても本件訂正発明に至らない
ア仮に参考資料３発明と甲２発明とを組み合わせたとしても，甲２発明に
は，本件訂正発明１，２，４及び５における「続くように」との構成は開
示されていないから，本件訂正発明１，２，４及び５に想到することは容
易でない。
すなわち，この「続くように」との文言は，「一方のステージの復路移
動の開始後，すぐに（あまり時間を置かずに）他方のステージの往路移動
が開始する」ことを許容するものである。偏光光の照射領域外の移動速度
は，照射領域での移動速度よりも速いから，タクトタイムを短くするため
には，遅くとも復路移動をしている一方のステージ上に載置された基板へ
の偏光光の照射が終わる前に，他方のステージが往路移動を開始しなけれ
ばならない。
したがって，本件訂正発明１，２，４及び５における「前記第一（二）
のステージの前記第一（二）の側への復路移動に続くように前記第二（一）
のステージの前記照射ユニット方向への往路移動を行わせ」との記載は，
少なくとも復路移動中の一方のステージ上の基板への偏光光の照射が終わ
った後に，他方のステージが往路移動を開始する構成を含むものではない。
イこれに対し，甲２発明が開示しているのは，復路移動中の基板Ｗに対す
る転写露光が終了した後に，基板Ｗ’の往路移動が開始する構成である。
すなわち，甲２発明によって実現されるスループット向上の効果は，一方
の基板の往復移動（すべての露光動作）と他方の基板の搬入・搬出動作を
オーバーラップさせる程度のものにすぎない。
ウそうすると，甲２発明には本件訂正発明１，２，４及び５の「続くよう
に」に相当する構成は開示されていないから，参考資料３発明に甲２発明
を組み合わせたとしても，本件訂正発明１，２，４及び５に想到すること
は困難である。
(4)小括
したがって，甲２発明から，その往復移動動作のみに着目して甲２´発明
を抽出し，参考資料３発明にこれを組み合わせて本件訂正発明に想到するこ
とは，当業者が容易にできるものではないから，これと異なる審決の判断は
誤りである。
４取消事由４（相違点４についての判断の誤り：甲５発明の認定の誤り）
(1)審決は，相違点４についての判断に当たり，甲５発明におけるステージ４
に基板９を設置した状態で偏光方向確認処理を実行した構成は，偏光方向に
基づいて，基板９を設置したステージ及び可動台５５に結合した回転部５４
を回転させ，偏光方向が適正となる補正処理を行う構成であって，その機械
的駆動部であるステージ４，可動台５５及び回転部５４等を備えた走査手段
は，本件訂正発明３の「搭載された基板の向きを，照射される偏光光の偏光
軸に対して所定の向きに円周方向に調整する基板アライナー」に相当すると
認定した。
しかし，次のとおり，甲５発明の走査手段は，本件訂正発明３の基板アラ
イナーと全く異なるものであるから，審決の上記認定は誤りである。
(2)アライメントの際に利用する情報及びその取得のタイミングの相違
ア甲５発明は，偏光子ホルダの熱膨張や振動に起因して石英基板偏光子の
位置がずれ，これによって生じる偏光光の偏光方向の回転ずれを，ステー
ジを回転させて相殺するものである。そのため，甲５発明において位置調
整に用いられる情報は，偏光子を介して照射される偏光光の偏光方向であ
る。
また，甲５発明は，偏光方向の回転ずれを検出するために，単位偏光子
ごとに偏光センサーを備えている。この偏光センサーは，基板が載置され
るステージ内，又はステージと同じ高さでステージに隣接した位置に配置
される（甲５の図３及び図１４参照）。偏光センサーは，偏光光の偏光方
向を検出する時には，偏光光照射手段の下方に位置し，単位偏光子を介し
て照射される偏光光を受けて，偏光方向の情報を検出する。そして，この
情報を処理して，偏光方向の回転ずれを相殺するステージの回転角度を算
出し，ステージを回転させる。偏光方向についての情報の取得は，複数の
基板に照射する場合であっても，照射開始時に一度行うだけである。
イ一方，本件訂正発明３においては，基板上に設けられたアライメントマ
ークの位置情報に基づいて基板の向きを調整するとされていることからも
明らかなように，ステージ上に基板が載置されている時に当該基板の位置
情報を取得する。この位置情報は，照射ユニットとは別個に設けられたア
ライメントセンサによって取得され，基板アライナーは，当該情報に基づ
いて，照射される偏光光の偏光方向に対して基板を所定の向きに調整する。
そして，基板の位置情報は，基板をステージ上に載置する度に取得する必
要がある。
ウこのように，本件訂正発明３と甲５発明とでは，アライメントに利用す
る情報及びこれを取得するタイミングが異なっており，ひいてはその具体
的構成も全く異なるものである。
(3)課題の相違
甲５発明が解決しようとする課題は，偏光光の偏光方向に回転ずれが生じ
ているということにあり，偏光センサーによってこれを検出し，ステージを
回転させることで，偏光方向の回転ずれを相殺している。
これに対し，本件訂正発明３が解決しようとする課題は，短いタクトタイ
ムで効率の良い処理を可能にすることと，偏光光の偏光方向に対して基板の
向きを精度良く所定の向きに合わせることにある。本件訂正発明３は，これ
らの課題を解決するために，２台のステージと，基板に設けられたアライメ
ントマークに基づいて基板の位置情報を検出するアライメントセンサ，及び
基板の向きを調整する基板アライナーを備えることで，一方の基板に偏光光
を照射する間に，他方の基板の搭載・回収のみならず，偏光光の偏光方向に
対して基板の向きを精度良く所定の向きに合わせることを可能とし，タクト
タイムを増加させることなく，基板の載置に伴う位置ずれの解消を可能とし
ている。すなわち，本件訂正発明３は，２台のステージ，アライメントセン
サ及び基板アライナーを併せ持つことによって，はじめて上記の課題を解決
する発明である。
したがって，本件訂正発明３と甲５発明は，解決すべき課題，ひいては技
術思想においても全く異なるものである。
(4)小括
以上によれば，甲５発明の走査手段が本件訂正発明３の基板アライナーに
相当するという審決の認定は誤りである。
したがって，参考資料３発明に甲５発明及び周知技術を組み合わせても本
件訂正発明３に想到することはできないから，結局，審決の相違点４につい
ての容易想到性の判断は誤りである。
５取消事由５（相違点４についての判断の誤り：参考資料３発明と甲５発明と
の組合せの容易性についての判断の誤り）
(1)甲５発明を組み合わせることについて
ア動機付けの不存在
審決は，光配向膜と光照射部の偏光方向との精度という参考資料３発明
が当然に有する課題を解決するために，参考資料３発明に甲５発明から導
出された構成を採用できると判断した。
しかし，一般的に光配向膜と光照射部の向きとの精度が考慮されるとし
ても，基板は無秩序に載置されるのではなく，ロボットなどの基板載置手
段によって一定程度以上の精度で載置される。そうすると，基板の向きの
精度を更に向上させる必要性がある場合にはじめて，基板を載置する精度
の向上という組合せの動機付けとなる課題が存在し得ることになるところ，
参考資料３は基板と光照射部の向きの精度について一切言及していないか
ら，当該文献からは上記課題を認識することができない。
イ阻害要因の存在
(ア)スループットの低下
審決は，参考資料３発明と甲２´発明とがスループット向上という共
通の技術課題を有していることを，両発明を組み合わせる動機付けの根
拠としている。
ところで，甲５発明においては，偏光センサーが偏光光の偏光方向を
検出し，その情報に基づいてステージの調整を行う。その一方で，基板
に偏光光を照射している間は，その偏光方向を偏光センサーで検出する
ことはできない。すなわち，基板に偏光光を照射する時間とは別に偏光
方向の検出時間が必要となるから，スループットが低下することになる。
したがって，仮にスループット向上という課題の共通性を動機付けと
して，参考資料３発明と甲２´発明を組み合わせられるとしても，更に
甲５発明を組み合わせることについては，スループット低下という阻害
要因がある。
(イ)照射領域と基板搭載位置との間のスペース
偏光光照射装置においては，偏光光の偏光方向と基板の一辺とが必ず
しも平行にならず，偏光方向と基板の一辺の角度が様々な値となり得る
ことは技術常識である。そうすると，「基板の向きを前記基板アライナ
ーにより調整した後の第一（二）のステージ上の基板が照射領域を通過」
するためには，照射領域と基板搭載位置とのスペースが基板の一辺の長
さよりも大きくなければならない。これを踏まえて，本件訂正発明３に
おいては，基板が斜めになることも考慮し，十分なスペースが確保され
ている。
しかし，甲２にも甲５にも，このスペースについては一切開示も示唆
もないから，参考資料３発明に甲２発明及び甲５発明を組み合わせると，
明らかにステージの干渉という結果を招いてしまう。
したがって，この事情は，本件訂正発明３との関係において，甲２発
明と甲５発明とを組み合わせることを阻害する要因である。
(ウ)組み合わせても本件訂正発明に至らない
甲５発明における偏光センサーは，照射される偏光光の偏光方向を検
出するものであって，ステージ上に載置された基板の向きに関する情報
を取得するものではないから，偏光光の偏光方向とステージ上に載置さ
れた基板の向きとの関係情報を取得することはできない。すなわち，甲
５発明は，ステージ上に載置される基板は，常に理想の位置に存在する
ことを前提とする発明である。
したがって，参考資料３発明に甲５発明を組み合わせたとしても，本
件訂正発明３の基板アライナーの構成に相当するものに至らないから，
両発明を組み合わせることについて阻害要因がある。
(2)審決が指摘する周知技術を組み合わせることについて
ア審決は，基板にアライメントマークを設けて，アライメントマークの位
置情報によって，設定された方向と基板の向きとの関係を得ることは，配
向処理を行う際の基板方向の調整において周知技術であると認定した。
イ参考資料３発明，甲５発明及び周知技術の組合せについて
(ア)技術分野の相違
審決が周知技術を開示しているとして挙げた文献は，ラビング用の布
を回転させて基板をラビングする装置を開示するものか，又は偏光素子
を用いることなく特定の照射領域に基板を配置し，紫外レーザー光を基
板に照射する装置を開示するものにすぎない。すなわち，これらの文献
は，いずれも甲５発明とは関係のない技術を開示するものであるから，
当該文献に開示されている技術と甲５発明とを組み合わせることは困難
である。
(イ)組み合わせても本件訂正発明に至らない
甲５発明の偏光センサーは偏光光の偏光方向を検出するものであるの
に対し，審決が周知技術と認定した技術は基板位置を検出するものであ
るから，両者は置換できるものではない。
また，上記(1)イ(ウ)のとおり，甲５発明の偏光センサーは，照射され
る偏光光の偏光方向とステージ上に載置された基板の向きとの関係情報
を取得するものではない。そして，審決が周知技術を開示しているとし
て挙げたいずれの文献においても，照射される偏光光の偏光方向とステ
ージ上に載置された基板の向きとの関係情報を取得する点については一
切開示がない。
さらに，甲５発明と周知技術とを組み合わせたものがどのような構成
を有することになるのかについても，甲５及び審決が挙げた文献からは
一切認識することができない。
したがって，参考資料３発明に，甲５発明と審決が周知技術と認定し
た技術を組み合わせても，上記の関係情報を前提とする本件訂正発明３
の基板アライナーの構成に相当するものに至らない。
ウ参考資料３発明及び周知技術の組合せについて
(ア)仮に，甲５発明を適用することなく，参考資料３発明に周知技術を直
接適用したとしても，以下のとおり，当業者は本件訂正発明３に容易に
想到することはできない。
(イ)上記(1)アのとおり，当業者は，ロボット等の基板載置手段によって
ステージ上に載置された基板の向きの精度を更に向上させようとする課
題を参考資料３から認識することができないから，アライメントマーク
を利用した基板アライナーを利用する動機付けも存在しない。
(ウ)また，本件訂正発明３の基板アライナーは，アライメントセンサによ
って，基板上に設けられたアライメントマークを検出して基板の位置情
報を取得し，この位置情報と偏光光の偏光方向についての情報とに基づ
いて，偏光方向に対して所定の向きに基板を調整するものである。すな
わち，本件訂正発明３の基板アライナーは，基板と偏光光の偏光方向と
の相対的な向きを合わせるものである。
これに対し，審決が周知技術を開示しているとして挙げた文献に開示
されているアライナーは，そのような構成を有していないから，いずれ
も本件訂正発明３の基板アライナーとは異なる。
そうすると，周知技術とされるアライナーを参考資料３発明に組み合
わせても，本件訂正発明３の基板アライナーの構成に相当するものに至
らない。
(エ)したがって，審決が周知技術を開示しているとして挙げた文献に開示
されているアライナーを組み合わせて本件訂正発明３に想到することは
困難である。
(3)本件訂正発明３が奏する効果
審決は，本件訂正発明３が奏する効果は格別のものとはいえないと判断し
た。
しかし，本件訂正発明３は，２台のステージに加えて，照射ユニットと基
板上のアライメントマークを検出するアライメントセンサとを備えることで，
一方の基板に偏光光を照射する間に，他方の基板の位置情報を検出して基板
の向きを調整できる構成となっているから，タクトタイムを増加させること
なく，基板を載置する際の位置ずれを解消し，光配向処理の精度や品質を高
く維持することができる。
審決は，本件訂正発明３が奏する格別の効果について看過しており，ひい
ては容易想到性の判断も誤っている。
(4)小括
ア本件訂正発明３の容易想到性について
以上によれば，本件訂正発明３は参考資料３発明，甲２´発明，甲５発
明及び周知技術に基づいて当業者が容易に想到できたとする審決の判断に
は誤りがある。
イ本件訂正発明４の容易想到性について
ところで，本件訂正発明４は，本件訂正発明３と同様に，アライメント
センサが検出したアライメントマークの位置情報に基づいて基板の向きを
調整する基板アライナーの構成を含んでいる。そうすると，審決が認定し
た参考資料３発明の構成によれば，本件訂正発明４と参考資料３発明との
間には，相違点４が存在することになるはずであるから，審決にはこの点
を看過した違法がある。この点を措くとしても，上記において主張したと
ころによれば，本件訂正発明４は，参考資料３発明，甲２´発明，甲５発
明及び周知技術に基づいて当業者が容易に想到できたとする審決の判断に
は誤りがあることになる。
ウ本件訂正発明５の容易想到性について
審決は，本件訂正発明５は，実質的には物の発明である本件訂正発明３
を方法の発明として記載したものであるから，参考資料３発明，甲２´発
明，甲５発明及び周知技術に基づいて当業者が容易に想到できたと判断し
た。しかし，上記のとおり，本件訂正発明５に係る相違点４についての判
断にも誤りがあることは明らかであるから，本件訂正発明５は，参考資料
３発明，甲２´発明，甲５発明及び周知技術に基づいて当業者が容易に想
到できたとする審決の判断には誤りがある。
第４被告の反論
１取消事由１（参考資料３発明の認定の誤り並びに本件訂正発明との一致点及
び相違点の認定の誤り）について
(1)参考資料３発明の認定について
ア原告は，「スループット向上」との課題を設定した場合に，当業者が，
参考資料３に基づいて，光配向用偏光光照射装置において矩形状のワーク
を往復移動させる構成を採用することはあり得ないと主張する。
しかし，参考資料３に開示されている発明において，スループットの更
なる向上という課題は，当該発明の実施形態それぞれについて成立するの
であって，実施形態の優劣によってその成否が左右されることはない。
配向処理後所定の長さに切断して使用するフィルム状の長尺ワークと，
液晶パネルの大きさに成形された矩形状のワークとは，本来別製品である
から，製造工程においてどちらを選択するかは既に特定されており，タク
トタイムの長短によって当該選択が左右される訳ではない。
したがって，光配向用偏光光照射装置におけるスループットの向上は，
長尺ワーク及び矩形状ワークのいずれにおいても当然検討すべき技術的課
題にほかならない。
イなお，矩形状ワークの場合であっても，次のとおり，往復移動構成の方
がスループットの向上に資する。
参考資料３に開示されている発明においては，長尺ワークが１個である
ことを前提としているから，矩形状ワークもまた１個である。
片道移動構成の場合には，ワークの移動開始位置において未照射のワー
クの搬入を行い，ワーク移動終了位置において照射済みワークの搬出を行
うから，当然の帰結として，搬入及び搬出の作業を同時に進行させること
はできない。
これに対し，往復移動構成の場合には，ワークの移動開始位置と移動終
了位置とが共通するものの，ワークの搬入及び搬出を同時に行うことがで
きるから，明らかにタクトタイムを削減し得る。
(2)本件訂正発明と参考資料３発明との一致点及び相違点の認定について
上記(1)のとおり，審決における参考資料３発明の認定が正当である以上，
本件訂正発明との一致点及び相違点についての認定もまた正当である。
２取消事由２（相違点１についての判断の誤り：参考資料３発明と甲２発明の
組合せの動機付けについての認定の誤り）について
(1)参考資料３発明と甲２発明とは，往復移動可能なスキャン露光装置として
共通する。また，甲２発明に係る装置は，基板上にマスクパターンを露光転
写する装置全般を包含しており，回路基板を作製するための装置に限定され
ているわけではない。
さらに，参考資料３発明と甲２発明とは，偏光光露光装置として使用可能
な点においても共通する。
したがって，当業者においては，このような共通性に着目し，スループッ
トの向上を目的として，参考資料３発明の往復移動構成にステージを２台備
える甲２発明の構成を組み合わせようとする動機付けがあるというべきであ
る。
(2)原告は，スループット向上との課題を前提とすると，参考資料３発明と甲
２発明とを組み合わせる動機付けが生じ得ないと主張する。しかし，上記１
(1)イのとおり，そもそも往復移動構成がスループットを悪化させるという前
