戻る

平成２５年１月２８日判決言渡
平成２４年（行ケ）第１０１１１号審決取消請求事件
口頭弁論終結日平成２４年１１月２７日
判決
原告Ｘ
訴訟代理人弁護士尾関孝彰
訴訟代理人弁理士柴山健一
同阿部寛
同寺澤正太郎
同城戸博兒
被告コニカミノルタエムジー株式会社
訴訟代理人弁護士城山康文
同井上譲
訴訟代理人弁理士金山賢教
同重森一輝
主文
１特許庁が無効２０１１－８００１３０号事件について平成２４年２月１６日
にした審決を取り消す。
２訴訟費用は被告の負担とする。
事実及び理由
第１請求
主文同旨
第２事案の概要
特許庁は，被告の有する後記本件特許について，原告から無効審判請求を受け，
審判請求不成立の審決をした。本件は，原告がその取消しを求めた訴訟であり，争
点は，進歩性の有無である。
１特許庁における手続の経緯
被告は，発明の名称を「シンチレータパネル」とする特許第４７２５５３３号
（平成１９年２月２３日出願，平成２３年４月２２日設定登録，請求項の数７，以
下「本件特許」という。）の特許権者である。
原告は，平成２３年７月２０日，本件特許について無効審判を請求し（無効２０
１１－８００１３０号事件），被告は，平成２３年１０月４日，訂正請求をした。
特許庁は，平成２４年２月１６日，「平成２３年１０月４日付け訂正請求書によ
る訂正を認める。本件審判の請求は，成り立たない。」との審決をし，その謄本は
同月２４日原告に送達された。
２特許請求の範囲の記載
平成２３年１０月４日付け訂正請求書による訂正後の特許請求の範囲の記載は，
次のとおりである〔甲３２（訂正請求書）添付の「特許請求の範囲」。以下，各請
求項記載の発明を「本件発明１」のようにいい，本件発明１ないし本件発明７を併
せて「本件発明」という。また，本件特許の訂正明細書（甲３２添付の明細書）を
「本件明細書」という。〕。
「【請求項１】
基板上に反射層及びヨウ化セシウムと少なくとも１種類以上のタリウムを含む添
加剤を原材料として蒸着により形成された柱状結晶構造のシンチレータ層を有する
シンチレータパネルであって，該反射層が，該基板と該柱状結晶構造のシンチレー
タ層との間に存在し，アルミナ，酸化イットリウム，酸化ジルコニウムおよび酸化
チタンから選ばれる少なくとも一種の白色顔料及びバインダー樹脂からなり，該柱
状結晶構造のシンチレータ層は，該反射層の表面に柱状結晶体を成長させて形成し
たものであり，該シンチレータパネルは，入射された放射線のエネルギーを吸収し
てその強度に応じた電磁波を発光し，該電磁波を吸収して画像信号を出力する出力
基板とともに撮像パネルを構成し，該出力基板は，光電変換素子を備えていること
を特徴とするシンチレータパネル。
【請求項２】
前記反射層表面がカレンダー処理により平滑化されていることを特徴とする請求
項１記載のシンチレータパネル。
【請求項３】
前記白色顔料が，平均粒径０．１～３．０μｍの白色顔料であることを特徴とす
る請求項１又は２記載のシンチレータパネル。
【請求項４】
前記平均粒径０．１～３．０μｍの白色顔料が，二酸化チタンであることを特徴
とする請求項３記載のシンチレータパネル。
【請求項５】
前記基板が，厚さ５０μｍ以上５００μｍ以下の可とう性を有する高分子フィル
ムからなることを特徴とする請求項１～４のいずれか１項記載のシンチレータパネ
ル。
【請求項６】
前記高分子フィルムがポリイミド（ＰＩ）またはポリエチレンナフタレート（Ｐ
ＥＮ）フィルムであることを特徴とする請求項５記載のシンチレータパネル。
【請求項７】
前記反射層の厚さが０．２～３．０μｍであることを特徴とする請求項１～６の
いずれか１項に記載のシンチレータパネル。」
３審決の理由
審決の理由は，別紙審決書写し記載のとおりである。審決は，請求人（原告）主
張の無効理由１（主引例甲１），同２（主引例甲６）及び同３（主引例甲８）はい
ずれも理由がないとした。本件発明１と各主引例との対比に係る審決の認定は，次
のとおりである。