提自体誤りであるから，原告の上記主張も失当である。
３取消事由３（相違点１についての判断の誤り：参考資料３発明と甲２発明の
組合せの容易性についての判断の誤り）について
(1)甲２発明から動作Ａを捨象した甲２´発明の採用について
甲２発明の動作Ａは，甲２発明の課題のうち，マスク保持部等の数量削減
による製造コスト低減に寄与するものの，ステージを２台備える構成を採用
してスループットを向上させるという課題とは無関係である。したがって，
マスクパターンや，動作ＡのようなＹ方向への移動を必要としていない参考
資料３発明に甲２発明を組み合わせようとする際には，甲２発明から動作Ａ
を捨象した甲２´発明を当然に採用し得る。
(2)動作Ａの存在は阻害要因とならない
参考資料３発明と甲２発明とを組み合わせる際，甲２発明の構成からマス
クを捨象できることは当然である。そして，動作Ａは，マスクの存在を前提
とし，その数量削減を実現するものであって，マスクの使用と不可分の関係
にあるから，参考資料３発明との組合せの際に，動作Ａも捨象し得ることは
当然である。
さらに，上記(1)のとおり，動作Ａは，スループット向上に寄与していない
から，スループット向上を共通の技術的課題として参考資料３発明と甲２発
明との組合せの可否を検討する際の阻害要因とならない。
４取消事由４（相違点４についての判断の誤り：甲５発明の認定の誤り）につ
いて
(1)甲５発明から導出した基板アライナーについて
ア偏光光を照射して配向膜を作製する際には，基板上で液晶分子が所定の
配向方向となるように基板のアライメント，すなわち位置調整をすること
が必要不可欠である。この基板アライメントは，「基板の位置を液晶分子
の配向方向に沿った正しい配置となるように調整する工程」と定義できる。
そして，基板アライメントにおけるアライメントマーク及びアライメント
センサは，基板の位置と基板における配向方向を正しい配置関係とするた
めに使用されるものであるところ，これらは周知の技術である。
この基板アライメントの趣旨及び定義に基づけば，①ステージ上に載
置された基板の向きを検出すること，②各基板の向きを，検出された向
きから，一律に配向方向に適合する向きとするために，ステージを回転す
ること，との構成は，基板アライナーに必要不可欠なものである。
したがって，審決が認定したように，配向処理を目的とする偏光光照射
装置において，円周方向に調整することにより基板の位置と液晶分子の配
向方向の調整を行うための基板アライナーの構成を導出できる。
イまた，参考資料３発明の偏光光照射装置においては，複数列の偏光素子
ユニットの各偏光素子の偏光方向は一致しており，かつ，その偏光方向が
確定していることを技術的前提としている。この偏光方向が一致し，かつ，
確定している状態は，偏光センサーによって偏光方向を検出し，その調整
をすることで実現可能である。
そして，参考資料３発明に甲５発明を適用する場合には，各偏光素子の
偏光方向が一致しているという参考資料３発明における技術的前提に立脚
することができるから，甲５発明における各偏光センサーの検出により「代
表角」を算出するプロセスを捨象することが当然に可能である。
ウなお，甲５発明における基板アライナーの構成は，偏光センサーによっ
て偏光光の偏光方向を検出する構成を包摂しているが，本件訂正発明３は
「搭載された基板の向きを，照射される偏光光の偏光軸に対して所定の向
きに円周方向に調整する基板アライナー」と規定し，偏光軸が既知の場合
と偏光軸を検出する場合との双方を包摂しており，偏光光の偏光方向の検
出の要否を特定していない。すなわち，偏光方向の測定手段を明示してい
ないことによって，偏光方向の検出を不要とする構成が明らかにされてい
るにすぎない。
(2)アライメントの際に利用する情報及びその取得のタイミングの相違につい
て
ア原告は，本件訂正発明３と甲５発明とでは，アライメントの際に利用す
る情報が相違するから，甲５発明の走査手段は本件訂正発明３の基板アラ
イナーに相当しないと主張する。
しかし，上記(1)のとおり，偏光光を照射して配向膜を作製する際に使用
される基板アライメントは，基板の位置を配向方向に沿った正しい配置と
なるように調整するためのものである。そうすると，甲５発明において，
各単位偏光子の偏光方向を検出し，かつ，当該偏光方向の回転ずれを相殺
するような回転角度によってステージを回転させているとしても，甲５発
明から「搭載された基板の向きを，照射される偏光光の偏光軸に対して所
定の向きに円周方向に調整する基板アライナー」との構成が導出できるこ
とに変わりはなく，アライメントの際に利用する情報の相違は，この点を
左右しない。
すなわち，審決が甲５発明から導出した基板アライナーの構成は，基板
の位置と配向方向との回転ずれに係る情報を検出する構成が存在している
ことを当然の前提としている。
イまた，原告は，本件訂正発明３と甲５発明とでは，アライメントの際に
利用する情報を取得するタイミングが相違しているとも主張する。
甲５発明において，偏光方向に関する情報がステージを単位として検出
されており，個別の基板を単位としていないのは，基板がステージに載置
される位置が確定しているからにほかならない。
これに対し，本件訂正発明３は，ステージ上の個別の基板の載置位置が
必ずしも確定していないことを前提とした上で，個別の基板を単位として
アライメントマーク及びアライメントセンサを介して，偏光方向との回転
ずれに関する情報を検出している。
しかし，アライメントマーク及びアライメントセンサによって上記回転
ずれの情報を取得することは，前記のとおり周知の技術的事項である。そ
うすると，甲５発明において，アライメントマーク及びアライメントセン
サによる周知の技術構成を採用し，甲５発明固有の偏光センサーによる偏
光方向に関する情報及びアライメントセンサによる基板の位置に関する情
報の双方によって，偏光光の偏光方向と基板の位置との間の回転ずれに関
する情報を把握し，基板アライメントを行うことは当然可能である。
すなわち，上記周知技術を採用することによって，偏光光の偏光方向と
基板の位置との間の回転ずれを調整する場合には，基板の位置情報をステ
ージに載置する度に取得することになるから，原告の主張は失当である。
(3)課題の相違について
本件訂正発明３においてタクトタイムが削減できるのは，一方のステージ
で基板アライメントが行われている間に，他方のステージの移動及び偏光光
の照射を実現するという，ステージを２台備える方式を採用しているからで
あって，基板アライメント自体がタクトタイムの削減に格別寄与する訳では
ない。すなわち，アライメントセンサの採用とタクトタイムの削減とは，何
ら関係がない。
参考資料３発明と甲２発明とを組み合わせた場合には，必然的にタクトタ
イムの削減が実現できるのであるから，この構成に甲５発明から導出される
基板アライナーを適用した場合には，タクトタイムの削減と基板の向きを精
度良く調整するという作用効果を両立させることができる。
５取消事由５（相違点４についての判断の誤り：参考資料３発明と甲５発明と
の組合せの容易性についての判断の誤り）について
(1)参考資料３発明，甲５発明及び周知技術の組合せについて
ア動機付けの存在
(ア)甲５の発明の詳細な説明中，発明の効果の欄に，「基板に対して走査
させる紫外線の偏光方向を事前に確認することが可能となる」ことが指
摘されており，また，「検知された各単位偏光子の偏光方向に基づいて，
単位偏光子の取り付けを手動，あるいは，自動で調整することで，基板
に対し良好な配向特性を付与することが可能となる」（段落【００２６】）
と記載されていることからすると，甲５発明において，偏光センサーが
取得した情報に基づいてステージの角度を調整する目的は，基板の角度
の調整にあることが明らかである。すなわち，甲５発明は，偏光センサ
ーが偏光光の偏光方向を検出することによって，偏光方向とステージ上
の既知の基板の向きとの回転ずれによる関係情報を取得しているのであ
る。
(イ)審決が指摘した周知技術のうち，ラビング方式における基板アライメ
ントにおいては，ラビング方向が基板において予定されている液晶分子
の配向方向に当たるから，アライメントマークから得られる基板の方向
とラビングに沿って予定されている配向方向との回転ずれに基づく基板
アライメントが開示されていることになる。
なお，乙１の４には，非偏光の紫外レーザー光に対し，偏光素子によ
って直線偏光を行う実施形態も開示されており，周知技術が甲５発明と
は関係ないとする原告の主張は前提において誤っている。
上記の周知技術に係る基板アライナーは，ラビング方式による配向処
理の方向又は偏光光の偏光方向が確定しているものの，配向方向に対す
る基板の向きが不確定である場合に採用される周知技術である。ロボッ
トが基板をステージ上に載置する場合であっても，ロボットが作動する
前段階における基板の配置の不揃いや，基板がステージ上に載置された
際の衝撃に起因して，基板の向きに偏差が生じ得る。
そして，参考資料３発明においても，甲５発明においても，アライメ
ントの対象となる確定した方向（偏光方向）に対して，基板の向きが不
確定である場合に，周知技術であるアライメントマーク及びアライメン
トセンサを採用して基板の向きを調整することは，当然に採用され得る
技術的手法にすぎない。
(ウ)そして，参考資料３発明と甲５発明から導出された基板アライナーと
は，偏光方向が確定している点において共通している。
(エ)以上のような共通性を考慮すると，参考資料３発明に甲５発明から導
出された基板アライナーを適用した上で，周知技術であるアライメント
マーク及びアライメントセンサを採用することについて，動機付けがあ
るといえる。
イ組合せにより本件訂正発明に至ること
甲５発明においては，偏光センサーが偏光光の偏光方向を検出すること
によって，偏光方向と既知の基板の向きとの回転ずれに基づく関係情報が
得られる。これに対し，審決が指摘した周知技術においては，アライメン
トセンサがアライメントマークを設けた基板の向きを検出することによっ
て，配向方向と基板の向きの関係情報を得ている。
これを前提とすると，双方の関係情報に基づく回転ずれを甲５発明の制
御部が把握し，かつ当該回転ずれの調整による基板アライメントを実現す
る場合には，「アライメントセンサにより検出されたアライメントマーク
の位置情報に基づいて，搭載された基板の向きを，照射される偏光光の偏
光軸に対して所定の向きに円周方向に調整する基板アライナー」という，
本件訂正発明３に係る構成となることは明らかである。
ウ阻害要因の不存在
(ア)スループットの低下について
上記の基板アライナーに対し，アライメントセンサによって基板のア
ライメントマークを検出するという周知の技術的事項を付加した場合に
は，基板の移動前及び移動中に基板のアライメントを実現することが可
能であるから，原告が主張するようなスループットの低下はあり得ない。
現に，甲５には，移動しながらアライメントを行う構成が開示されて
いる（図１４，１５，２０，２１，２３）。
(イ)照射領域と基板搭載位置との間のスペースについて
原告が主張するように，偏光光照射装置においては，偏光光の偏光方
向と基板の一辺の角度が様々な値となり得ることが技術常識であるとす
ると，参考資料３発明に甲２´発明，甲５発明及び周知技術を付加した
構成とした場合においても，このような技術常識に立脚して，照射領域
と基板搭載位置とのスペースを適宜設けることは，当該技術常識に基づ
いて当業者が容易かつ当然に想到し得る設計事項にすぎない。
(2)参考資料３発明及び周知技術の組合せについて
上記(1)アのとおり，参考資料３発明において，ステージ上に載置された基
板の向きを検出することと，各基板を一律に配向方向に適合するような向き
とするためにステージを回転すること，という機構を備えた構成は，当然に
採用すべき技術事項である。
そして，この場合に，アライメントマークを唯一の基準として上記の機構
を備えた基板アライナーを直接適用することは，当然の技術的手法である。
したがって，当業者は，参考資料３発明に，周知技術である基板アライナ
ーを直接適用することによっても，本件訂正発明３に容易に想到できるとい
うべきである。
(3)本件訂正発明３が奏する効果
原告が主張する本件訂正発明３の効果は，基板アライメントにおける当然
の効果にすぎない。
(4)原告の主張について
原告は，甲５においても，審決が周知技術を開示しているとして挙げたい
ずれの文献においても，偏光方向と基板の方向との関係情報を取得する点に
ついて何ら開示されていないと主張する。
しかし，甲５においては，偏光光の代表角を検出した後，ステージの回転
位置の調整を介して，基板の向きも調整されているというべきである。ラビ
ング方式に関する文献においても，ラビングが行われる基板における液晶分
子の配向方向とアライメントマークによって検出される基板の向きとの回転
ずれに基づく関係情報によって基板アライメントが行われていることは明ら
かである。
仮に，配向方向と基板の方向との関係情報を取得する構成がないというの
であれば，当該関係情報に基づいて回転ずれを是正するという基板アライメ
ントを実現すること自体が不可能となるのであるから，そのような帰結をも
たらす原告の主張が失当であることは明らかである。
第５当裁判所の判断
当裁判所は，原告が主張する取消事由はいずれも理由がなく，審決に取り消
すべき違法があるとはいえないと判断する。その理由は，以下のとおりである。
１本件訂正発明について
(1)本件訂正発明についての特許請求の範囲は，上記第２の２記載のとおりで
ある。
(2)本件明細書（甲１２）には，概ね以下の記載がある（図１～６は別紙本件
明細書図面参照）
ア技術分野
本願の発明は，光配向を行う際に行われる偏光光の照射技術に関するも
のである。（【０００１】）
イ背景技術
近年，液晶パネルを始めとする液晶表示素子の配向膜や，視野角補償フ
ィルムの配向層を得る際，光照射により配向を行なう光配向と呼ばれる技
術が採用されるようになってきた。以下，光照射により配向を生じさせた
膜や層を総称して光配向膜と呼ぶ。尚，「配向」ないし「配向処理」とは，
対象物の何らかの性質について方向性を与えることである。
光配向を行う場合，光配向膜用の膜（以下，膜材）に対して偏光光を照
射することにより行われる。膜材は，例えばポリイミドのような樹脂製で
あり，所望の方向（配向させるべき方向）に偏光させた偏光光が膜材に照
射される。所定の波長の偏光光の照射により，膜材の分子構造（例えば側
鎖）が偏光光の向きに揃った状態となり，光配向膜が得られる。（【００
０２】）
光配向膜は，それが使用される液晶パネルの大型化と共に大型化してい
る。そのため，要求される偏光光の照射領域の幅は，１５００ｍｍからそ
れ以上と幅広化してきている。このような幅の広い照射領域を備える偏光
光照射装置として，例えば特許文献１（判決注：特許第４８１５９９５号
公報。なお，参考資料３に係る特許出願の特許公報である。以下同じ。）
に開示された装置がある。この装置は，照射領域の幅に相当する長さの棒
状の光源と，この光源からの光を偏光するワイヤーグリッド偏光素子とを
備え，光源の長手方向に対して直交する方向に搬送される膜材に対して偏
光光を照射する。（【０００３】）
ウ発明が解決しようとする課題
このような光配向用の偏光光照射装置において，偏光光照射の対象物（ワ
ーク）は，膜材が連続して連なった長尺なもの（以下，長尺ワーク）であ
る場合と，膜材が液晶基板上に既に設けられていて，膜材付きの液晶基板
がワークである場合とがある。
特許文献１では，長尺ワークがロール状に巻かれていて，ロールから長
尺ワークを引き出して偏光光を照射する装置が開示されている。ロールツ
ーロールの搬送の際に偏光光が照射された長尺ワークは，所定の位置で切
断された後，液晶基板に貼り付けられる。一方，膜材付きの液晶基板に対
して偏光光を照射する偏光光照射装置については，効率良く（短いタクト
タイムで）プロセスが可能な装置構成を開示した先行文献は見あたらない。
本願発明は，このような状況に鑑みて為されたものであり，膜付き液晶
基板のような膜材付きの板状部材に対して光配向プロセスを行うことが可
能な装置であって，高い生産性を実現できる装置及び方法を提供すること
を解決課題とするものである。（【０００５】）
エ課題を解決するための手段
上記課題を解決するため，本願の請求項１記載の発明は，設定された照
射領域に偏光光を照射する照射ユニットと，
基板が載置されるステージと，
照射領域にステージを移動させることでステージ上の基板に偏光光が照
射されるようにするステージ移動機構とを備えており，
ステージとして第一第二の二つのステージが設けられており，
ステージ移動機構は，照射領域の一方の側に設定された第一の基板搭載
位置から第一のステージを照射領域に移動させるものであるとともに，照
射領域の他方の側に設定された第二の基板搭載位置から第二のステージを
照射領域に移動させるものであり，
ステージ移動機構は，第一のステージ上の基板が照射領域を通過した後
に第一のステージを第一の側に戻すとともに，第二のステージ上の基板が
照射領域を通過した後に第二のステージを第二の側に戻すものであり，
第一の基板搭載位置に位置した第一のステージと照射領域の間には，第
二のステージ上の基板が照射領域を通過する分以上のスペースが確保され，
第二の基板搭載位置に位置した第二のステージと照射領域の間には，第一
のステージ上の基板が照射領域を通過する分以上のスペースが確保されて
いるという構成を有する。
また，上記課題を解決するため，請求項２記載の発明は，前記請求項１
の構成において，前記照射ユニットは，前記第一第二の各ステージが往路
移動する際と復路移動する際の双方において各ステージ上の基板に偏光光
を照射するものであるという構成を有する。
また，上記課題を解決するため，請求項３記載の発明は，前記請求項１
又は２の構成において，前記第一第二の各ステージには，搭載された基板
の向きを，照射される偏光光の偏光軸に対して所定の向きにする基板アラ
イナーが設けられているという構成を有する。
また，上記課題を解決するため，請求項４記載の発明は，前記請求項１，
２又は３の構成において，前記ステージ移動機構は，前記第一第二のステ
ージの移動方向に沿ってガイド部材を備えており，このガイド部材は，前
記第一のステージの移動のガイドと前記第二のステージの移動のガイドと
に兼用されるものであるという構成を有する。
また，上記課題を解決するため，請求項５記載の発明は，請求項１乃至
４いずれかに記載の光配向用偏光光照射装置を使用して基板に光配向用の
偏光光を照射する光配向用偏光光照射方法であって，
前記第一の基板搭載位置において前記第一のステージ上に基板を搭載す
る第一の基板搭載ステップと，
前記第二の基板搭載位置において前記第二のステージ上に基板を搭載す
る第二の基板搭載ステップと，
基板が搭載された前記第一のステージを前記第一の基板搭載位置から移
動させ，前記照射領域を基板が通過した後，前記一方の側に設定された第
一の基板回収位置まで前記第一のステージを戻す第一の移動ステップと，
基板が搭載された前記第二のステージを前記第二の基板搭載位置から移
動させ，前記照射領域を基板が通過した後，前記他方の側に設定された第
二の基板回収位置まで前記第二のステージを戻す第二の移動ステップと，
第一の基板回収位置において前記第一のステージから基板を回収する第
一の基板回収ステップと，
第二の基板回収位置において前記第二のステージから基板を回収する第
二の基板回収ステップとを有しており，
第一の基板回収ステップ及び第一の基板搭載ステップが行われる時間帯
は，第二の移動ステップが行われる時間帯と全部又は一部が重なっており，
第二の基板回収ステップ及び第二の基板搭載ステップが行われる時間帯
は，第一の移動ステップが行われる時間帯と全部又は一部が重なっている
という構成を有する。（【０００６】）
オ発明の効果
以下に説明する通り，本願の請求項１又は５記載の発明によれば，照射
領域を二つのステージが交互に通過することで各ステージ上の基板に対し
て偏光光が照射されるようにすることができ，タクトタイムの削減によっ
て生産性の高い光配向プロセスを実現することができる。この際，第一の
基板搭載位置と照射領域の間には，第二のステージ上の基板が照射領域を
通過できる分以上のスペースが確保され，第二の基板搭載位置と照射領域
との間には，第一のステージ上の基板が照射領域を通過できる分以上のス
ペースが確保されているので，ステージ同士が干渉することなく均一性の
高い光配向処理が行える。
また，請求項２記載の発明によれば，上記効果に加え，第一第二の各ス
テージ上の基板が，往路と復路の双方で光照射されるので，エネルギーの
無駄無く効率良く光配向処理ができ，移動速度を速くすることでより生産
性を高めることができる。
また，請求項３記載の発明によれば，上記効果に加え，基板アライナー
を備えているので，偏光光の偏光軸に対して基板が所定の向きに向いた状
態で精度良く偏光光が照射される。このため，光配向処理の精度や品質を
高く維持できる。
また，請求項４記載の発明によれば，上記効果に加え，ガイド部材が第
一第二のステージの移動に兼用されるので，ステージ移動機構の構成がシ
ンプルになり，また装置のコストも安価にできる。（【０００７】）
カ発明を実施するための形態
次に，本願発明を実施するための形態（以下，実施形態）について説明
する。
(ア)図１は，本願発明の実施形態に係る光配向用偏光光照射装置の斜視概
略図である。図１に示す偏光光照射装置は，膜材付き液晶基板のような
基板Ｓをワークとして光配向処理する装置となっている。
具体的には，図１の装置は，設定された照射領域Ｒに偏光光を照射す
る照射ユニット１と，基板Ｓが載置されるステージ２１，２２と，照射
領域Ｒにステージ２１，２２を移動させることでステージ２１，２２上
の液晶基板Ｓに偏光光が照射されるようにするステージ移動機構３とを
備えている。（【０００９】）
図１に示すように，この実施形態では，二つの照射ユニット１が併設
されている。併設の方向は，ステージ２１，２２の移動方向である。各
照射ユニット１は同様の構成のものであり，ほぼ矩形のパターンＲ１で
偏光光を照射するものとなっている。従って，この実施形態では，二つ
のほぼ矩形の照射パターンＲ１から成る（二つの照射パターンＲ１を包
絡した）ほぼ矩形の領域が照射領域Ｒとして設定されている。尚，二つ
の照射パターンＲ１は，一部が重なっていても良いし，重ならなくても
良い。また，図１に示すように，照射領域Ｒは水平な面内の領域である。
（【００１０】）
ステージ移動機構３は，上記照射領域Ｒを通過するようにしてステー
ジ２１，２２を移動させる機構である。この実施形態では，ステージ２
１，２２は水平な姿勢で配置され，移動方向は水平方向である。以下，
説明の都合上，ステージ移動機構３による移動方向を長さ方向と呼び，
移動方向に垂直な水平方向を幅方向と呼ぶ。（【００１１】）
(イ)図２は，図１に示す偏光光照射装置の正面概略図である。図２に示す
ように，照射ユニット１は，光源１１と，光源１１の背後に設けられた
ミラー１２と，光源１１やミラー１２を内部に収容したランプハウス１
３と，偏光素子１４等から構成されている。
光源１１には，棒状のランプが使用されている。本実施形態では，紫
外域の光によって光配向を行うので，高圧水銀ランプや水銀に他の金属
を加えたメタルハライドランプ等が使用される。紫外域の必要な波長の
光を放射するＬＥＤを複数並べて長い照射パターンを得るようにしても
良い。ミラー１２は，効率良く偏光光照射を行うためのもので，断面が
楕円又は放物線の一部を成す形状の樋状ミラーが使用される。長尺な左
右一対のミラーをスリットを形成しながら配置して，ほぼ樋状のミラー
を形成する。（【００１２】）
偏光素子１４は，光源１１から放射される光を光配向に必要な偏光光
にするためのものである。偏光素子１４としては，透明基板上に縞状の
誘電体（または導電性や半導体）材料より成る微細な格子を設けたワイ
ヤーグリッド偏光素子を使用することができる。ランプハウス１３は，
光照射口を有しており，偏光素子１４は，光源１１と光照射口との間の
位置に配置されている。尚，一つの偏光素子１４は矩形の小さいもので
ある場合が多く，通常，偏光素子１４を複数幅方向（光源１１の長さ方
向）に並べて照射領域Ｒに偏光光を照射する構成が採用される。…（【０
０１３】）
(ウ)一方，図１に示すように，この実施形態の装置は，二つのステージ２
１，２２を備えている。以下，二つのステージ２１，２２を第一のステ
ージ２１，第二のステージ２２とする。これらステージ２１，２２を移
動させるステージ移動機構３について，図１，図２及び図３を使用して
さらに詳しく説明する。図３は，図１に示すステージ移動機構３の平面
概略図である。また，図２には，図１に示すステージ移動機構３がその
制御系とともに示されている。（【００１４】）
図１～図３に示すように，ステージ移動機構３は，照射領域Ｒを貫い
て延びるガイド部材３１と，ガイド部材３１に沿って第一第二のステー
ジ２１，２２を移動させる駆動源３２１，３２２とを含んでいる。図１
及び図３に示すように，照射領域Ｒを挟んでガイド部材３１は二つ設け
られている。ガイド部材３１は，具体的にはリニアガイドであり，互い
に平行に延びている。二つのステージ２１，２２は，二つのガイド部材
３１に沿って移動がガイドされる。即ち，二つのガイド部材３１は，第
一のステージ２１のガイドと第二のステージ２２のガイドに兼用される
ものとなっている。（【００１５】）
第一のステージ２１の下面には，一対のガイドブロック２１１が固定
されている。ガイドブロック２１１の固定位置は，両側のガイド部材３
１の位置に対応している。ガイドブロック２１１内にはベアリングが設
けられており，両側のガイド部材３１がガイドブロック２１１を貫通し
た状態で第一のステージ２１が配置されることで，第一のステージ２１
はガイド部材３１によってガイドされるようになっている。第二のステ
ージ２２も同様の構造であり，下面に固定された一対のガイドブロック
２２１にガイド部材３１が貫通しており，これにより移動がガイドされ
る。（【００１６】）
各ステージ２１，２２の移動は，駆動源３２１，３２２がボールねじ
３３１，３３２を回すことで行われる。即ち，図１及び図３に示すよう
に，ステージ移動機構３は，第一のステージ２１を移動させる第一のボ
ールねじ３３１と，第二のステージ２２を移動させる第二のボールねじ
３３２とを備えている。
第一のボールねじ３３１の一端は第一の駆動源３２１に連結され，他
端は軸受け３３３で支えられている。同様に，第二のボールねじ３３２
の一端は第二の駆動源３２２に連結され，他端は軸受け３３４で支えら
れている。第一第二のボールねじ３３１，３３２は，一対のガイド部材
３１が延びる方向に対して精度良く平行に延びるように配置されている。
（【００１７】）
第一のステージ２１の下面のほぼ中央には，第一のボールねじ３３１
に螺合された（ねじが噛み合っている）被駆動ブロック２１２が固定さ
れている。第一の駆動源３２１は，ＡＣサーボモータのようなモータで
あり，第一の駆動源３２１が第一のボールねじ３３１を回転させると，
一対のガイド部材３１にガイドされながら第一のステージ２１が直線移
動する。同様に，第二のステージ２２の下面のほぼ中央には，第二のボ
ールねじ３３２に螺合された被駆動ブロック２２２が固定され，第二の
駆動源３２２が第二のボールねじ３３２を回転させると，一対のガイド
部材３１にガイドされながら第二のステージ２２が直線移動する。（【０
０１８】）
また，実施形態の偏光光照射装置は，装置全体を制御する制御ユニッ
ト４を備えている。制御ユニット４には，ステージ移動機構３などの各
部の動作を制御するシーケンスプログラムを記憶した記憶部４１や，シ
ーケンスプログラムを実行する演算処理部４２等を有している。制御ユ
ニット４からの制御信号は，二つの駆動源３２１，３２２を含む装置の
各部に送られるようになっている。（【００１９】）
(エ)一方，実施形態の偏光光照射装置は，ステージ２１，２２上への基板
Ｓの搭載やステージ２１，２２からの基板Ｓの回収のための機構も備え
ている。この点について，図４を使用して説明する。図４は，ステージ
２１，２２における基板Ｓの搭載や回収のための機構を示した斜視概略
図である。
偏光光照射のためには基板Ｓをステージ２１，２２上に載置する必要
があり，また偏光光照射が終了した基板Ｓについてはステージ２１，２
２から回収する必要がある。これらの動作は，手作業で行われる場合も
あるが，量産ラインでは，通常ロボットで行われる。この際，ロボット
のハンドがステージ２１，２２に干渉しないようにする必要がある。こ
のための構成として，実施形態のステージ２１，２２は，昇降ピン５を
内蔵している。（【００２０】）
即ち，図４に示すように，ステージ２１，２２には，ピン用孔５０が
設けられている。ピン用孔５０は，上下に延びる孔であり，ステージ２
１，２２表面に達している。ピン用孔５０はステージ２１，２２の中央
に対して均等な位置に３～４個程度設けられており，各ピン用孔５０内
に昇降ピン５が配置されている。各昇降ピン５は，不図示の昇降機構に
より同期して昇降可能となっている。ステージ２１，２２上に基板Ｓを
載置する際には，各昇降ピン５を上限位置に上昇させる。この状態で，
基板Ｓを保持したロボットが，ステージ２１，２２の上方に基板Ｓを移
動させ，そのまま下降させて基板Ｓを各ピン上に載せる。その後，ロボ
ットのハンドを退避させた後，各昇降ピン５を一体に下降させて基板Ｓ
をステージ２１，２２上に載置する。（【００２１】）
偏光光照射後に基板Ｓを回収する際は，これとは逆の動作であり，各
昇降ピン５を一体に上昇させて基板Ｓを持ち上げ，持ち上げられた基板
Ｓの下側にロボットのハンドを進入させて基板Ｓを回収するようにする。
…（【００２２】）
(オ)実施形態の装置は，ステージ移動機構３により第一第二のステージ２
１，２２を移動させ，交互に照射領域Ｒを通過させることで各ステージ
２１，２２上の基板Ｓに交互に偏光光を照射する。この際，基板Ｓ上の
各点における偏光光の積算露光量が不均一にならないように工夫してい
る。以下，この点について図３を参照して説明する。
実施形態の装置において，第一のステージ２１への基板Ｓの搭載と第
一のステージ２１からの基板Ｓの回収は同じ位置で行われる。以下，こ
の位置を第一の基板搭載回収位置という。また，第二のステージ２２へ
の基板Ｓの搭載と第二のステージ２２からの基板Ｓの回収も同じ位置で
行われる。以下，この位置を第二の基板搭載回収位置という。第一の基
板搭載回収位置は，照射領域Ｒの一方の側（例えば図３に示すように左
側）に設定され，第二の基板搭載回収位置は，照射領域Ｒの他方の側に
（例えば図３に示すように右側）に設定される。（【００２３】）
ステージ移動機構３は，第一の基板搭載位置で基板Ｓが搭載された第
一のステージ２１を照射領域Ｒまで移動させて通過させ，その後，引き
戻す。そして，第一の基板搭載位置で基板Ｓが第一のステージ２１から
回収される。また，ステージ移動機構３は，第二の基板搭載回収位置で
基板Ｓが搭載された第二のステージ２２を照射領域Ｒまで移動させて通
過させ，その後，引き戻す。そして，第二の基板搭載回収で第二のステ
ージ２２から基板Ｓが回収される。尚，説明の都合上，第一のステージ
２１が前進して後退に転じる際の位置を第一の前進到達位置と呼び，第
二のステージ２２が前進して後退に転じる際の位置を第二の前進到達位
置と呼ぶ。また，図２及び図３において，第一の前進到達位置に位置し
た第一のステージを符号２１’で示し，第二の前進到達位置に位置した
第二のステージを符号２２’で示す。（【００２４】）
このような実施形態の装置において，各基板搭載回収位置は，各ステ
ージ２１，２２の大きさ，照射領域Ｒの位置や大きさ等に応じて最適化
されている。即ち，実施形態の装置では，第一の基板搭載回収位置に位
置した第一のステージ２１と照射領域Ｒの間のスペース（以下，第一の
スペース）として，少なくとも第二のステージ２２上の基板Ｓの長さ（ス
テージ２１，２２の移動方向の長さ）以上が確保されている。即ち，第
一のスペースは，第二の前進到達位置に第二のステージ２２’が到達し
た際にも第一のステージ２１と干渉しないだけのスペースとなっている。
好ましくは，第一のスペースの長さ（図２にＬ１で示す）は，第二のス
テージ２２の長さ以上とされる。（【００２５】）
また，第二の基板搭載回収位置に位置した第二のステージ２２と照射
領域Ｒの間のスペース（以下，第二のスペース）として，少なくとも第
一のステージ２１上の基板Ｓの長さ以上が確保されている。即ち，第二
のスペースは，第一の前進到達位置に第一のステージ２１’が到達した
際にも第二のステージ２２と干渉しないだけのスペースとなっている。
好ましくは，第二のスペースの長さ（図２にＬ２で示す）は，第一のス
テージ２１の長さ以上とされる。
この実施形態では，第一のステージ２１と第二のステージ２２は同じ
サイズＷであり，従ってＬ１＝Ｌ２＞Ｗである。より具体的な一例を示
すと，例えば基板Ｓが１５００×１８００ｍｍ程度のサイズとすると，
各ステージ２１，２２の長さＷは１５５０×１８５０ｍｍ程度とされ，
Ｌ１＝Ｌ２は２６００ｍｍ程度とされる。このようなスペースが確保さ
れるよう，ステージ移動機構３におけるボールねじ３３１，３３２等の
長さが選定され，各ステージ２１，２２の移動ストロークが設定されて
いる。（【００２６】）
(カ)また，実施形態の装置は，光配向のための偏光光照射が正しく行われ
るように基板Ｓの位置や向きを調節する基板アライナー６を備えている。
基板アライナー６について，図５を使用して説明する。図５は，実施形
態の装置が備える基板アライナー６の概略について示した斜視図である。
図５には，一例として第一のステージ２１に設けられた基板アライナー
６が示されているが，第二のステージ２２についても同様である。
図５に示すように，第一のステージ２１は，固定ベース２０Ａと，固
定ベース２０Ａ上の可動ベース２０Ｂ等から構成されている。前述した
被駆動ブロック２１２やガイドブロック２１１は，固定ベース２０Ａの
下面に固定された部材となっている。（【００２７】）
可動ベース２０Ｂは，固定ベース２０Ａ上においてＸＹθの方向に移
動可能に設けられている。即ち，固定ベース２０Ａ上にはＸＹθ移動機
構６２が設けられており，ＸＹθ移動機構６２は可動ベース２０ＢをＸ
Ｙθ方向に移動させて可動ベース２０Ｂの位置や姿勢を微調節するもの
となっている。尚，この際のＸＹ方向とは水平な面内の直交方向であり，
例えばＸ方向が長さ方向（移動方向），Ｙ方向が幅方向とされる。θは，
ＸＹ方向に対して垂直な軸の回りの円周方向であり，この例では鉛直な
軸の回りの円周方向である。このようなＸＹθ移動機構６２は，各社か
ら種々のタイプのものが市販されており，適宜のものを選択して組み込
むことができるので，詳細な説明及び図示は省略する。
なお，ＸＹθ移動機構６２については，ＸＹ方向のうちのいずれか一
方向についてステージ移動機構３の移動と兼用し，Ｘθ移動機構または
Ｙθ移動機構としてもよい。（【００２８】）
一方，ステージ２１，２２に載置される基板Ｓには，アライメントマ
ークＳ１が施されている。基板アライナー６は，アライメントマークＳ
１を撮像するアライメントセンサ６１と，上記ＸＹθ移動機構６２と，
アライメントセンサ６１からの出力に従ってＸＹθ移動機構６２を制御
するアライメント用制御部６３とから主に構成されている。
アライメントマークＳ１は，通常，基板Ｓ上の所定位置に２カ所設け
られている。アライメントセンサ６１は，アライメントマークＳ１の位
置及びアライメントすべき基準位置や基準方向に従って所定の位置でア
ライメントマークＳ１の撮像をするよう二つ設けられている。（【００
２９】）
一例を示すと，図５に示すように，アライメントマークＳ１は，方形
の基板Ｓの幅方向に沿った二つの角部に設けられる。アライメントセン
サ６１は，第一のステージ２１に対して基板Ｓの搭載動作を行う位置（以
下，搭載位置）の上方に配置されている。二つのアライメントセンサ６
１の位置は，基板Ｓ上のアライメントマークＳ１の離間距離に一致し，
二つのアライメントセンサ６１を結ぶ線は，ステージ移動機構３におけ
る幅方向に一致している。
上述したように第一のステージ２１に基板Ｓが搭載されると，各アラ