(1)無効理由１について
ア甲１発明（特開２００１－２５５６１０号公報に記載された発明）の内容
「フロント側の蛍光スクリーン２０ｂは，バック側の蛍光スクリーン２０ｃ，及
びその間のセンターの放射線像変換パネル２０ａとともに放射線画像形成材料２０
を形成し，
フロント側蛍光スクリーン２０ｂは順に，支持体２１ｂ，放射線吸収性蛍光体層
２２ｂ，および保護層２４ｂから構成されており，
支持体２１ｂは，ポリイミド樹脂からなる厚みが５０μｍ乃至１ｍｍのシートあ
るいはフィルムであり，
放射線吸収性蛍光体層２２ｂは，ＣｓＩ：Ｔ１の針状結晶膜である蒸着膜からな
り，
支持体２１ｂと放射線吸収性蛍光体層２２ｂとの間に，拡散反射層を設け，
拡散反射層は，二酸化チタンおよび結合剤を溶剤中に混合分散して塗布液を調整
した後，これを支持体上に塗布乾燥することにより形成する，
フロント側の蛍光スクリーン２０ｂ。」
イ本件発明１と甲１発明の一致点
「基板上に反射層及びヨウ化セシウムと少なくとも１種類以上のタリウムを含む
添加剤を原材料として蒸着により形成された柱状結晶構造のシンチレータ層を有す
るシンチレータパネルであって，
該反射層が，該基板と該柱状結晶構造のシンチレータ層との間に存在し，
酸化チタンの白色顔料及びバインダー樹脂からなり，
該シンチレータパネルは，入射された放射線のエネルギーを吸収してその強度に
応じて電磁波を発光し，撮像パネルを構成する
シンチレータパネル。」
ウ本件発明１と甲１発明の相違点
(ア)相違点１
本件発明１の柱状結晶構造のシンチレータ層は，「酸化チタンの白色顔料及びバ
インダー樹脂からな」る「反射層の表面に柱状結晶体を成長させて形成したもので
あ」るのに対し，甲１発明の「ＣｓＩ：Ｔ１の針状結晶膜である蒸着膜からな」る
「放射線吸収性蛍光体層２２ｂ」は，上記発明特定事項を備えていない点。
(イ)相違点２
本件発明１のシンチレータパネルは，「該電磁波を吸収して画像信号を出力する
出力基板とともに撮像パネルを構成し，該出力基板は光電変換素子を備えている」
のに対し，甲１発明の「フロント側の蛍光スクリーン２０ｂ」は，「放射線画像形
成材料２０」を構成するものの，上記発明特定事項を備えていない点。
(2)無効理由２について
ア甲６発明（特開平１０－９０４９８号公報に記載された発明）の内容
「支持体上に，光反射層および蛍光体層を支持体側からこの順に有する放射線増
感スクリーンにおいて，
該光反射層が樹脂中に多数の空隙を形成したものであり，空隙と樹脂との界面が
主に支持体表面とほぼ平行な面を有する平板状の空隙であり，かつ空隙が光反射層
中に５ｖｏｌ％以上８０ｖｏｌ％以下含有されていて，かつ空隙の長径の平均が１
μｍ以上３０μｍ以下であり，かつ光反射層の膜厚が３０μｍ以上であり，
蛍光体層の蛍光体は，ＣｓＩ：Ｔ１である，
放射線増感スクリーン。」
イ本件発明１と甲６発明の一致点
「基板上に反射層及びヨウ化セシウムと少なくとも１種類以上のタリウムを含む
添加剤を原材料として形成されたシンチレータ層を有するシンチレータパネルで
あって，
該反射層が，該基板とシンチレータ層との間に存在する
シンチレータパネル。」
ウ本件発明１と甲６発明の相違点
(ア)相違点３
本件発明１のシンチレータ層は，「蒸着により形成された柱状結晶構造」であり，
「アルミナ，酸化イットリウム，酸化ジルコニウムおよび酸化チタンから選ばれる
少なくとも一種の白色顔料及びバインダー樹脂からな」る「反射層の表面に柱状結
晶体を成長させて形成させたものであ」るのに対し，甲６発明の「蛍光体層の蛍光
体は，ＣｓＩ：Ｔ１である」「蛍光体層」は，上記発明特定事項を備えていない点。
(イ)相違点４
本件発明１の反射層は，「アルミナ，酸化イットリウム，酸化ジルコニウムおよ
び酸化チタンから選ばれる少なくとも一種の白色顔料及びバインダー樹脂からな」
るのに対し，甲６発明の「光反射層」は，「樹脂中に多数の空隙を形成したもので
あり」上記発明特定事項を備えていない点。