イメントマークＳ１を各アライメントセンサ６１が撮像する状態となる。
各アライメントセンサ６１の撮像エリア内には基準位置が設定されてお
り，この基準位置には，アライメントマークＳ１の中心が位置すべき位
置である。（【００３０】）
アライメント用制御部６３は，各アライメントセンサ６１からの出力
データ（イメージデータ）を処理し，ＸＹθ移動機構６２を制御してア
ライメントを行う。具体的には，２個のアライメントセンサ６１が検出
したそれぞれのアライメントマークＳ１の位置情報と，あらかじめアラ
イメント用制御部６３に入力されている２個のアライメントマークＳ１
の距離情報とに基づき，アライメント用制御部６３は，アライメントセ
ンサ６１が撮像するアライメントマークＳ１の重心が基準位置に位置す
るようステージ２２のＸＹθ方向の移動距離のデータを演算し，ＸＹθ
移動機構６２を制御して可動ベース２０ＢをＸＹθ方向に移動させる。
これにより，アライメントが完了したことになる。（【００３１】）
アライメントが完了すると，二つのアライメントマークＳ１を結んだ
線（搭載された基板Ｓの幅方向）がステージ移動機構３の幅方向に精度
良く位置した状態となる。幅方向における基板Ｓの位置も，所定の位置
となる。所定位置とは，例えば，二つのガイド部材３１のちょうど真ん
中の位置である。
ＸＹθ移動機構６２は，可動ベース２０Ｂ上に基板Ｓが載置されてい
る間，可動ベース２０Ｂの位置及び姿勢を固定するようになっている。
従って，基板Ｓは，幅方向がステージ移動機構３の幅方向に精度良く一
致し，幅方向において所定位置に位置した状態で移動方向に直線移動し
て搬送されることになる。（【００３２】）
尚，アライメントセンサ６１がアライメントマークＳ１を撮像する可
動ベース２０Ｂ上の位置に基板Ｓをラフに位置決めして配置する必要が
あるが，この配置は，ロボットで基板Ｓの搭載を行う場合，ロボットへ
のティーチングで足りる。マニュアル操作で行う場合，可動ベース２０
Ｂ上に受け板のような部材を設け，そこに基板Ｓを当てて配置すること
でラフな位置決めとすることもある。（【００３３】）
(キ)また，実施形態の装置は，二つのステージ２１，２２の位置や状態を
確認するための幾つかのセンサを備えている。この点について，図２を
使用して説明する。
まず，各ステージ２１，２２内には，基板Ｓの載置を検出するセンサ
（以下，基板センサ）７１が設けられている。また，ステージ移動機構
３には，第一のステージ２１が第一の基板搭載回収位置に位置したのを
検出するセンサ（以下，第一のロード位置センサ）７２と，第一のステ
ージ２１が前進到達位置に位置したのを検出するセンサ（以下，第一の
到達位置センサ）７３と，第二のステージ２２が第二の基板搭載回収位
置に位置したのを検出するセンサ（以下，第二のロード位置センサ）７
４と，第二のステージ２２が前進到達位置に位置したのを検出するセン
サ（以下，第二の到達位置センサ）７５とが配置されている。これらセ
ンサ７１～７５の出力は，制御ユニット４に送られる。各センサ７１～
７５は，近接センサ，リミットスイッチのような機械式センサ，又はフ
ォトセンサ等から適宜選択して用いることができる。（【００３４】）
(ク)次に，制御ユニット４に実装されたシーケンスプログラムについて図
６を参照しながら説明する。図６は，制御ユニット４に実装されたシー
ケンスプログラムを説明するための図であり，装置の動作を概略的に示
した図ともなっている。以下の説明は，光配向用偏光光照射方法の実施
形態の説明でもある。
装置の稼働開始の初期状態では，図６（１）に示すように，第一のス
テージ２１は第一の基板搭載回収位置にあり，第二のステージ２２は第
二の基板搭載回収位置にある。この状態で，図６中不図示のロボットが
基板Ｓをまず第一のステージ２１に載置する。第一のステージ２１内の
基板センサ７１が基板Ｓの載置を検出してこの信号が制御ユニット４に
送られると，シーケンスプログラムは，第一のステージ２１上の基板Ｓ
用の基板アライナー６を動作させる。この結果，可動ベース２０ＢがＸ
Ｙθ方向に移動して基板Ｓの位置及び姿勢が所定のものとなる。（【０
０３５】）
次に，シーケンスプログラムは，ステージ移動機構３に制御信号を送
り，第一のステージ２１が所定のストローク前進するよう第一の駆動源
３２１を駆動させる。所定のストロークとは，図６（２）に示すように，
第一のステージ２１が照射領域Ｒを通過して第一の前進到達位置に達す
るストロークである。第一の前進到達位置は，第一のステージ２１の後
端は照射領域Ｒの端に一致する位置か，それを少し越えた位置である。
（【００３６】）
第一のステージ２１が第一の前進到達位置に達したのが第一の到達位
置センサ７３で確認されると，シーケンスプログラムは，第一のステー
ジ２１を反転させ，同じストロークだけ後退させるよう第一の駆動源３
２１に制御信号を送る。これにより，図６（３）に示すように，第一の
ステージ２１は第一の基板搭載回収位置に戻る。この間，第二の基板搭
載回収位置では，第二のステージ２２への基板Ｓの搭載動作が行われる。
即ち，ロボットはシーケンスプログラムからの制御信号により所定のタ
イムラグをおいて基板Ｓを第二のステージ２２に載置する。第二のステ
ージ２２では，同様に基板Ｓの載置を基板センサ７１が確認した後，シ
ーケンスプログラムが第二のステージ２２上の基板Ｓ用の基板アライナ
ー６を動作させ，アライメントを行わせる。図６（３）に示すように第
一のステージ２１が第一の基板搭載回収位置に戻った際には，第二のス
テージ２２でのアライメントは終了している。（【００３７】）
この状態で，シーケンスプログラムは，第二の駆動源３２２に制御信
号を送り，第二のステージ２２が所定のストローク前進するよう第二の
駆動源３２２を駆動させる。所定のストロークとは，図６（４）に示す
ように，第二のステージ２２が照射領域Ｒを通過して第二の前進到達位
置に達するストロークである。第二の前進到達位置は，第二のステージ
２２の後端は照射領域Ｒの端に一致する位置か，それを少し越えた位置
である。（【００３８】）
第二のステージ２２が第二の前進到達位置に達したのを第二の到達位
置センサ７５で確認されると，シーケンスプログラムは，第二のステー
ジ２２を反転させ，同じストロークだけ後退させるよう第二の駆動源３
２２に制御信号を送る。これにより，図６（５）に示すように，第二の
ステージ２２は第二の基板搭載回収位置に戻る。この間，第一の基板搭
載回収位置では，第一のステージ２１が第一の基板搭載位置に位置した
のを第一のロード位置センサ７２が確認した後，第一のステージ２１か
らの基板Ｓの回収と次の基板Ｓの第一のステージ２１への搭載が行われ
る。即ち，ロボットが第一のステージ２１から基板Ｓを取り去り，次の
基板Ｓを第一のステージ２１に搭載する。（【００３９】）
そして，図６（５）に示すように第二のステージ２２が第二の基板搭
載位置に戻った際には，次の基板Ｓの第一のステージ２１への搭載動作
が終了し，且つその基板Ｓについてのアライメントが終了した状態とな
っている。シーケンスプログラムは，図６（５）に示す状態において，
再び第一の駆動源３２１に制御信号を送り，第一のステージ２１を第一
の前進到達位置まで前進させ，さらに第一の基板搭載回収位置まで戻す
よう第一の駆動源３２１を駆動する。この間，第二の基板搭載位置では，
第二のステージ２２が第二の基板搭載回収位置に戻ったのを第二のロー
ド位置センサ７４で確認した後，第二のステージ２２への基板Ｓの回収
と次の基板Ｓの第二のステージ２２への搭載，第二のステージ２２のア
ライメントが行われる。以後の動作は同様であり，装置がこのような動
作を繰り返して二つのステージ２１，２２上で交互に光配向が行われる
ようシーケンスプログラムがプログラミングされている。…（【００４
０】）
(ケ)上記のような構成及び動作に係る実施形態の光配向用偏光光照射装置
又は方法によれば，偏光光が照射される一つの照射領域Ｒを二つのステ
ージ２１，２２が交互に通過することで各ステージ２１，２２上の基板
Ｓに対して偏光光が照射されるので，一方のステージ２１，２２上の基
板Ｓへの偏光光の照射の最中に他方のステージ２１，２２において基板
Ｓの回収動作と次の基板Ｓの搭載動作を行うことができる。このため，
タクトタイムを大幅に削減することができ，より生産性の高い光配向プ
ロセスが実現される。（【００４１】）
この際，第一の基板搭載回収位置と照射領域Ｒの間には，第二のステ
ージ２２上の基板Ｓの長さ分以上のスペースＬ１が確保され，また第二
の基板搭載回収位置と照射領域Ｒとの間には，第一のステージ２１上の
基板Ｓの長さ分以上のスペースＬ２が確保されているので，ステージ２
１，２２同士が干渉することなく各基板Ｓが照射領域Ｒを通過すること
ができる。…（【００４２】）
タクトタイムについて多少厳密な議論をすると，一方のステージ２１，
２２からの基板Ｓの回収に要する時間をＴＬ１，一方のステージ２１，２
２への基板Ｓの搭載に要する時間をＴＬ２，搭載された基板Ｓのアライメ
ントに要する時間をＴＬ３とし，他方のステージ２１，２２の基板搭載回
収位置から前進到達位置までの移動に要する時間をＴＥ１，他方の前進到
達位置から基板搭載回収位置に戻るまでの時間をＴＥ２とした場合，ＴＬ
１＋ＴＬ２＋ＴＬ３≦ＴＥ１＋ＴＥ２ということになる。
但し，一方のステージ２１，２２が復路移動（前進到達位置から基板
搭載回収位置に戻る移動）に続くようにして他のステージ２１，２２の
往路移動（基板搭載位置から前進到達位置までの移動）を行うようにし
ても良く，この場合には，ＴＬ１＋ＴＬ２＋ＴＬ３≦ＴＥ１ということになる。
このようにすると，さらにタクトタイムは短くできる。（【００４３】）
上記の例は，一方のステージ２１，２２についての基板Ｓの回収及び
搭載が行われる時間帯の全部が，他方のステージ２１，２２の移動が行
われている時間帯に重なっていたが，一部が重なっていても良い。この
場合，一方，ステージ２１，２２において基板Ｓの搭載が完了していて
も他のステージ２１，２２の移動が完了していないため，待機する時間
が発生することがある。…（【００４４】）
(コ)尚，上記実施形態では，各ステージ２１，２２は，各前進到達位置に
達する際と各前進位置から基板搭載回収位置まで戻る際に偏光光が照射
され，両方の露光量が積算露光量となる。但し，これは必須要件ではな
く，例えば戻る際にはシャッタで光を遮蔽するか又は光源１１を消灯し，
偏光光が照射されない状態としても良い。…また，往路又は復路の一方
のみの偏光光照射とすると，必要な積算露光量を確保するためにステー
ジ２１，２２の移動速度を遅くせざるを得なくなる問題がある。往路と
復路とで偏光光を照射すると，このような問題はなく，移動速度を速く
して生産性をより高めることができる。（【００４５】）
また，実施形態の装置では，各ステージ２１，２２に搭載された基板
Ｓのアライメントが行われた後，照射領域Ｒの通過動作が行われるので，
照射される偏光光の偏光軸の向きが所望の向きに精度良く一致する。こ
のため，光配向処理の品質がより高くなる。
(サ)照射領域Ｒに照射される偏光光の偏光軸の向きは，偏光素子１４の姿
勢により規定される。前述したワイヤーグリッド偏光素子の場合，ワイ
ヤーグリッド（縞状の格子）が延びる方向に垂直な方向に電界成分を持
つ偏光光が多く照射されることになり，この方向に膜材は配向される。
実施形態の装置では，例えば図１に示すステージ移動機構３の幅方向（照
射ユニット１内の光源１１の長さ方向）に偏光軸が向くよう偏光素子１
４が配置される。この場合，ステージ２１，２２上の基板Ｓの幅方向も
ステージ移動機構３の幅方向に精度良く一致していれば，基板Ｓ上の膜
材も幅方向に精度良く光配向されることになる。各基板アライナー６は，
このように光配向の方向を所望の方向に精度良く一致させる意義を有す
る。（【００４６】）
尚，光配向の方向精度は，主としてθ方向のアライメントであるが，
幅方向のアライメントは，照射領域Ｒから基板Ｓが一部はみ出して搬送
されることがないようにする意義を有する。照射領域Ｒは，その領域内
では偏光光の照度が十分均一な領域として設定されるので，その領域を
はみ出すと，はみ出した部分で偏光光の照度が低下して露光量が不足す
る。従って，その部分では光配向が不十分となる。本実施形態では，幅
方向のアライメントも行われるので，このような問題はない。（【００
４７】）
(シ)また，実施形態の装置では，一対のガイド部材３１が第一第二のステ
ージ２１，２２の移動に兼用されるので，ステージ移動機構３の構成が
シンプルになり，また装置のコストも安価にできる。但し，第一第二の
各ステージ２１，２２について，それぞれ別のガイド部材でガイドする
構成としても良い。…（【００４８】）
(ス)上記実施形態において，第一のステージ２１についての基板Ｓの搭載
位置と回収位置は照射領域Ｒの一方の側に設定され，第二のステージ２
２についての基板Ｓの搭載位置と回収位置は照射領域Ｒの他方の側に設
定されている必要があるが，一方の側において搭載位置と回収位置とは
同じ位置である必要はない。他方の側についても同様である。…（【０
０４９】）
また，一つの照射領域Ｒに対して二つのステージ２１，２２が交互に
通過する必要があるが，照射ユニット１は上記のように二つである必要
はなく，一つのみの照射ユニット１が一つの照射領域Ｒに偏光光を照射
する構成でも良く，三つ以上の照射ユニット１が一つの照射領域Ｒに偏
光光を照射する構成でも良い。
尚，本願発明において，「ステージ」の用語は通常より広く解釈され
る必要がある。即ち，真空吸着のような吸着孔を有する複数のピンの上
に基板Ｓを載置してこれら複数のピン上に基板を吸着し，複数のピンを
一体に移動させることで基板Ｓが照射領域を通過するようにする場合が
ある。従って，「ステージ」は，基板を保持しながら基板を移動させる
ことができる部材であれば足り，必ずしも台状の部材に限られない。（【０
０５０】）
(3)本件訂正発明の概要
上記(2)によれば，本件訂正発明の概要は次のとおりと認められる。
ア本件訂正発明は，光配向を行う際に行われる偏光光の照射技術に関する。
（【０００１】）。
イ近年，液晶パネルをはじめとする液晶表示素子の配向膜や，視野角補償
フィルムの配向層を得る際，光照射により配向を行う光配向と呼ばれる技
術が採用されるようになってきた。（【０００２】）
ウ光配向膜は液晶パネルの大型化と共に大型化しており，要求される偏光
光の照射領域の幅も１５００ｍｍからそれ以上と幅広化してきている。こ
のような幅の広い照射領域を備える偏光光照射装置として，特許文献１に
開示された装置は，照射領域の幅に相当する長さの棒状の光源と，この光
源からの光を偏光するワイヤーグリッド偏光素子とを備え，光源の長手方
向に対して直交する方向に搬送される膜材に対して偏光光を照射する。（【０
００３】）
エ特許文献１には，長尺ワークがロール状に巻かれていて，ロールから長
尺ワークを引き出して偏光光を照射する装置が開示されている。しかし，
膜材付きの液晶基板に対して偏光光を照射する偏光光照射装置については，
効率良く（短いタクトタイムで）プロセスが可能な装置構成を開示した先
行文献は見当たらない。本件訂正発明は，このような状況に鑑みてなされ
たものであり，膜付き液晶基板のような膜材付きの板状部材に対して光配
向プロセスを行うことが可能な装置であって，高い生産性を実現できる装
置及び方法を提供することを解決課題とする。（【０００５】）
オ本件訂正発明は，上記エの課題を解決するために，本件訂正後の請求項
１～５に記載された構成を備えるものであり，照射領域を２つのステージ
が交互に通過することで各ステージ上の基板に対して偏光光が照射される
ようにすることができ，タクトタイムの削減によって生産性の高い光配向
プロセスを実現することができる。この際，第一の基板搭載位置と照射領
域の間には，第二のステージ上の基板が照射領域を通過できる分以上のス
ペースが確保され，第二の基板搭載位置と照射領域との間には，第一のス
テージ上の基板が照射領域を通過できる分以上のスペースが確保されてい
るので，ステージ同士が干渉することなく均一性の高い光配向処理を行う
ことができる（【００２３】～【００２６】，【００４１】～【００４４】），
第一第二の各ステージ上の基板が，往路と復路の双方で光照射されるので，
エネルギーの無駄無く効率良く光配向処理を行うことができる，また，移
動速度を速くすることでより生産性を高めることができる（【００４５】），
基板アライナーを備えているので，偏光光の偏光軸に対して基板が所定の
向きに向いた状態で精度良く偏光光が照射されるため，光配向処理の精度
や品質を高く維持することができる（【００２７】～【００３７】，【０
０４６】），ガイド部材が第一第二のステージの移動に兼用されるので，
ステージ移動機構の構成がシンプルになり，装置のコストも安価にできる
（【００１５】～【００１８】，【００４８】）などの効果を奏する。
２引用発明について
(1)審決が引用した本件特許出願前に頒布された刊行物である参考資料３，甲
２及び甲５には，概ね以下の記載がある。
(2)参考資料３（特開２００７－１１４６４７号公報。公開日：平成１９年５
月１０日。図１，２及び１３は別紙参考資料３図面参照。その余は省略）
ア技術分野
本発明は，液晶素子の配向膜や視野角補償フィルムの配向層などの配向
膜の光配向を行なう偏光光照射装置に関する。（【０００１】）
イ背景技術
近年，液晶パネルの配向膜や，視野角補償フィルムの配向層などの配向
処理に関し，配向膜に所定の波長の偏光光を照射することにより配向を行
なう，光配向と呼ばれる技術が採用されるようになってきている。以下，
上記光により配向を行う配向膜や配向層を設けたフィルムのことを総称し
て光配向膜と呼ぶ。
光配向膜は，液晶パネルの大型化と共に大型化しており，それと共に光
配向膜に偏光光を照射する偏光光照射装置も大型化している。
上記光配向膜において，例えば視野角補償フィルムは，帯状で長尺のワ
ークであり，配向処理後，所望の長さに切断し使用する。最近は，パネル
の大きさに合わせて大きくなり，幅１５００ｍｍ以上のものもある。
このような大型の光配向膜に対して光配向を行うために，配向膜の幅に
合せた線状の光源（棒状ランプ）を使った装置（例えば特許文献１（判決
注：特開２００４－１６３８８１号公報），特許文献２（判決注：特開２
００４－１４４８８４号公報），特許文献６（判決注：特開２００４－１
７７９０４号））や，配向膜の幅に合せて照射ヘッドを多連化した装置が
提案されている（例えば特許文献３（判決注：特開２００２－３５０８５
８号公報））（【０００２】）。
図１２に，棒状ランプを使った偏光光照射装置の構成例を示す。
高圧水銀ランプやメタルハライドランプ等の光配向を行うための波長の
光を放射する棒状ランプ２１と，ランプ２１からの光を反射する断面が楕
円形の樋状集光鏡２２を備えた光照射部２０を，ランプ２１の長手方向が，
ワーク５０上に形成された光配向膜５１の幅方向（搬送方向に対して直交
方向）になるように配置する。棒状ランプ２１の長さは，棒状ランプ２１
からの光が，光配向膜５１の全幅を照射できるように，光配向膜５１の幅
よりも広くなるものを選択する。
光照射部２０には，ワイヤーグリッド偏光素子を組み合わせた偏光素子
ユニット１０が設けられている。偏光素子ユニット１０の構造については，
後述する。…（【０００３】）
ワーク５０が光照射部の下を搬送されるとき，ワーク５０の光配向５１
に，偏光素子ユニット１０により偏光された棒状ランプ２１からの光が照
射され，光配向処理される。…
ワイヤーグリッド偏光子は，長さが幅よりもはるかに長い複数の直線状
の電気導体（例えばクロムやアルミニウム等の金属線，以下グリッドと呼
ぶ）を，石英ガラスなどの基板上に平行に配置形成したものである。電気
導体のピッチＰは，入射する光の波長以下，望ましくは１／３以下がよい。
電磁波中に上記偏光素子を挿入すると，グリッドの長手方向に平行な偏
波（偏光）成分は大部分反射され，直交する偏波（偏光）成分は通過する。
したがって，図１２に示す装置においては，光配向膜５１に対して，ワ
ーク５０の幅方向（ランプ２１の長手方向）に沿った偏光光が照射される。
…（【０００４】）
しかし，半導体製造に使われる装置は，処理することができる基板の大
きさが，現状ではφ３００ｍｍ程度までであり，１枚で大面積のワークに
対応できるような大型の偏光素子は製作できない。
そこで，発光長の長い棒状の光源，例えば長さ１５００ｍｍの棒状の高
圧水銀ランプやメタルハライドランプに応じた，大きな偏光素子が必要な
場合，前記特許文献２においてはガラス基板から切り出したワイヤーグリ
ッド偏光素子を１個の偏光子とし，この偏光子を複数，グリッドの方向を
そろえ，ランプの長手方向に沿って並べ，一つの偏光素子として使用する
ことが提案されている。
しかし，単にワイヤーグリッド偏光素子を並べだけでは（判決中：原文
のまま），個々のワイヤーグリッド偏光素子の基板である石英ガラスのエ
ッジは微小な欠けや凹凸が生じており，その隙間から，光源からの直射光，
即ち無偏光光が漏れ，消光比が悪くなる。また，上記したエッジ付近の欠
けが，グリッドの欠損を引き起こし，偏光素子の周辺部においては消光比
が悪くなる。
この間題を防ぐために，われわれは偏光素子の突き合わせ部分から無偏
光光が漏れないように偏光素子の配列方向の端部に遮光部分を設けること
を，特願２００４－３１４０５６号において提案した。（【０００５】）
図１３は上述した出願の第１の実施例の偏光素子ユニットの構成を示す
図であり，図１３（ａ）は，上記偏光素子ユニット１０を照射光の光軸方
向から見た図，図１３（ｂ）は偏光素子ユニット１０の側面図，図１３（ｃ）
は遮光板の取り付け例を示す図である。
図１３（ａ）（ｂ）に示すように，上フレーム２ａ，下フレーム２ｂか
らなるフレーム２内にガラス基板から切り出されたワイヤーグリッド偏光
素子１が複数並べて配置されている。
偏光素子１の配列方向端部（境界部分）には，遮光板３が設けられる。
遮光板３は，例えば図１３（ｃ）に示すように取り付けられる。即ち，
フレーム２を上フレーム２ａ，下フレーム２ｂから構成し，下フレーム２
ｂの上に複数のワイヤーグリッド偏光素子１を並べ，その上から遮光板と
一体となった上フレーム２ａをかぶせ固定する。
同図においては，偏光素子に形成されたワイヤーグリッドの方向は，ワ
ーク５０の搬送方向（ランプ２１の長手方向に対して直交する方向）であ
り，したがって，光配向膜５１には，ワーク５０の幅方向（ランプ２１の
長手方向に沿った方向）の偏光光が照射される。（【０００６】）
光配向膜５１に，ワーク５０の搬送方向（ランプ２１の長手方向に対し
て直交する方向）に沿った偏光光を照射したい場合は，同図において全て
のワイヤーグリッド偏光素子１を９０°回転させてフレーム２に配置し，
ワイヤーグリッドの方向が，ワーク５０の搬送方向（ランプ２１の長手方
向に対して直交する方向）になるようにすれば良い。…（【０００７】）
図１３に示すように，遮光板３を設けることにより，遮光板３を設けた
部分の照度は低下するが，並べて配置した偏光素子１の隙間から無偏光光
が漏れることはなくなるので，消光比は低下しない。ただし遮光板３の存
在により，遮光板３の直下の照度が低くなり，照度分布が悪化する。
照度分布が悪化すると，配向膜において他よりも低いエネルギーの偏光
光で照射される部分が生じる場合がある。配向膜に照射される偏光光のエ
ネルギーが低いと，その配向膜が使用された製品において，液晶の配向を
十分に行うことができない場合があり，ディスプレイとして使用される場
合は，画面のむらやコントラストの低下といった製品不良の原因となる。
遮光板がないと，照度の低下はないが，ワイヤーグリッド偏光子の周辺
部や境界部から無偏光光が透過するので，光配向膜に照射される消光比が
悪化する。
消光比が悪化すると，照度が低下した場合と同様に，その配向膜が使用
された製品において，液晶の配向を十分に行うことができない場合がある。
（【０００８】）
一方，特許文献３に示される照射ヘッドを多連化して配置した装置にお
いては，光配向膜の幅方向（搬送方向に対して直交方向）に対して，光照
射領域が途切れないように，各照射ヘッドからの光照射領域が重なり合う
ように照射している。
しかし，このような光照射領域が重なり合う部分においては，照度が二
つの照射ヘッドからの光の合算になるため，一つの照射ヘッドからの光に
より照射されている他の領域比べて（判決注：原文のまま）照度の制御が
難しい。そのため他の領域に比べて照度が高くなったり低くなったりして
照度分布が悪化する場合があり，上記と同様の問題が生じる。（【０００
９】）
ウ発明が解決しようとする課題
上述したように１枚で大面積のワークに対応できるような大型のワイヤ
グリッド偏光素子は製作できず，大面積のワークに光を照射する場合は，
複数の偏光素子を並べて使用せざるを得ない。そこで，前記したように境
界部分に遮光板を設けて消光比の低下を防いでいるが，偏光素子間に境界
部が生じ，この境界部の照度が低下し，照度分布が悪化するといった問題
が生ずる。…
そこで，例えば前記特許文献３に示すように，照射ヘッドを多連化して
複数の偏光素子を並べて使用することになるが，この場合も各照射ヘッド
に設けれられた（判決注：原文のまま）偏光素子による偏光光の間には境
界部が生じており，この部分の照度が他の領域に比べて照度が高くなった
り低くなったりして照度分布が悪化するため照射エネルギー分布が悪化す
るといった問題がある。
本発明は上記事情に鑑みなされたものであって，大型の配向膜に対して
偏光光を照射し光配向を行なう偏光光照射装置において，配向膜に対し均
一なエネルギー分布で偏光光を照射できる光配向用偏光光照射装置を提供
することを目的とする。（【００１０】）
エ課題を解決するための手段
上記課題を本発明においては，次のように解決する。
（１）連続または間歇的に直線状に搬送される光配向膜に対し，光配向膜
の搬送方向に沿って光照射部を多段に配置する。
多段に配置された各光照射部に，光配向膜の搬送方向に対して直交する
方向に伸びる線状の光源と，複数のワイヤーグリッド偏光素子を上記線状
の光源の伸びる方向に沿って並べた偏光素子ユニットを設ける。
そして，各段の光照射部の偏光素子間の境界部が，他の段の光照射部の
偏光素子の境界部と光配向膜の搬送方向に対して互い重ならないように，
各段に配置された各光照射部を，光配向膜の搬送方向に直交する方向に位
置をずらして配置する。
（２）連続または間歇的に直線状に搬送される光配向膜に対し，光配向膜
の搬送方向に沿って光照射部を多段に配置する。
上記多段に配置された各光照射部は，光配向膜の搬送方向に対して直交
する方向に多連に並べられた光照射ユニット群から構成され，各光照射ユ
ニットに，複数の光照射ユニットをガラスの放電容器内に一対の電極が対
向配置されたランプと，ランプからの光を反射する反射ミラーと，該反射
ミラーにより反射された光を偏光する偏光手段とを設け，上記ランプを上
記一対の電極を結ぶ線である管軸が上記反射ミラーの光軸と平行になるよ
うに配置する。
そして，各段の光照射部の偏光手段の境界部が，他の段の光照射部の偏
光手段の境界部と光配向膜の搬送方向に対して互いに重ならないように，
各段に配置された光照射部を，光配向膜の搬送方向に直交する方向に位置
をずらして配置する。（【００１１】）
オ発明の効果
本発明においては，光照射部を光配向膜の搬送方向に対して多段に配置
し，各段に配置された光照射部のワイヤーグリッド偏光素子あるいは偏光
手段の境界部が，他の段の光照射部の偏光素子あるいは偏光手段の境界部
と光配向膜の搬送方向に対して互いに重ならないように，各段に配置され
た光照射部を光配向膜の搬送方向に直交する方向に位置をずらして配置し
たので，光配向膜全体に均一なエネルギー分布で偏光光を照射することが
できる。
すなわち，偏光素子（手段）の境界部に対応した光配向膜上の照度は低
く（あるいは高く）なるが，各段の光照射部の偏光素子（手段）の境界部
は，光配向膜の搬送方向に直交する方向に位置をずらして配置されており，
多段の光照射部から光配向膜上に順次光を照射することにより，光配向膜
上の照度分布は積算され，結果として光配向膜全体は均一なＵＶエネルギ
ー分布で偏光光が照射されることになる。
したがって，光配向膜において，照射される偏光光のエネルギーが不足
する部分が生じるのを防ぐことができる。（【００１２】）
カ発明を実施するための最良の形態
図１に本発明の第１の実施例の偏光光照射装置の構成を示す。光照射部
２０Ａ，２０Ｂには，線状の光源である，高圧水銀ランプやメタルハライ
ドランプ等の棒状のランプ２１と，ランプ２１からの光を反射する断面が
楕円形の樋状集光鏡２２が内蔵されている。
光照射部２０Ａ，２０Ｂは，ランプ２１の長手方向が，ワーク５０上に
形成された光配向膜５１の幅方向（搬送方向に対して直交方向）になるよ
うに配置されている。
棒状ランプ２１は，その長手方向が樋状集光鏡２２の長手方向と一致す
るように，また，断面のほぼ中心部が楕円形の樋状集光鏡２２の第１焦点
位置に一致するように配置され，ワーク５０上に形成された光配向膜５１
は，樋状集光鏡２２の第２焦点位置に配置されている。
ワーク５０は例えば長尺の連続ワークであり，不図示の送り出しローラ
にロール状に巻かれており，送り出しローラから引き出されて搬送され，
光照射部２０Ａ，２０Ｂの下を通って不図示の巻き取りローラに巻き取ら
れる。
光照射部２０Ａ，２０Ｂの光出射側には，図１３に示したワイヤーグリ
ッド偏光素子ユニット１０，１０’が設けられている。前述したように，
ワイヤーグリッド偏光素子ユニット１０，１０’には，偏光素子１の配列
方向端部（境界部分）には，遮光板３が設けられている。（【００１３】）
光照射部２０Ａ，２０Ｂのランプ２１の長手方向の両側には，ブロック
２３が取り付けられ，このブロック２３を介して支柱２４が取り付けられ
ている。光配向膜５１が形成されたワーク５０は，上記２本の支柱の２４
間を搬送される。
このような偏光光を出射する光照射部２０Ａ，２０Ｂを，複数，ワーク
５０の搬送方向に沿って多段に設ける。図１は光照射部２０Ａ，２０Ｂを
２段に並べた場合を示し，以下２段の場合を例にして説明するが，３段以
上設けても良い。
ここで，各段に配置された各光照射部２０Ａ，２０Ｂは，各段の光照射
部２０Ａ，２０Ｂの偏光素子１の間の境界部（遮光板３の設けられている
部分）が，他の段の光照射部の偏光素子１の境界部と，光配向膜５１の搬
送方向に対して互い重ならないように，搬送方向に直交する方向に位置を
ずらして配置されている。
すなわち，図２に示すように，２段に設けた光照射部２０Ａと２０Ｂの
ワイヤーグリッド偏光素子ユニット１０，１０’の遮光板３が，ワークの
搬送方向に対して重ならないように（一直線状に並ばないように）ずらし
て配置される。光照射部を３段以上設ける場合も同様に，遮光板３が，ワ
ークの搬送方向に対して重ならないように（一直線状に並ばないように）
ずらして配置される。…（【００１５】）
次に図１に示した装置の動作について説明する。
ワーク５０が搬送されると，光配向膜５１は，まず，光照射部２０Ｂか
らの偏光光が照射され，次に光照射部２０Ａからの偏光光が照射される。
光照射部２０Ｂの偏光素子ユニット１０’に並べられた複数のワイヤー
グリッド偏光子１の境界には，遮光板３が設けられており，したがって，
遮光板３の直下を搬送される光配向膜５１の部分には，図２の（ａ）に示
すように照度の低い偏光光が照射される。
光照射部２０Ａの偏光素子ユニット１０に並べられた複数のワイヤーグ
リッド偏光子１の境界にも，遮光板３が設けられており，したがって，遮
光板３の直下を搬送される光配向膜５１の部分には，図２（ｂ）に示すよ
うに照度の低い偏光光が照射される。
しかし，偏光素子ユニット１０’と１０の遮光板３の位置が，ワークの
搬送方向に対して重ならないように（一直線状に並ばないように）ずらし
て配置されているので，光照射部２０Ｂによる偏光光照射において低い照
度で照射された部分は，次の光照射部２０Ａによる偏光光照射において高
い照度で照射され，また，光照射部２０Ａによる偏光光照射において低い
照度で照射される部分は，先に光照射部２０Ｂによる偏光光照射において
高い照度で照射されている。
したがって，光照射部２０Ａと２０Ｂの両方の下を通過して偏光光が照
射された光配向膜５１は，図２（ｃ）に示すように両者の照度分布が積算
され，結果として均一なエネルギー分布で偏光光が照射されることになる。
このことにより，光配向膜５１において，照射される偏光光のエネルギー
が不足する部分が生じるのを防ぐことができる。（【００１６】）
ワーク５０は，ロールに巻かれた長尺帯状のワークであってもよいし，
また，光配向膜５１が形成された例えば液晶パネルの大きさに整形された
矩形状のワークであってもよい。
ワーク５０が矩形状の場合，ワーク５０は図示しないワークステージ上
に載置され，光照射部２０Ａ，２０Ｂから偏光光を照射しながらワークス
テージを直線移動させて，光配向膜の光配向処理をする。
なお，ワーク５０の光配向膜５１に偏光光を照射し，光配向処理を行な
う際，偏光光を照射しながらワーク５０を連続的に移動させてもよいし，
ワークを間歇的に移動させながら偏光光を照射してもよい。
ワーク５０を間歇的に移動させる場合には，例えば，ワーク５０を一定
量移動させた後，ワーク５０を停止させて偏光光を照射し，ついで偏光光
の照射を停止してワークを一定量移動させた後，ワークを停止させて偏光
光を照射する動作を繰り返す。
また，一方向だけでなくワーク５０を往復移動させて，例えば光照射部
２０Ｂ→２０Ａ→２０Ａ→２０Ｂのように偏光光を照射するようにしても
良い。
さらに，ワークステージを移動させる代わりに，ワーク５０上で光照射
部２０Ａ，２０Ｂを移動させてワーク５０の光配向処理を行ってもよい。
（【００１７】）
(3)甲２（特開２００９－２９５９５０号公報。公開日：平成２１年１２月１
７日。図２，３，５，６は別紙甲２図面参照。その余は省略）
ア技術分野
本発明は，スキャン露光装置およびスキャン露光方法に関し，より詳細
には，液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等の大型のフラットパネ
ルディスプレイの基板上にマスクのマスクパターンを露光転写するのに好
適なスキャン露光装置およびスキャン露光方法に関する。（【０００１】）
イ背景技術
大型の薄形テレビ等に用いられる液晶ディスプレイやプラズマディスプ
レイ等の大型のフラットパネルディスプレイは，基板上にマスクのパター
ンを分割逐次露光方式で近接露光転写することで製造されている。この種
の分割逐次露光方法としては，例えば，パネルと同寸のマスクを用い，該
マスクをマスクステージで保持すると共に基板をワークステージで保持し
て両者を近接して対向配置する。そして，ワークステージをマスクに対し
てステップ移動させる毎にマスク側から基板にパターン露光用の光を照射
して，複数のマスクパターンを基板上に露光転写する（例えば，特許文献
１（判決注：特開２００５－１４０９３５号公報）参照。）。特許文献１
に記載の露光装置では，露光位置に対して左右両側にチャックに対してガ
ラス基板のロード／アンロードを行うロード／アンロード位置が配置され，
一方のチャック上のガラス基板で露光が行われている間に，他方のガラス
基板でロード／アンロードを行ってスループットを向上させることが提案
されている。（【０００２】）
また，他の露光方法として，マスクを細分化して，これらマスクを保持
する複数のマスク保持部を千鳥状に配置し，基板を一方向に移動させなが
ら露光を行うスキャン露光方式が知られている（例えば，特許文献２（判
決注：特開２００７－１６５８２１号公報）参照。）。この露光方式では，
基板に形成されるパターンに，ある程度繰り返される部位があることを前
提として，これをつなぎ合わせることで大きなパターンを形成できること
を利用したものである。この場合，マスクは，パネルに合わせて大きくす
る必要がなく，比較的安価なマスクを用いることができる。（【０００３】）
ウ発明が解決しようとする課題
ところで，特許文献１に記載の露光装置では，スループットの向上は図
られているものの，パネルの大型化に伴ってマスクが大型化し，製造コス
トが嵩むという問題がある。（【０００４】）