(ウ)相違点５
本件発明１のシンチレータパネルは，「該シンチレータパネルは，入射された放
射線のエネルギーを吸収してその強度に応じた電磁波を発光し，該電磁波を吸収し
て画像信号を出力する出力基板とともに撮像パネルを構成し，該出力基板は，光電
変換素子を備えている」のに対し，甲６発明の「放射線増感スクリーン」は，上記
発明特定事項を備えていない点。
(3)無効理由３について
ア甲８発明（特開２００３－２０７８６２号公報）に記載された発明）の内容
「支持体，その表面に必要に応じて設けられる下引層等の機能層及び蛍光体層と
からなり，更に，蛍光体層の表面を物理的，化学的に保護するための保護膜が設け
られている放射線画像変換パネルにおいて，
支持体は，ポリイミドフィルムが好ましく，
蛍光体層は，気相成長方式によって形成される，柱状の輝尽性蛍光体層であり，
支持体と輝尽性蛍光体層との間に，有機溶剤中に樹脂及び酸化チタンを分散して
支持体上に塗布乾燥させて設けた反射層を備えてもよい，
放射線画像変換パネル。」
イ本件発明１と甲８発明の一致点
「基板上に反射層及び蒸着により形成された柱状結晶構造のシンチレータ層を有
するシンチレータパネルであって，
該反射層が，該基板と該柱状結晶構造のシンチレータ層との間に存在し，酸化チ
タンの白色顔料及びバインダー樹脂からなる，
シンチレータパネル。」
ウ本件発明１と甲８発明の相違点
(ア)相違点６
本件発明１のシンチレータ層は，「ヨウ化セシウムと少なくとも１種類以上のタ
リウムを含有する添加剤を原材料として蒸着により形成された柱状結晶構造」であ
り，「アルミナ，酸化イットリウム，酸化ジルコニウムおよび酸化チタンから選ば
れる少なくとも一種の白色顔料及びバインダー樹脂からな」る「反射層の表面に柱
状結晶体を成長させて形成したものであ」るのに対し，甲８発明の「気相成長方式
によって形成される，柱状の輝尽性蛍光体層である」「蛍光体層」は，上記発明特
定事項を備えていない点。
(イ)相違点７
本件発明１のシンチレータパネルは，「該シンチレータパネルは，入射された放
射線のエネルギーを吸収してその強度に応じた電磁波を発光し，該電磁波を吸収し
て画像信号を出力する出力基板とともに撮像パネルを構成し，該出力基板は，光電
変換素子を備えている」のに対し，甲８発明の「放射線画像変換パネル」は，上記
発明特定事項を備えていない点。
第３審決の取消事由に係る原告の主張
審決には，本件発明１と甲１発明の相違点１の判断における理由不備（取消事由
１），本件発明１と甲１発明の相違点１の判断の誤り，本件発明１の効果の認定の
誤り（取消事由２），本件発明１と甲６発明の相違点３の判断の誤り（取消事由
３），本件発明１と甲８発明の一致点及び相違点６の認定の誤り，判断遺脱（取消
事由４），本件発明１と甲８発明の相違点６の判断の誤り（取消事由５），本件発
明２ないし７に対する無効理由１ないし３についての判断の誤り（取消事由６）が
あり，これらの誤りは審決の結論に影響を及ぼすものであるから，審決は違法であ
り取り消されるべきものである。
１本件発明１と甲１発明の相違点１の判断における理由不備（取消事由１）
(1)蒸着対象に係る認定について
審決は，本件発明１と甲１発明との相違点１について，次のとおり判断している
（審決書３１頁２行～９行）。
「蒸着により膜形成を行う場合，蒸着させる対象の表面の材質，構造により膜の
成長がうまくいくかどうかが左右されることは，当業者にとって常識的な事項であ
ることから，甲第７号証に開示された上記技術から，甲１発明における拡散反射層
上に形成するＣｓＩ：Ｔｌの針状結晶膜を，二酸化チタンおよび結合剤を溶剤中に
混合分散して塗布液を調製した後，これを支持体上に塗布乾燥することにより形成
された拡散反射層上に直接蒸着により形成することを導き出すことは，当業者に
とって容易になし得たことではない。」
しかし，審決は，何ら主張立証のないまま，「蒸着により膜形成を行う場合，蒸
着させる対象の表面の材質，構造により膜の成長がうまくいくかどうかが左右され
ることは，当業者にとって常識的な事項である」と認定し，これを上記判断の当然
の前提としており，この点において理由不備の違法がある。
仮に，「蒸着により膜形成を行う場合，蒸着させる対象の表面の材質，構造によ
り膜の成長がうまくいくかどうかが左右されることは，当業者にとって常識的な事
項」であったとしても，そのことから，何故，「甲第７号証に開示された上記技術
から，甲１発明における拡散反射層上に形成するＣｓＩ：Ｔｌの針状結晶膜を，・
・・拡散反射層上に直接蒸着により形成することを導き出すことは，当業者にとっ
て容易になし得たことではない」との結論を導き出すことができるのかについて，
審決は理由を述べておらず，この点において理由不備の違法がある。
(2)ガラス転移温度と基板温度との関係に係る認定について
ア審決は，本件発明１の効果について，次のとおり認定している（審決書３２
頁２１行～３０行）。
「バインダー樹脂のガラス転移温度が，ヨウ化セシウムと少なくとも１種類以上
のタリウムを含む添加剤を原材料として蒸着により柱状結晶構造のシンチレータ層
を形成する際の基板温度よりも低くなることは，当業者にとって本件特許出願時に
常識的事項であり，本件発明１において『バインダーとしてガラス転位温度（Ｔ
ｇ）が３０～１００℃のポリマーを反射層が含有』するという特定事項及び『基板
温度が１５０℃～２５０℃で蒸着によるシンチレータ層の形成が実施される』とい
う特定事項の限定がなくても，本件発明１は『柱状結晶構造のシンチレータ層と反
射層との接着性が向上』する効果を備えているのである。」
しかし，審決は，何ら主張立証のないまま，「バインダー樹脂のガラス転移温度
が，ヨウ化セシウムと少なくとも１種類以上のタリウムを含む添加剤を原材料とし
て蒸着により柱状結晶構造のシンチレータ層を形成する際の基板温度よりも低くな
ることは，当業者にとって本件特許出願時に常識的事項」であると認定し，これを
上記認定の当然の前提としており，この点において理由不備の違法がある。
イ後記２(2)のとおり，甲第４０号証，甲第４１号証の記載事項からみて，蛍
光体層の蒸着対象となる層の樹脂材料のガラス転移温度が，蛍光体層を形成する際
の基板温度よりも高くなる場合があることは周知である。
したがって，「バインダー樹脂のガラス転移温度が，ヨウ化セシウムと少なくと
も１種類以上のタリウムを含む添加剤を原材料として蒸着により柱状結晶構造のシ
ンチレータ層を形成する際の基板温度よりも低くなることは，当業者にとって本件
特許出願時に常識的事項である」との審決の認定は誤りである。
２本件発明１と甲１発明の相違点１の判断の誤り，本件発明１の効果の認定の
誤り（取消事由２）
(1)相違点１の判断の誤り
ア審決の判断は誤りであること
審決は，本件発明１と甲１発明との相違点１について，次のとおり判断している
（審決書３１頁２行～１５行）。
「蒸着により膜形成を行う場合，蒸着させる対象の表面の材質，構造により膜の
成長がうまくいくかどうかが左右されることは，当業者にとって常識的な事項であ
ることから，甲第７号証に開示された上記技術から，甲１発明における拡散反射層
上に形成するＣｓＩ：Ｔｌの針状結晶膜を，二酸化チタンおよび結合剤を溶剤中に
混合分散して塗布液を調製した後，これを支持体上に塗布乾燥することにより形成
された拡散反射層上に直接蒸着により形成することを導き出すことは，当業者に
とって容易になし得たことではない。また，甲１発明に甲第７号証に開示された上
記技術を適用すると，甲１発明の拡散反射層をＡｌ蒸着膜とし，Ａｌ蒸着膜の表面
に蒸着法によってＴｌドープのＣｓＩによる柱状構造のシンチレータ１６を形成す
ることになるから，本件発明１の発明特定事項である『酸化チタンの白色顔料及び
バインダー樹脂からな』る『反射層上に形成するＣｓＩ：Ｔｌの針状結晶膜を直接