また，特許文献２に記載の露光装置は，全露光領域を隙間なくカバーで
きるように，基板の搬送方向と直交する方向に沿って千鳥状にマスク保持
部，および照射部を配置しなければならず，従って多数のマスク保持部，
および照射部が必要となる。近年のフラットパネルディスプレイの大型化
に伴い，全露光領域を隙間なくカバーするためのマスク保持部，および照
射部の数量はますます多くなり，露光装置の製造コスト上昇の一因となっ
ていた。（【０００５】）
本発明は，前述した課題に鑑みてなされたものであり，その目的は，マ
スク保持部，および照射部の数量を削減してコストダウンを図ることがで
きるとともに，スループットを向上することができるスキャン露光装置お
よびスキャン露光方法を提供することにある。（【０００６】）
エ発明の効果
本発明のスキャン露光装置及びスキャン露光方法によれば，基板を露光
領域に対して往復して搬送することで，必要となるマスク保持部および照
射部の数量を削減することができ，スキャン露光装置の製造コストを大幅
に低減することができる。また，２つの基板交換領域を２つの基板保持領
域の露光領域と反対側にそれぞれ設けて，基板の露光動作と，基板の搬出・
搬入動作とを行うタイミングを少なくともオーバーラップするようにした
ので，スループットを向上することができる。
また，本発明のスキャン露光方法によれば，第１の転写パターン形成後
に第２の転写パターンを形成する前の移動工程において，所定の方向と反
対方向（即ち，露光時の搬送方向と反対方向）への搬送と，直交方向への
移動は同時に行なわれるので，スループットを向上することができる。（【０
００８】）
オ発明を実施するための最良の形態
(ア)図２及び図３に示すように，露光機本体２は，基板Ｗを浮上させて支
持すると共に，所定の方向であるＸ方向および該所定の方向と直交する
方向であるＹ方向に搬送する基板搬送機構１４と，Ｙ方向に沿って並ん
でそれぞれ配置され，複数のマスクＭをそれぞれ保持する複数…のマス
ク保持部１１と，マスク保持部１１をそれぞれ駆動する複数のマスク駆
動部１２と，複数のマスク保持部１１の上部にそれぞれ配置されて露光
用光を照射する複数の照射部１３と，を主に備える。（【００１１】）
基板搬送機構１４は，浮上ユニット１５ａ，１５ｂと，基板ＷのＹ方
向一側…を保持してＸ方向に搬送可能，且つＹ方向に移動可能な第１及
び第２の基板駆動ユニット１６，１７とを備える。…基板Ｗは，浮上ユ
ニット１５ａ，１５ｂ上に空気流によって浮上した状態で保持され，基
板Ｗを抵抗なく搬送可能とする。（【００１２】）
第１及び第２の基板駆動ユニット１６，１７は，図２に示すように，
Ｘ方向搬送機構５０，５１と，これらＸ方向搬送機構５０，５１によっ
てＸ方向に沿って往復搬送される移動基台５２，５３と，各移動基台５
２，５３上に配設されるＹ方向搬送機構５４，５５と，これらＹ方向搬
送機構５４，５５によってＹ方向に沿って往復搬送される吸着パッド５
６，５７をそれぞれ備える。…（【００１３】）
…メインベッド２３上には，後述する露光領域Ａ，及び露光領域Ａの
上流側及び下流側にそれぞれ設けられる第１及び第２の基板保持領域Ｂ
１，Ｂ２における基板Ｗを浮上搬送するための第１の浮上ユニット１５
ａと，複数のマスク保持部１１と，複数の照射部１３と，が配置される。
また，プリアライメント台３，４を構成する各サブベッド２６ａ，２６
ｂ上には，第１及び第２の基板保持領域Ｂ１，Ｂ２に対して露光領域Ａ
と反対側にそれぞれ設けられる各第１及び第２の基板交換領域Ｃ１，Ｃ
２における基板Ｗを浮上搬送するための各第２の浮上ユニット１５ｂが
それぞれ配置される。（【００１４】）
マスク駆動部１２は，フレーム（図示せず）に取り付けられ（る。）
…マスク保持部１１は，マスク駆動部１２によってＸ，Ｙ，Ｚ，θ方向
に駆動可能である。なお，Ｘ，Ｙ，θ，Ｚ方向駆動部３１，３２，３３，
３４の配置の順序は，適宜変更可能である。（【００１５】）
図３に示すように，各マスク保持部１１の上部に配置される複数の照
射部１３は，ＹＡＧレーザーや，エキシマレーザーなどの光源４１と，
この光源４１から照射された光を集光する凹面鏡４２と，この凹面鏡４
２の焦点近傍に光路方向に移動可能な機構を有するオプチカルインテグ
レータ４３と，光路の向きを変えるための平面ミラー４５及び球面ミラ
ー４６と，この平面ミラー４５とオプチカルインテグレータ４３との間
に配置されて照射光路を開閉制御する露光制御用シャッター４４と，を
備える。（【００１７】）
マスク保持部１１に保持されるマスクＭは，露光用光ＥＬの照射によ
りマスクパターンを基板Ｗ上のフォトレジストに露光転写させるもので
あり，本実施形態のマスクＭは，２種類のマスクパターン６１，６２を
備える（図６参照）。２種類のマスクパターン６１，６２は，マスク駆
動部１２によってマスク保持部１１を移動させることにより，いずれか
一方のマスクパターン６１，６２が，照射部１３からの露光用光ＥＬの
照射領域内に配置されることで切り替えられる。即ち，露光に際しては，
２種類のマスクパターン６１，６２が切り替えられて，いずれか一方の
マスクパターン６１，６２が有効となって基板Ｗに露光転写される。（【０
０１８】）
また，Ｙ方向に並べて配置される複数のマスク保持部１１では，後述
する往路で使用される隣接するマスクパターン６１の間隔Ｇが，復路で
使用されるマスクパターン６２のＹ方向の幅と，往復動作によって重ね
合わせて露光される両側の幅とを考慮して設定されている。ただし，マ
スクパターン６１の間隔Ｇやマスクパターン６２のＹ方向の幅は，後述
する基板ＷのＹ方向への移動量をできるだけ小さくするように設定され
ている。（【００１９】）
(イ)次に，このように構成されたスキャン露光装置１の動作について，図
５のフローチャート及び図６の動作説明図を用いて説明する。なお，図
５のフローチャートにおいて，左のフローは，第１の基板交換領域Ｃ１
から搬入・搬出される基板Ｗの一連の露光動作を示し，右のフローは，
第２の基板交換領域Ｃ２から搬入・搬出される基板Ｗ´の一連の露光動
作を示しており，二点鎖線で仕切られた左右の各工程は，同じ時間内で
動作していることを示している。（【００２６】）
まず，第１の基板駆動ユニット１６が第１の基板交換領域Ｃ１に移動
した状態で（ステップＳ１ａ），基板搬送ロボット５によって第１の基
板交換領域Ｃ１に基板Ｗの搬入が行われる（ステップＳ２ａ）。そして，
…搬入された基板Ｗのプリアライメントが行われた後（ステップＳ３ａ），
基板Ｗが第１の基板駆動ユニット１６の吸着バッド５６によって吸着・
保持される（ステップＳ４ａ）。（【００２７】）
その後，第１の基板駆動ユニット１６を駆動して，浮上ユニット１５
ａ，１５ｂからの空気流によって浮上支持された状態で一定の速度でＸ
方向に搬送され，基板Ｗは，図６（ａ）に示すように，第１の基板保持
領域Ｂ１へ移動する（ステップＳ５ａ）。このとき，第２の基板駆動ユ
ニット１７は，第２の基板交換領域Ｃ２へ移動する（ステップＳ１ｂ）。
（【００２８】）
さらに，基板Ｗは，一定の速度でＸ方向に搬送され，マスクパターン
６１，６２を形成した面を下にしてマスク保持部１１に保持されるマス
クＭと近接対向する露光領域Ａ内に進入する。ここで，２種類のマスク
パターン６１，６２のうち，マスクパターン６１が照射部１３からの露
光用光ＥＬの照射領域内に配置されており，マスクパターン６１が有効
となっている。…（【００２９】）
…搬送される基板Ｗには，それぞれのマスクＭを介して照射部１３か
ら露光用光ＥＬが照射されてマスクパターン６１が露光転写される。こ
れにより，露光領域Ａを通過して第２の基板保持領域Ｂ２に位置する基
板Ｗには，Ｙ方向に所定の間隔Ｇずつ離れた複数（図３に示す実施例で
は６本）の第１の転写パターン８３が形成される（ステップＳ６ａ）。
なお，隣接する第１の転写パターン８３間の部分は未露光部である。（【０
０３１】）
次に，第１の転写パターン８３形成後，露光領域Ａを越えた基板Ｗを
保持する第２の基板保持領域Ｂ２では，図６（ｃ）に示すように，第１
の基板駆動ユニット１６のＹ方向搬送機構５４によって，基板Ｗを保持
する吸着パッド５６をマスク保持部１１に対してＹ方向に所定の距離Ｌ
だけ移動させる（ステップＳ７ａ）。具体的に，各マスクパターン６１，
６２のＹ方向における中心位置が一致している本実施形態においては，
所定の距離Ｌは，隣接するマスクＭのマスクパターン６１，６２のＹ方
向における中心間距離Ｄの略１／２である。（【００３２】）
更に，マスクパターン６２が照射部１３からの露光用光の照射領域内
に位置するように，マスク駆動部１２によってマスク保持部１１を移動
させ，有効なマスクパターンをマスクパターン６１からマスクパターン
６２に切り替える。（【００３４】）
そして，第１の基板駆動ユニット１６は，Ｘ方向搬送機構５０は基板
Ｗの搬送方向をＸ方向と逆方向に切り替えて，第２の基板保持領域Ｂ２
に保持されていた基板Ｗを，Ｘ方向と逆方向に搬送する。…そして，照
射部１３からの露光用光ＥＬを，それぞれのマスクＭを介して照射して，
第１の転写パターン８３間の未露光部にマスクパターン６２を露光転写
して第２の転写パターン８４を形成する（ステップＳ８ａ）。このとき，
第２の転写パターン８４の幅は，未露光部の幅より僅かに大きいので，
第１の転写パターン８３と第２の転写パターン８４には，重ね合わせ部
が形成されて，基板Ｗの全面にマスクパターン６１，６２が露光転写さ
れる。（【００３５】）
この一連のステップＳ６ａ～Ｓ８ａの露光動作中に，第２の基板交換
領域Ｃ２では，基板Ｗ´の搬入（ステップＳ２ｂ），基板Ｗ´のプリア
ライメント（ステップＳ３ｂ），第２の基板駆動ユニット１７の吸着バ
ッド５７による吸着・保持が行われる（ステップＳ４ｂ）。（【００３
６】）
そして，図６（ｅ）に示すように，第１の基板駆動ユニット１６によ
って保持された露光済みの基板Ｗが，第１の基板保持領域Ｂ１から第１
の基板交換領域Ｃ１へ移動する（ステップＳ１ａ）際に，同時に，第２
の基板駆動ユニット１７によって保持された未露光の基板Ｗ´が第２の
基板保持領域Ｂ２へ露光動作時の速度より速い速度で移動される（ステ
ップＳ５ｂ）。同時に，マスクパターン６１が照射部１３からの露光用
光の照射領域内に位置するように，マスク駆動部１２によってマスク保
持部１１を移動させ，有効なマスクパターンをマスクパターン６２から
マスクパターン６１に切り替える。（【００３７】）
なお，第１の交換領域Ｃ１から搬入・搬出される基板Ｗが，第１の転
写パターン８３を露光後に第２の転写パターン８４を露光する一方，第
２の交換領域Ｃ２から搬入・搬出される基板Ｗ´が，第２の転写パター
ン８４を露光した後に第１の転写パターン８３を露光する場合には，上
記マスクパターンの切換え動作を行う必要がない。（【００３８】）
そして，第１の基板交換領域Ｃ１では，露光済み基板Ｗの搬出と，未
露光基板Ｗの搬入（ステップＳ２ａ），未露光基板Ｗのプリアライメン
ト（ステップＳ３ａ），未露光基板Ｗの吸着保持が行われる。一方，こ
の間に，第２の駆動ユニット５１によって保持された基板Ｗ´も上述し
た同様の露光動作によって，往路によるスキャン露光(ステップＳ６ｂ)
によって第１の転写パターン８３が露光され，次に，第１の基板保持領
域Ｂ１に保持された基板Ｗ´に対してＹ方向への基板Ｗの移動（ステップ
Ｓ７ｂ）を行い，復路によるスキャン露光（ステップＳ８ｂ）によって
第２の転写パターン８４が露光される。その後，上記と同様の動作が繰
り返される。（【００３９】）
(ウ)以上説明したように，本実施形態のスキャン露光装置１は，基板搬送
機構１４の第１及び第２の基板駆動ユニット１６，１７は，複数のマス
クＭと基板ＷとがＹ方向に所定の距離Ｌ，即ち，隣接するマスクＭのマ
スクパターン６１，６２のＹ方向における中心間距離Ｄの略１／２だけ
移動するように構成されている。そして，基板Ｗの往路搬送時に，所定
の間隔Ｇずつ離れた第１の転写パターン８３を露光させ，基板搬送機構
１４により基板Ｗを所定の間隔Ｌだけ移動させた後，基板Ｗを復路搬送
して，往路搬送時に露光した第１の転写パターン８３間に形成された未
露光部に第２の転写パターン８４を隙間なく露光させることができる。
（【００４０】）
これにより，必要となるマスク保持部１１および照射部１３の数量が
削減され，スキャン露光装置１の製造費用が大幅に低減する。また，ス
キャン露光装置１に対する基板Ｗの搬入，搬出を，１台の搬送装置で行
うことができ，搬送装置の設置費用を削減すると共に，設置スペースの
省スペース化が可能となる。（【００４１】）
また，スキャン露光装置１は，露光領域Ａと，第１及び第２の基板保
持領域Ｂ１，Ｂ２と，第１及び第２の基板交換領域Ｃ１，Ｃ２と，を設
けて，基板搬送機構１４は，露光領域Ａ，第１及び第２の基板保持領域
Ｂ１，Ｂ２，及び第１の基板交換領域Ｃ１間で基板ＷをＸ方向に沿って
往復移動可能な第１の基板駆動ユニット１６と，露光領域Ａ，第１及び
第２の基板保持領域Ｂ１，Ｂ２，及び第２の基板交換領域Ｃ２間で基板
ＷをＸ方向に沿って往復移動可能な第２の基板駆動ユニット１７と，を
備えるようにしている。これにより，基板Ｗの露光動作，すなわち，第
１の転写パターン８３の形成工程，Ｙ方向への基板Ｗの移動工程，及び
第２の転写パターン８４の形成工程と，基板Ｗの搬出工程及び搬入工程
とを行うタイミングを少なくともオーバーラップさせて行うことができ，
スループットを向上することができる。（【００４２】）
…本実施形態においては，基板搬送機構１４は，浮上ユニット１５ａ，
１５ｂと第１及び第２基板駆動ユニット１６，１７によって基板Ｗを浮
上して保持しながら搬送する場合について述べたが，…基板Ｗを上面に
載置しながら保持及び搬送するものであってもよい。（【００７４】）
(4)甲５（特許第５１０５５６７号公報。発行日：平成２４年１２月２６日。
図１～５，１０～１２，１４及び１５は別紙甲５図面参照。その余は省略）
ア技術分野
本発明は，液晶表示板製造分野にて使用されるものであって，特に，液
晶表示装置に用いられる基板上において，液晶分子が望ましい角度と方向
に整列するよう配向膜に配向性を付与するための光配向照射装置に関する
ものである。（【０００１】）
イ背景技術
近年の液晶表示分野の利用が拡大し需要が増大するに従って，旧来の液
晶表示装置の欠点であった視野角，コントラスト比，動画性能表示などの
改善が強く求められている。特に液晶表示基板上にて，液晶分子に配向性
を付与する配向膜においては，配向方向の均一化，プレチルト角の付与，
単一画素内での複数領域の形成（マルチドメイン）など各種改善が進めら
れている。（【０００２】）
従来，液晶表示基板上に形成されたポリマー層（配向膜）に配向特性を
付与することの利点並びにそのための技術は広く知られている。このよう
な配向特性を付与する方法として布ラビング法と称される方法があるが，
この方法は，布を巻き付けたローラーを回転させつつ，基板を移動させて，
表面のポリマー層を強く一方向に擦る処理である。（【０００３】）
しかしながら，この布ラビング法では，静電気の発生，配向膜表面に生
じる傷，粉じんの発生など様々な欠点が指摘されている。この布ラビング
法の問題を回避するため，配向膜に紫外領域の偏光光を照射して配向特性
を付与する光ラビング法が知られている。（【０００４】）
ウ発明が解決しようとする課題
特許文献２（判決注：特許第４０４６４２７号公報）に開示される偏光
装置では，複数の石英基板からなる大面積偏光板を使用することで，大面
積の液晶表示素子の偏光に使用することを可能としている。しかしながら，
各石英基板から出射される偏光光が全く同じ方向に偏光した振動光を出射
するという保証はない。特に，熱を伴う強力な光源を使用する環境下にお
いては，石英基板部を保持する偏光子ホルダの熱膨張などを原因として，
石英基板の保持位置にずれが生じることとなる。また，装置内外から発生
する振動も石英基板の保持位置にずれを生じさせる。このようなずれ，特
に偏光方向を変化させるような回転ずれは，製造する液晶表示装置の画像
品質において問題となる。具体的には，一部の石英基板からの照射光の偏
光方向に回転ずれが生じた場合，その部分では表示する画像がムラとして
現れることとなる。（【０００８】）
エ発明の効果
本発明の光配向照射装置によれば，複数の単位偏光子を含んで構成され
た偏光手段を使用する際，単位偏光子から出射された紫外線の偏光方向を
単位偏光子毎に検知可能な偏光方向検知手段を設けたことで，基板に対し
て走査させる紫外線の偏光方向を事前に確認することが可能となる。また，
検知された各単位偏光子の偏光方向に基づいて，単位偏光子の取り付けを
手動，あるいは，自動で調整することで，基板に対し良好な配向特性を付
与することが可能となる。（【００２６】）
また，本明細書で開示する第２の光配向照射装置によれば，走査手段に
おける複数の走査位置において，偏光手段から出射された紫外線の偏光方
向を検知可能とする偏光方向検知手段を設けたことで，走査手段でステー
ジもしくは偏光光照射手段を移動させた際に生じる回転ずれ（軸走りと呼
ばれる現象）を事前に確認することが可能となる。また，検知された偏光
方向に基づいて走査手段の固定を手動，あるいは，自動で調整することで
回転ずれを抑え，基板に対し良好な配向特性を付与することが可能となる。
（【００２７】）
オ発明を実施するための形態
図１は，本発明の実施形態に係る光配向照射装置の構成を示す図である。
本実施形態の光配向照射装置１は，偏光光照射手段２，走査手段を主な構
成要素として有する。偏光光照射手段２は，基板９の表面に形成された配
向膜に対して紫外線のビームを照射することで，配向膜に配向特性を付与
する手段であって，本実施形態では，反射鏡２１ａ，紫外線照射光源２１
ｂを有する紫外線照射手段２１と，偏光手段３を備えて構成されている。
…（【００２９】）
図２には，本発明の実施形態に係る光配向照射装置の側断面図が，図３
には本発明の実施形態に係る光配向照射装置の上面図が示されている。走
査手段は，ステージ４を所定の移動方向（図ではＹ軸方向）に移動させる
ことで，偏光光照射手段２から照射されるビームを基板９上に走査させる
手段である。本実施形態の走査手段は，ステージ４，可動台５５，ボール
ネジ５２，ＬＭガイド５１，回転部５４を有して構成されている。可動台
５５は，回転部５４を介してステージ４と機械的に結合されている。また，
可動台５５は，ＬＭガイド５１にて走査方向に移動可能とされている。…
（【００３０】）
…可動台５５には，上面に回転部５４が設けられている。この回転部５
４は，図に示されるＸＹ平面内における回転を実行可能としており，偏光
光照射手段２にて照射される偏光光の偏光方向の調整，そして，走査手段
による各走査位置での回転ずれ（「軸走り」と呼ばれる現象）の補正など
に使用される。（【００３１】）
図５には，本発明の実施形態に係る偏光手段の構成が示されている。図
５は，偏光手段３を下方，即ち，図１～図３に示されるＺ軸の正の方向か
ら眺めた図となっている。本実施形態の偏光手段３は，隣接方向３３に沿
って隣接配置された複数の単位偏光子３１ａ～３１ｆを有して構成されて
いる。…（【００３６】）
図４には，この偏光手段３による紫外線照射の状況が模式的に示されて
いる。…本実施形態のように複数の単位偏光子３１ａ～３１ｆで構成した
場合，各単位偏光子３１ａ～３１ｆの偏光方向を一致させておかないと，
基板９を液晶表示装置として使用した際，映像ムラとして観察される。（【０
０４０】）
このような液晶表示装置における映像ムラ発生を抑制するため，各単位
偏光子３１ａ～３１ｆの偏光方向が所定の方向に向いているか，また，各
単位偏光子３１ａ～３１ｆ間の偏光方向の誤差が所定角度以内に収まって
いるかを確認する必要がある。そのため，本実施形態の光配向照射装置で
は，各単位偏光子３１ａ～３１ｆから出射された偏光紫外線の偏光方向を
検知する偏光方向検知手段を設けることとしている。（【００４１】）
この偏光方向検知手段は，１乃至複数の偏光センサー６を使用して構成
することが可能である。…（【００４２】）
…本実施形態の光配向照射装置では，偏光方向確認処理を実行すること
で，各単位偏光子３１ａ～３１ｆの偏光方向の確認を行うこととしている。
また，本実施形態の偏光方向確認処理では，確認した偏光方向に基づいて，
回転部５４を回転させ偏光方向が適正となる補正処理も行うこととしてい
る。（【００４８】）
…図１０は，本発明の実施形態に係る偏光方向確認処理を示すフロー図
である。…（【００４９】）
…この偏光方向確認処理は，ステージ４に基板９を載置する前の状態で
実行される。…（【００５０】）
本実施形態では，各単位偏光子３１ａ～３１ｆに対応した複数の偏光セ
ンサー６ａ～６ｆが設けられているため，各単位偏光子３１ａ～３１ｆの
偏光方向が同時に取得される（Ｓ１０３）。…偏光方向の異常としては，
以下に示すような場合が考えられる。（１）所定方向に対する偏光方向の
ずれ，…などである。（【００５１】）
（１）所定方向に対する偏光方向のずれ
これは，設計段階で予め基板９に対して設定されている偏光方向からの
ずれによって異常を判定する形態である。…（【００５２】）
さらに本実施形態の制御部８１は，ステージ４を回転させる回転部５４
を制御することで，偏光方向の最適化を行うことを可能としている。…修
正可能なずれである場合…には，ずれを解消するための代表角が算出され
…，回転部５４を，算出した代表角に回転させる。（【００５６】）
図１１，図１２には，本発明の実施形態に係る偏光方向確認処理におけ
る回転部５４の制御を説明する図が示されている。図１１は，偏光センサ
ー６ａ～６ｆによる各単位偏光子３１ａ～３１ｆの偏光方向検出時の様子
が示されている。図では，各偏光方向Ａ～Ｆが示されているが，ここでは
分かりやすいように偏光方向を誇張して図示している。図中，偏光方向Ａ
と偏光方向Ｆが偏光方向の角度差が最も大きい状態となっている。また，
本実施形態では，ステージ４は初期状態，すなわち，走査方向に対してほ
ぼ並行にその長辺を向けた状態とされている。（【００５７】）
本実施形態では，この最も角度差の大きい偏光方向Ａと偏光方向Ｆを用
いて代表角，すなわち，回転部５４によるステージ４の回転角を算出する
こととしている。図１２には，ステージ４を回転させたときの様子が示さ
れている。図では回転部５４によってステージ４を，図２に示す可動台５
５に対して角度θだけ回転させた様子が示されている。代表角にしたがっ
て回転されたステージ４では，全ての単位偏光子３１ａ～３１ｆの偏光方
向がずれの許容範囲に収められる。（【００５８】）
本実施形態では，回転部５４の回転を利用して偏光方向の適正化を図る
こととした…。適正な偏光方向に調整された光配向照射装置にて光配向処
理を実行することで，基板９を良好な露光状態で配向させ，液晶表示装置
として使用されたときの映像の高品質化を図ることが可能となる。（【０
０６１】）
…図１４には，本発明の他の実施形態に係る光配向照射装置の上面図が
示されている。この実施形態においては，ステージ４外に偏光センサー６
ａ～６ｆを配置している。…偏光方向確認処理では，図１５に示されるよ
うに，移動部によって，偏光光照射手段２をセンサー載置台６６上に移動
させることで，各単位偏光子３１ａ～３１ｆから出射される偏光紫外線Ｂ
を，偏光センサー６ａ～６ｆにて受光させる。（【００６２】）
…ステージ４に基板９を設置した状態であっても，偏光方向確認処理を
実行することが可能となる。…（【００６３】）
３取消事由１（参考資料３発明の認定の誤り並びに本件訂正発明との一致点及
び相違点の認定の誤り）について
(1)参考資料３発明の認定
原告は，審決が，参考資料３発明として，基板を往復移動させる構成を有
する発明と認定した点に誤りがあると主張する。
上記２(2)カにおいて認定したとおり，参考資料３の段落【００１７】には，
光配向処理の対象であるワークが，光配向膜が形成された液晶パネルの大き
さに整形された矩形状のワークであっても良く，この場合，ワークはワーク
ステージ上に載置され，直線移動させて光配向膜の光配向処理が行われると
ころ，一方向だけでなくワークを往復移動させて，例えば光照射部２０Ｂ→
２０Ａ→２０Ａ→２０Ｂのように偏光光を照射するようにしても良いと明確
に記載されているのであるから，参考資料３発明として，基板を往復移動さ
せる構成を有する上記第２の４(1)記載のとおりの参考資料３発明を認定する
ことができる。
したがって，審決における参考資料３発明の認定に誤りがあるとはいえな
い。
(2)本件訂正発明と参考資料３発明との一致点及び相違点の認定の誤りについ
て
上記(1)において認定した参考資料３発明を前提とすると，本件訂正発明と
参考資料３発明との一致点及び相違点は，上記第２の４(2)及び(3)記載のと
おりと認めるのが相当である。もっとも，本件訂正発明４は，相違点４に係
る本件訂正発明３の発明特定事項（ただし，「第二のステージに搭載された
基板の向きを前記基板アライナーにより調整した後の該」及び「第一のステ
ージに搭載された基板の向きを前記基板アライナーにより調整した後の該」
との発明特定部分を除く。）を含んでいるから，本件訂正発明４と参考資料
３発明との間には，下記の相違点が存することになるはずである。
＜相違点４´＞
相違点４から，「第二のステージに搭載された基板の向きを前記基板アラ
イナーにより調整した後の該」及び「第一のステージに搭載された基板の向
きを前記基板アライナーにより調整した後の該」との発明特定事項を除いた
点。
したがって，審決には，本件訂正発明４と参考資料３発明との相違点とし
て，相違点４´が存在する点を看過した誤りがあるというべきである。もっ
とも，後記５において説示するとおり，この誤りは審決の結論を左右するも
のではない。
(3)原告の主張について
ア原告は，参考資料３には，矩形状のワークに関し，これを往復移動させ
ることの技術的意義について開示も示唆もないし，スループットの向上を
解決課題とする場合，当業者は，スループットを悪化させることになるワ
ークを往復移動させる構成ではなく，複数個のワークを片道移動で搬送し
続ける構成を採用するから，参考資料３発明が基板を往復移動させる構成
を有するものとは認定できないと主張する。
イしかし，本件訂正発明の進歩性の検討をするために引用文献からこれと
対比する発明を認定する際，当該文献において複数の構成が開示されてい
る場合には，当該文献に記載されている構成のうち，本件訂正発明と対比
するための検討対象となる範囲内にあるものを認定すれば足りるのであっ
て，ある特定の技術的課題との関係で最良の構成を認定しなければならな
いとはいえない。
上記(1)において説示したとおり，参考資料３の段落【００１７】には，
ワークを往復移動させる構成が明確に記載されているから，原告が主張す
るように，複数個のワークを片道移動で搬送し続ける構成の方がスループ
ット向上の観点からより優れたものであったとしても，本件訂正発明と対
比するための検討対象として，ワークを往復移動させる構成を有するもの
を認定することができるというべきである。
(4)したがって，原告が主張する取消事由１は理由がない。
４取消事由２（相違点１についての判断の誤り：参考資料３発明と甲２発明の
組合せの動機付けについての認定の誤り）及び取消事由３（相違点１について
の判断の誤り：参考資料３発明と甲２発明の組合せの容易性についての判断の
誤り）について
取消事由２と取消事由３とを併せて検討する。
(1)甲２発明の認定について
上記２(3)において認定した甲２の記載によれば，上記第２の５(1)ア記載
の甲２発明を認定することができる。
(2)参考資料３発明と甲２発明との組合せの容易性について
ア参考資料３発明に甲２発明を適用する動機付けの有無
上記２(2)及び(3)において認定した参考資料３及び甲２の記載によれば，
参考資料３発明と甲２発明とは，大型の液晶パネル製造用のスキャン照射
（露光）装置である点で技術分野が共通するとともに，ステージ上に基板
を載置し，往復移動させて，当該基板に光を照射（露光）する点で構成が
共通する。
また，産業用の液晶パネル製造装置において，スループットの向上，す
なわち単位時間当たりの処理能力（乙５）を向上させることは当然の技術
課題である。
そうすると，液晶パネル製造用のスキャン照射装置である参考資料３発
明に接した当業者においては，スループットの向上を課題として認識し，
この観点から甲２発明の適用を検討する動機付けがあるといえる。
イ甲２発明から動作Ａを捨象することの可否
(ア)甲２発明の基板搬送機構は，動作Ａ，動作Ｂ及び動作Ｃ，すなわち「所
定の距離Ｌ（隣接するマスクＭのマスクパターン６１，６２のＹ方向に
おける中心間距離Ｄの略１／２）だけ移動」，「基板Ｗの往路搬送」，
「基板Ｗを復路搬送」という動作を有する。
(イ)ここで，甲２発明における上記各動作の役割について検討する。
上記２(3)において認定した甲２の記載によれば，甲２発明は，①マ
スク保持部等の数量を削減してスキャン露光装置の製造コストの低減を
図るとともに，②露光領域を挟むように２つの基板交換領域等を設け，
基板の露光動作と，基板の搬出・搬入動作とを行うタイミングを少なく
ともオーバーラップさせることで，スループットの向上を図ることを目
的とする発明である（段落【０００８】）。また，発明を実施するため
の最良の形態の欄においては，動作Ａ，動作Ｂ及び動作Ｃにより上記①
の課題を，動作Ｂ及び動作Ｃにより上記②の課題をそれぞれ解決するも
のであることが記載されている（段落【００４０】～【００４２】参照）。
そうすると，甲２に接した当業者は，甲２発明の基板搬送機構が有する
動作のうち，動作Ａは専ら上記①の課題を解決するためのものと理解す
ることができるというべきである。
そして，甲２には，段落【００４０】～【００４２】のように，課題
解決のためにどのような構成，動作を採用しているのかが課題ごとに分
けて記載されていることを考え合わせると，スループットの向上という
課題を認識して甲２に接した当業者は，甲２発明の構成中，この課題を
解決するための動作である動作Ｂ及び動作Ｃの組合せに着目して，動作
Ａを捨象し，甲２発明から甲２′発明を把握することができるというべ
きである。
ウ小括
以上によれば，参考資料３発明を念頭に置いて，スループットの向上と
いう課題を解決しようとする当業者は，甲２発明における「基板Ｗを保持
及び搬送する第１，第２のステージ及び第１，第２のステージ移動機構」
並びに基板の露光動作と基板の搬出工程及び搬入工程をオーバーラップさ
せる上記第２の５(1)イ記載の甲２′発明を適用し，相違点１に係る構成を
容易に想到できたというべきである。
(3)原告の主張について
ア技術分野及びステージ動作要件の相違について
原告は，参考資料３発明と甲２発明とは，対象とする装置が全く異なっ
ているし，ステージ動作に要求される条件さえ異なっているから，参考資
料３記載の構成の一部に甲２記載の構成の一部を組み合わせて，相違点１
に係る構成に想到することは，当業者にとって容易でないと主張する。
しかし，参考資料３発明及び甲２発明は，上記(2)アにおいて認定したと
おり，技術分野，構成及び課題において共通点を有しているのであるから，
参考資料３発明と甲２発明との間に原告が指摘するような異なる点がある
としても，当該事情は，当業者において甲２発明から参考資料３発明の課
題解決に役立つ構成を見出そうとすることの妨げになるものとはいえない。
イ技術的課題の相違について
原告は，参考資料３発明の課題は，「光配向膜全体に均一なエネルギー
分布で偏光光を照射すること」であって，往復移動を必須としていないの
に対し，甲２発明は，「マスク保持部及び照射部の数量増による露光装置
の製造コスト上昇を削減する」という課題を往復移動構成の採用により解
決しているから，往復移動を必須としている点において異なっているし，
また，仮に往復移動を含む参考資料３発明を前提としても，往復移動はス
ループットを悪化させるから，スループットの向上という課題に直面した
当業者において往復移動を必須とするスキャン露光装置の構成を採用する
動機付けはないと主張する。
しかし，上記３(1)において説示したとおり，参考資料３発明は基板を往
復移動させる構成を有するものであるから，この構成を前提として，当業
者において，スループットの向上という課題解決のために，甲２記載の発
明を適用しようとする動機付けがあるかどうかの検討をすべきである。
そして，上記２(3)において認定した甲２の段落【０００８】，【００４
２】及び【００７４】の記載によれば，甲２記載の発明は，ステージ（基
板を上面に載置する部材）を２台備える構成とし，基板への露光と基板の
搬入及び搬出とを同時に進行させることで，スループットを向上すること
ができる旨が明記されているところ，その機序及び効果は，当業者におい
て一応了解可能なものといえる。
したがって，当業者において，参考資料３発明に甲２記載の発明を適用
する動機付けがあるというべきである。
ウ阻害要因の存否について
原告は，甲２発明において動作Ａを含む一連の動作が必須とされている
ことは，スループットの向上という課題を解決しようとする当業者に対し，
参考資料３発明に甲２発明の構成を組み合わせるよりも，参考資料３に開
示されている片道移動で搬送し続ける構成とする方が良いことを示唆する
ものであるから，動作Ａの存在は，参考資料３発明と甲２発明とを組み合
わせる際の阻害要因になると主張する。
しかし，上記(2)イにおいて説示したとおり，甲２の記載から，動作Ａは
専ら製造コストの低減に資するものであって，スループットの向上は，動
作Ｂ及び動作Ｃの組合せによって実現している旨が明確に把握できるし，
上記イのとおり，その機序及び効果は，当業者において一応了解可能なも
のといえるから，甲２発明に動作Ａが含まれているとしても，この点が参
考資料３発明と甲２発明を組み合わせる際の阻害要因になるとはいえない。
エ参考資料３発明に甲２発明を組み合わせても本件訂正発明に至らないと
の主張について
(ア)原告は，甲２発明には，本件訂正発明１，２，４及び５における「続
くように」との構成が開示されていないから，参考資料３発明に甲２発
明を組み合わせても，本件訂正発明１，２，４及び５に想到することは
容易でないと主張する。
ところで，原告は，当該主張の前提として，特許請求の範囲に記載さ
れている「続くように」との文言の解釈に関連して，本件訂正発明１，
２，４及び５は，「一方のステージの復路移動の開始後，すぐに（あま
り時間を置かずに）他方のステージの往路移動が開始する」場合を許容
するもので，少なくとも復路移動中の一方のステージ上の基板への偏光
光の照射が終わった後に，他方のステージが往路移動を開始する構成を
含むものではないと主張する。
(イ)しかし，「続く」との語は「後に従う。すぐ後に来る。」という意味
を有するところ，その時間的間隔についてまで明確に規定する意味を有
するものではない。そして，上記第２の２のとおり，本件特許の特許請
求の範囲には，「前記第一のステージの前記第一の側への復路移動に続
くように前記第二のステージの前記照射ユニット方向への往路移動を行
わせ，前記第二のステージの前記第二の側への復路移動に続くように前
記第一のステージの前記照射ユニット方向への往路移動を行わせるもの
であり」と記載されているにとどまり，一方のステージが復路移動を開
始した後，どの程度の時間的間隔を空けて（又は空けないで）他方のス
テージの往路移動を開始するのかは明記されていない。
したがって，本件訂正発明１，２，４及び５が，少なくとも復路移動
中の一方のステージ上の基板への偏光光の照射が終わった後に，他方の
ステージが往路移動を開始する構成を含むものではないとの原告の主張
を採用することはできない。
(ウ)そして，原告も自認するように，甲２発明は，復路移動中の基板に対
する転写露光が終了した後に，もう一方の基板の復路移動を開始する構
成を有しているところ，この構成が本件訂正発明１，２，４及び５の「続
くように」に相当するものであることは，(イ)の検討結果に照らし明ら
かである。
そうすると，参考資料３発明に甲２発明を組み合わせると，本件訂正
発明１，２，４及び５の「続くように」に相当する構成に至ることにな
る。
以上によれば，この点についての原告の主張は，採用することはでき
ない。
オしたがって，原告の上記主張はいずれも採用することができない。