蒸着により形成すること』を導き出すことは，当業者にとって容易になし得たこと
ではない。」
しかし，本件発明１の相違点１に係る発明特定事項は，甲１発明及び周知技術に
基づいて当業者が容易に想到し得た事項である。
すなわち，甲１発明のように，反射層が，基板と，蒸着により形成された蛍光体
層との間に設けられている蛍光体パネル／スクリーンが記載された文献は，甲第７
号証の他，甲第３８号証等多々存在する。そして，甲第７号証（段落【００１
３】），甲第３８号証（段落【００２８】，【００３０】～【００３３】，【００
３９】，【００６０】，【００６１】）には，その蛍光体層を反射層の表面に蒸着
により形成することが記載されている。
また，甲第８号証にも，後記４（取消事由４）で述べるとおり，「反射層が，基
板と，蒸着により形成された蛍光体層との間に設けられている放射線画像変換パネ
ルにおいて，蛍光体層を反射層の表面に蒸着により形成する」ことが記載されてい
る。
このように，甲第７号証，甲第３８号証，甲第８号証の記載事項からみて，反射
層が，基板と，蒸着により形成された蛍光体層との間に設けられている蛍光体パネ
ル／スクリーンにおいて，蛍光体層を反射層の表面に蒸着により形成することは，
周知技術であるといえる。
また，甲第３９号証（段落【００２２】～【００２４】）には，樹脂基板自体が
反射機能を有するものではあるものの，蛍光体層を樹脂基板の表面に蒸着により形
成することが記載されている。
そうすると，甲第３８号証，甲第８号証，甲第３９号証の記載事項からみて，バ
インダー樹脂を含んだ反射層，若しくは，反射機能を有する樹脂基板の表面に，蛍
光体層を蒸着により形成することも，周知技術であるといえる。
また，甲第３８号証には，「バインダー樹脂を含んだ反射層の表面に，蛍光体層
を蒸着により形成すること」が記載されているとともに，「白色顔料及びバインダ
ー樹脂からなる反射層の表面に，蛍光体層を蒸着により形成すること」が記載され
ているから，甲第３８号証は，これらの事項が周知技術であることを示す一例とし
て参酌することができる。
したがって，白色顔料及びバインダー樹脂からなる反射層が，基板と，蒸着によ
り形成された柱状結晶構造のシンチレータ層との間に設けられている甲１発明にお
いて，シンチレータ層を反射層の表面に蒸着により形成し，本件発明１の相違点１
に係る発明特定事項とすることは，上記周知技術から，当業者にとって容易である。
以上により，相違点１に係る本件発明１の発明特定事項は，甲１発明及び周知技
術に基づいて当業者が容易に想到し得た事項であるから，審決の判断は誤りである。
イ被告の主張について
被告は，相違点１の判断に対する主張の前提として，ＣＲシステムの反射層とＦ
ＰＤシステムの反射層とが異なる旨を主張しているが，この主張は失当である。
すなわち，審決は，甲１発明をフロント側の蛍光スクリーン２０ｂから認定して
いる（審決書２８頁１行～１６行）。フロント側スクリーン２０ｂは，放射性吸収
性蛍光体層２２ｂから構成されていて（段落【００３２】），放射性吸収性蛍光体
層２２ｂは，Ｘ線等の放射線を吸収して，通常は瞬時に紫外線乃至可視領域に発光
を示す蛍光体である（段落【００４２】）。
したがって，審決は，甲１発明の反射層を，被告が主張しているようなＣＲシス
テムの反射層と認定しているわけではない。
(2)本件発明１の効果の認定の誤り
ア審決は，本件発明１の効果について，次のとおり認定している（審決書３２
頁２２行～３１行）。
「バインダー樹脂のガラス転移温度が，ヨウ化セシウムと少なくとも１種類以上
のタリウムを含む添加剤を原材料として蒸着により柱状結晶構造のシンチレータ層
を形成する際の基板温度よりも低くなることは，当業者にとって本件特許出願時に
常識的事項であり，本件発明１において『バインダーとしてガラス転位温度（Ｔ
ｇ）が３０～１００℃のポリマーを反射層が含有』するという特定事項及び『基板
温度が１５０℃～２５０℃で蒸着によるシンチレータ層の形成が実施される』とい
う特定事項の限定がなくても，本件発明１は『柱状結晶構造のシンチレータ層と反
射層との接着性が向上』する効果を備えているのである。」
しかし，甲第４０号証（段落【００３０】，【００３１】，【００３６】，【０
０６０】），甲第４１号証（段落【００２８】，【００３１】，【００７０】，
【００７１】，【００９０】）には，蛍光体層の蒸着対象となる層の樹脂材料のガ
ラス転移温度が，蛍光体層を形成する際の基板温度よりも高くなる場合があること
が記載されている。
上記記載事項からみて，蛍光体層の蒸着対象となる層の樹脂材料のガラス転移温
度が，蛍光体層を形成する際の基板温度よりも高くなる場合があることは，周知で
あるといえる。
そうすると，「バインダー樹脂のガラス転移温度が，ヨウ化セシウムと少なくと
も１種類以上のタリウムを含む添加剤を原材料として蒸着により柱状結晶構造のシ
ンチレータ層を形成する際の基板温度よりも低くなることは，当業者にとって本件
特許出願時に常識的事項である」とはいえない。
したがって，「本件発明１において『バインダーとしてガラス転位温度（Ｔｇ）
が３０～１００℃のポリマーを反射層が含有』するという特定事項及び『基板温度
が１５０℃～２５０℃で蒸着によるシンチレータ層の形成が実施される』という特
定事項の限定がなくても，本件発明１は『柱状結晶構造のシンチレータ層と反射層
との接着性が向上』する効果を備えている」とはいえない。
以上により，審決の上記認定は誤りである。
イ本件明細書の段落【００３５】及び【００３８】の記載からみて，反射層が
接着層として有効に機能するのは，バインダーとしてガラス転位温度（Ｔｇ）が３
０～１００℃のポリマーを反射層が含有し，かつ，基板温度が１５０℃～２５０℃
で蒸着によるシンチレータ層の形成が実施される場合であるところ，本件発明１に
おいては，それらについて何ら特定されていない。そうである以上，柱状結晶構造
のシンチレータ層と反射層との接着性が向上するとの効果は，本件特許の特許請求
の範囲の記載に基づくものであるとはいえない。
ウ審決は，本件発明１の効果について，次のとおり認定している（審決書３３
頁１２行～２２行）。
「本件特許の明細書の段落【００３５】，【００３８】及び【００７１】には，
反射層が，基板と該柱状結晶構造のシンチレータ層との間に存在し，アルミナ，酸
化イットリウム，酸化ジルコニウムおよび酸化チタンから選ばれる少なくとも一種
の白色顔料及びバインダー樹脂からなる該反射層の表面に，柱状結晶体を成長させ
て形成した柱状結晶構造のシンチレータ層を形成したことにより，柱状結晶構造の
シンチレータ層と反射層との接着性を向上させることが明示されていることから，
本件発明１は，柱状結晶構造のシンチレータ層と反射層との接着性を向上させ，そ
れにより鮮鋭性を向上させるという効果を備えていることが明らかである。ゆえに
本件発明１は，甲第１号証ないし甲第１３号証の開示内容から当業者が予測しうる
ことはできない，格別の効果を奏するものである。」
しかし，本件明細書には，シンチレータ層と反射層との接着性が向上することに
より，鮮鋭性が向上すること（すなわち，シンチレータ層と反射層との接着性の向
上と，鮮鋭性の向上との因果関係）については，何ら記載されていない。
したがって，柱状結晶構造のシンチレータ層と反射層との接着性を向上させ，そ
れにより鮮鋭性を向上させるとの効果は，本件明細書の記載に基づくものであると
はいえない。
よって，審決の上記認定は誤りである。
エ仮に，本件発明１が，柱状結晶構造のシンチレータ層と反射層との接着性が
向上するとの効果を奏するものであるといえたとしても，当該接着性が向上すると
の効果は，甲第４２号証の記載事項（段落【００１６】，【００１８】，【００２
２】～【００２４】，【００２６】，【００８５】～【００９１】，【００９６】
～【０１００】）からみて，当業者が予測し得る効果であるといえる。
(3)小括