(4)小括
以上によれば，原告が主張する取消事由２及び取消事由３はいずれも理由
がなく，当業者が相違点１に係る構成を容易に想到することができたとの審
決の判断に誤りはない。
５取消事由４（相違点４についての判断の誤り：甲５発明の認定の誤り）及び
取消事由５（相違点４についての判断の誤り：参考資料３発明と甲５発明との
組合せの容易性についての判断の誤り）について
取消事由４と取消事由５とを併せて検討する。
(1)参考資料３発明と甲５発明との組合せの容易性について
まず，参考資料３発明に甲５発明を適用する動機付けの有無について検討
する。
上記２(2)及び(4)において認定したとおり，参考資料３発明と甲５発明は，
配向膜を形成しようとする基板を載置したステージを移動させて，当該基板
に偏光光を照射する光配向用偏光光照射装置である点で共通の技術分野に属
する。また，その光源である偏光光照射装置が複数の偏光子を並べた光照射
部を備えているという構成の点でも共通する。
そして，甲５発明は，複数の偏光子を並べた光照射部を備える偏光装置で
は，各偏光子から同じ偏光方向を有する偏光光が出射される保証がなく，偏
光子ホルダの熱膨張や，装置内外からの振動などにより偏光子の保持位置に
ずれが生じ得るところ，「偏光方向を変化させるような回転ずれは，製造す
る液晶表示装置の画像品質において問題となる。具体的には，一部の石英基
板からの照射光の偏光方向に回転ずれが生じた場合，その部分では表示する
画像がムラとして現れることとなる」（甲５の段落【０００８】）との課題
を解決するものである。そうすると，同様に複数の偏光素子をフレーム内に
並べて配置して構成した光照射部を備えている参考資料３発明も（参考資料
３の段落【０００６】及び図１３参照），上記と同じ課題を内在していると
いうべきである。
また，液晶パネルは，所定の配向方向が付与された２枚の配向膜で液晶分
子を挟み，これを更に偏光板で挟んで平板状の部材とし，電場の作用により
当該液晶分子の方向を適宜変化させ，偏光光を透過させたり，又は透過させ
ないこととして画像を表示させるものであるから（乙４），各配向膜に付与
された配向方向にずれが生じると，その表示性能が低下することになる。そ
して，参考資料３発明は，配向膜に偏光光を照射して配向性を付与するため
の光配向用偏光光照射装置であるから，当該配向膜が組み込まれることとな
る液晶パネルの表示性能の低下を防止するために，配向膜を形成する基板に
照射する偏光光の偏光方向と当該基板の向きとのずれをできるだけ小さくす
ることは当然の技術課題である。このことは，甲５において，「基板に対し
て走査させる紫外線の偏光方向を事前に確認することが可能となる」（【０
０２６】），「設計段階で予め基板９に対して設定されている偏光方向から
のずれによって異常を判定する形態である」（【００５２】）など，基板に
対する偏光光の偏光方向を事前に確認することの必要性を示唆する記載や，
基板に対する偏光光の偏光方向が一定の範囲を逸脱する場合には異常と判定
するとの記載によっても裏付けられているといえる。
以上によれば，参考資料３発明に接した当業者においては，上記の内在す
る課題及び当然の技術課題を参考資料３発明における課題として認識し，こ
の観点から，技術分野及び構成において共通点を有する甲５発明の適用を検
討する動機付けがあるというべきである。
(2)基板アライメントを付加することの可否
ア上記(1)のとおり，光配向用偏光光照射装置において，液晶パネルの表示
性能の低下を防止するために，照射する偏光光の偏光方向と配向膜を形成
しようとする基板の向きとのずれができるだけ生じないようにすることは
当然の技術課題である。
ところで，参考資料３発明や甲５発明のように，ステージ上に基板を載
置するという工程を有する装置においては，その際に，基板載置手段に内
在する精度や，載置する際の衝撃などの様々な理由により，載置した基板
に所望の位置からのずれが生じ得ることは自明な技術常識である。したが
って，照射する偏光光の偏光方向と基板の向きとのずれができるだけ生じ
ないようにしなければならないとの課題に直面している当業者は，このよ
うな装置の設計を検討する際，偏光光の偏光方向とステージの向きとのず
れ，及び，ステージの向きとこれに載置された基板の向きとのずれについ
ても何らかの形で把握し，これらの情報を勘案した上で，偏光光の偏光方
向と基板の向きとの調整を図る必要があることを理解しているというべき
である（なお，原告は，ロボットなどの基板載置手段の存在を指摘するが，
このような手段を採用することによって，基板をステージ上の理想の位置
に精度良く載置できるというのであれば，これはまさしく，ステージの向
きと載置された基板の向きとのずれについての情報を把握し，位置関係を
調整できていることにほかならないというべきである。）。
この点に関連して，甲５の段落【００５６】，【００５７】及び【００
６１】の記載並びに図１１及び１２によれば，甲５の制御部は，ステージ
を回転させて，ステージの長辺方向と，偏光センサーが検出した偏光方向
（代表角の向き）とを合わせているところ，ステージの向きを偏光方向に
合わせたとしても，ステージ上に載置された基板とステージの向きとの間
にずれが生じている場合には，結局のところ，偏光方向と基板の向きとの
間にずれが残るため所望の配向方向が得られず，「液晶表示装置として使
用されたときの映像の高品質化を図ることが可能となる。」という効果を
実現できないことになる。
そして，上記(1)のとおり，甲５発明においても，偏光光の偏光方向と基
板の向きとのずれをできるだけ小さくすることは技術的課題であると認識
されていたというべきであるから（段落【００２６】及び【００５２】），
甲５発明は，ステージの向きとステージ上に載置された基板の向きとの関
係が別途把握，調整できていることを前提としていると解するのが相当で
ある。
イ次に，基板に設けたアライメントマーク及びアライメントセンサを用い
た基板アライメントが周知技術であることは優に認めることができる（乙
５）。また，乙１の１～１の３の複数の文献に，ラビング方式による配向
処理（布を巻き付けたローラーを回転させつつ，基板を移動させて，表面
のポリマー層を強く一方向に擦る処理。甲５の段落【０００３】，乙４）
において，アライメントマーク及びアライメントセンサを用いてラビング
方向（配向方向）と基板の向きを調整することが示されているから，ラビ
ング方式による配向処理において，基板に設けたアライメントマーク及び
アライメントセンサを用いた基板アライメントは周知技術であると認める
のが相当である。
そして，いずれも配向膜に配向性を付与するための技術であるラビング
方式と光配向方式との間で，液晶表示装置として使用されたときの映像の
高品質化を図るために，配向方向と基板の向きとのずれを小さくし，更に
その改善を試みようとすることに違いがあるとはいえない。また，周知技
術である基板アライメントを適用するに当たり，両方式の間にその構成や
技術的困難さに大きな差異があると認めるに足りる証拠はない。さらに，
甲５の段落【０００３】及び【０００４】並びに乙４の記載からも明らか
なように，本件特許出願当時，配向処理装置の分野における当業者は，ラ
ビング方式と光配向方式のいずれについても把握，理解していたと認めら
れる。
ウそうすると，参考資料３発明における「ワークステージ」を，甲５発明
の機械的駆動部である「ステージ４」，「可動台５５」及び「回転部５４」
を備えた走査手段のような構成とし，併せて，アライメントマーク及びア
ライメントセンサを用いて設定された方向と基板の向きとの関係情報を得
るという周知技術を付加し，甲５発明の偏光方向確認処理で確認した偏光
方向とアライメントセンサで検出した基板上のアライメントマークの位置
情報とに基づいて偏光光の偏光方向に対して基板の向きを調整することは，
当業者が容易に想到できたものと認めるのが相当である。
(3)原告の主張について
ア甲５発明の走査手段と本件訂正発明３の基板アライナーとは異なるとの
主張について
(ア)原告は，甲５発明は，偏光方向の回転ずれを検出するため，単位偏光
子ごとに偏光センサーを備えている上に，アライメントの際に利用する
情報及びその取得のタイミング等についても，本件訂正発明３の基板ア
ライナーとは全く異なるものであるから，参考資料３発明に甲５発明を
適用しても本件訂正発明３発明の構成に至らないと主張する。
(イ)まず，甲５発明が偏光センサーを備える点について検討する。
上記第２の２(3)のとおり，本件訂正発明３の基板アライナーは，「搭
載された基板の向き」を「偏光光の偏光軸」に対して調整するものであ
るから，照射される偏光光の偏光方向が何らかの手段で確認できている
ことを前提としているというべきである。すなわち，本件訂正発明３は，
特許請求の範囲に記載された構成としては明示されていないものの，照
射される偏光光の偏光方向を確認するための手段を内在していると解す
るのが相当である。
これに対し，上記(2)アのとおり，甲５発明においては，ステージの向
きとステージ上に載置された基板の向きとの位置関係が別途把握，調整
できていることを前提としていると解される。そうすると，周知のアラ
イメントマーク及びアライメントセンサを用いた基板アライナーに係る
技術を考慮し，この前提に相当する工程ないし構成を包含するものとし
て，甲５発明の機械的駆動部である「ステージ４」，「可動台５５」及
び「回転部５４」を備えた走査手段について，アライメントセンサで検
出した基板上のアライメントマークの位置情報を利用し，偏光光の偏光
方向に対して基板の向きを調整する構成とすることは，何ら妨げられる
ものではない。
そして，上記の基板アライナーの構成を参考資料３発明に適用すると，
結局，本件訂正発明３の構成に至るといえる（本件訂正発明３が内在し
ていた偏光光の偏光方向を確認するための手段の存在が明示的なものと
なるにすぎない。）。
したがって，甲５発明が偏光光の偏光方向を検出する手段である偏光
センサーを備えているとしても，参考資料３発明と甲５発明とを組み合
わせることの阻害要因になるとはいえない。
(ウ)また，原告は，甲５発明の偏光センサーが，照射される偏光光の偏光
軸とステージに設置された基板の向きとの関係情報を取得するものでは
ないと主張する。
しかし，上記(2)アにおいて説示したとおり，甲５発明は，ステージの
向きとステージ上に載置された基板の向きとの関係を別途把握，調整で
きていることを前提としていると解されるから，この関係情報を勘案す
ることにより，照射される偏光光の偏光方向とステージに設置された基
板の向きとの関係についても把握することが可能なものというべきであ
る。
(エ)さらに，原告は，偏光光の偏光方向を検出するタイミングについても
相違すると主張する。
しかし，上記(2)アにおいて検討したとおり，ステージ上に基板を載置
し，ステージを移動させて偏光光を照射する装置においては，偏光光の
偏光方向とステージの向きとのずれ，及び，ステージの向きとこれに載
置された基板の向きとのずれについても何らかの形で把握し，これらの
情報を勘案した上で，偏光光の偏光方向と基板の向きとの調整をしなけ
ればならないことは，当業者が当然に理解している技術事項である。
そうすると，甲５発明の走査手段は，ステージ上の基板の向きとステ
ージの向きとの角度を調整する機能も併せ有しているものとしても良い
ところ，その場合には，事前に一度（又は一定の時間間隔を空けて）偏
光光の偏光方向を検出し，偏光方向とステージの向きとを調整した上で，
その後，基板をステージ上に載置する度に，ステージの向きと基板の向
きとの間にずれが生じた場合にはその角度調整を行うことで，偏光光の
偏光方向と基板の向きとを合わせることが可能である。
したがって，原告が主張する点は，参考資料３発明と甲５発明との組
合せを阻害する事由にはなるとはいえない。
イ課題の相違について
原告は，甲５発明は，基板を載置したステージを回転させることで，偏
光光の偏光方向の回転ずれを相殺するものであるのに対し，本件訂正発明
３は，短いタクトタイムで配向処理を可能にすることと偏光光の偏光方向
に対して基板の向きを精度良く合わせることを目的とするものであり，両
者は，解決課題が全く異なるから，その構成及び技術的思想も全く異なる
と主張する。
しかし，短いタクトタイムで配向処理を可能にすることを除けば（この
点は，甲２発明を組み合わせることにより実現可能である。），いずれの
課題も，最終的には偏光光の偏光方向と基板の向きを調整するものである
ことには変わりがない上，これを実現するために，甲５発明を参考資料３
発明，甲２´発明及び周知技術と組み合わせる動機付けがあることは上記
４(2)並びに５(1)及び(2)において説示したとおりであるから，甲５発明の
解決課題が偏光光の偏光方向の回転ずれを相殺するものであったとしても，
直ちに甲５発明を参考資料３発明，甲２´発明及び周知技術と組み合わせ
ることの妨げになるものとはいえない。
ウ周知技術との組合せについて
原告は，審決が周知技術を開示するとして引用した文献は，いずれも光
照射部の偏光方向の回転ずれとは関係がなく，また，偏光光の偏光方向を
検出する甲５発明の偏光センサーと置換できるものではないから，当該周
知技術と甲５発明とを組み合せることは困難であるし，これを組み合わせ
たとしても，本件訂正発明３の「前記アライメントセンサにより検出され
た前記アライメントマークの位置情報に基づいて，搭載された基板の向き
を，照射される偏光光の偏光軸に対して所定の向きに円周方向に調整する
基板アライナー」との構成にはなり得ないと主張する。
しかし，上記(2)イにおいて認定したとおり，ラビング方式による配向処
理において，基板上に設けられたアライメントマークをアライメントセン
サが検出し，その位置情報に基づいて，ステージ上に載置された基板の向
きを所定の向きとなるよう円周方向に調整する技術が周知であると認めら
れるところ，ラビング方式及び光配向方式は，いずれも液晶パネルに使用
される配向膜に配向性を付与するための技術であって，上記(2)イにおいて
説示したとおり，両方式の違いが当該周知技術の適用を妨げるほどのもの
とはいえない。
エスループットの低下について
原告が指摘するとおり，偏光センサーが偏光光の偏光方向を検出する構
成を有する装置においては，その検出のために一定の時間を要する。
もっとも，上記アにおいて検討したとおり，偏光方向の確認は，ステー
ジ上に基板を載置する度に行わなければならないものではなく，そのタイ
ミングや頻度は，偏光素子ホルダの熱膨張や振動等による偏光方向の時間
変化の程度や，液晶パネルに求められる表示性能，配向処理作業全体とし
ての処理能力に応じて適宜決められるべき事柄である。
したがって，偏光センサーが偏光光の偏光方向を検出する時間を要する
としても，直ちに甲５発明を参考資料３発明，甲２´発明及び周知技術と
組み合わせることの妨げになるものとはいえない。
オ照射領域と基板搭載位置との間のスペースについて
原告は，本件訂正発明３においては，基板が斜めになることも考慮し，
十分なスペースが確保されているところ，甲２及び甲５には，当該スペー
スについての開示も示唆もないから，参考資料３発明に甲２発明及び甲５
発明を組み合わせると，ステージが干渉することになると主張する。
しかし，矩形状の基板又はステージを回転させる場合には，その周囲に
当該矩形の対角線の長さに相当するだけの空間が必要であることは自明な
技術常識であるから，円周方向に回転する基板アライナーを備える偏光光
照射装置を設計しようとする当業者においても，基板及びステージが相互
に，又は周辺の部材と干渉しないよう，照射領域と基板搭載位置との間に
必要な空間を確保することは当然に検討すべき技術事項である。そして，
甲２においても，基板保持領域Ｂ１，Ｂ２及び基板交換領域Ｃ１，Ｃ２の
大きさに特段の限定は付されていないし，甲５においても同様である。
したがって，この点についての原告の主張を採用することはできない。
カ効果について
原告は，本件訂正発明３が格別の効果を奏すると主張する。
しかし，原告が主張する効果のうち，タクトタイムの削減は，参考資料
３発明に甲２発明のステージを２台備える構成を組み合わせることで実現
可能であるし，光配向処理の精度及び品質の向上は，アライメントマーク
及びアライメントセンサによる基板アライナーという周知技術によって実
現し得るから，当業者において予測できる効果を超えた格別のものである
とはいい難い。
キ以上のほか，原告は種々の主張をするが，いずれも採用することはでき
ない。
(4)小括
ア以上によれば，原告主張の取消事由４及び取消事由５はいずれも理由が
なく，当業者が相違点４に係る構成を容易に想到することができたとの審
決の判断に誤りはない。
イ本件訂正発明４における参考資料３発明との相違点の看過について
上記３(1)において説示したとおり，審決が認定した参考資料３発明の構
成によれば，本件訂正発明４と参考資料３発明との間には，相違点１及び
相違点５のほかに，上記の相違点４´が存在することになるところ，審決
はこの点を明示していない。
もっとも，相違点４´は相違点４から発明特定事項を除いたものである
ところ，上記アのとおり，当業者は，相違点４に係る構成を容易に想到す
ることができたのであるから，相違点４´に係る構成についても容易に想
到することができたと認めるのが相当である。
したがって，当業者は本件訂正発明４を参考資料３発明，甲２´発明，
甲５発明及び周知技術に基づいて容易に発明をすることができたとの審決
の判断は，結論において誤りがない。
６結論
以上によれば，審決に取り消すべき違法があると認めることはできないから，
原告の請求を棄却することとし，主文のとおり判決する。
知的財産高等裁判所第３部
裁判長裁判官
鶴岡稔彦
裁判官
高橋彩
裁判官
間明宏充
別紙本件明細書図面
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
別紙参考資料３図面
【図１】
【図２】
【図１３】
別紙甲２図面
【図２】
【図３】
【図５】【図６】
別紙甲５図面

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