以上により，本件発明１の相違点１に係る発明特定事項は，その効果を考慮して
も，甲１発明及び周知技術に基づいて当業者が容易に想到し得た事項であるといえ
る。
３本件発明１と甲６発明の相違点３の判断の誤り（取消事由３）
審決は，本件発明１と甲６発明との相違点３について，次のとおり判断している
（審決書３５頁３５行～３６頁６行）。
「上記相違点３については，上記『６．（１）エ（ア）』ですでに検討した通り，
甲第１号証ないし甲第１３号証の開示内容から，当業者といえども容易に想到しう
るものではない。また，本件発明１は，上記『６．（１）エ（ウ）』で述べたよう
に，反射層が，基板と該柱状結晶構造のシンチレータ層との間に存在し，アルミナ，
酸化イットリウム，酸化ジルコニウムおよび酸化チタンから選ばれる少なくとも一
種の白色顔料及びバインダー樹脂からなる該反射層の表面に，柱状結晶体を成長さ
せて形成した柱状結晶構造のシンチレータ層を形成したことにより，柱状結晶構造
のシンチレータ層と反射層との接着性が向上し，それにより鮮鋭性を向上させると
いう効果を備えており，甲第１号証ないし甲第１３号証の開示内容から当業者が予
測しうることはできない，格別の効果を奏するものである。」
しかし，相違点３に係る本件発明１の発明特定事項は，甲６発明，甲第１号証記
載の技術及び甲第７号証記載の技術に基づいて当業者が容易に想到し得た事項であ
る。
すなわち，甲第６号証には，「第１の製造法の蛍光体層もしくは輝尽性蛍光体層
は，結合剤溶液中に蛍光体もしくは輝尽性蛍光体を均一に分散せしめた蛍光体塗料
もしくは輝尽性蛍光体塗料を光反射層を有する支持体上に塗布，乾燥することによ
り製造できる。」（段落【００４４】）との記載がある。
したがって，甲第６号証には，「ＣｓＩ：Ｔｌである蛍光体を有する蛍光体層を，
塗布等により光反射層の表面に形成する」ことが記載されているといえる。
一方，前記２で述べたとおり，反射層が，基板と，蒸着により形成された蛍光体
層との間に設けられている蛍光体パネル／スクリーンにおいて，蛍光体層を反射層
の表面に蒸着により形成することは，周知技術であるといえるし，また，バインダ
ー樹脂を含んだ反射層，若しくは，反射機能を有する樹脂基板の表面に，蛍光体層
を蒸着により形成することも，周知技術であるといえる。
そうすると，甲６発明に甲第１号証記載の技術及び甲第７号証記載の技術を適用
して，甲６発明において，反射層として，白色顔料及びバインダー樹脂からなる光
反射層を採用し，ＣｓＩ：Ｔｌである蛍光体を有する蛍光体層を，塗布等に代えて
蒸着により，その反射層の表面に形成することは，当業者にとって容易である。
また，本件発明１の効果についても，前記２で述べたとおり，本件発明１は，鮮
鋭性が向上するとの効果はもちろん，柱状結晶構造のシンチレータ層と反射層との
接着性が向上するとの効果を奏するものであるとはいえず，仮に当該接着性が向上
するとの効果を奏するものであるといえたとしても，当該接着性が向上するとの効
果は，当業者が予測し得る効果である。
以上により，審決の上記判断は，誤りである。
４本件発明１と甲８発明の一致点及び相違点６の認定の誤り，判断遺脱（取消
事由４）
(1)甲第８号証記載の発明の認定の誤り
審決は，甲第８号証記載の発明を次のとおり認定している（審決書３９頁２行～
１０行）。
「支持体，その表面に必要に応じて設けられる下引層等の機能層及び蛍光体層と
からなり，更に，蛍光体層の表面を物理的，化学的に保護するための保護膜が設け
られている放射線画像変換パネルにおいて，
支持体は，ポリイミドフィルムが好ましく，
蛍光体層は，気相成長方式によって形成される，柱状の輝尽性蛍光体層であり，
支持体と輝尽性蛍光体層との間に，有機溶剤中に樹脂及び酸化チタンを分散して
支持体上に塗布乾燥させて設けた反射層を備えてもよい，
放射線画像変換パネル。」
しかし，甲第８号証の段落【００９９】には，支持体の表面に，蛍光体層を，細
長い柱状結晶を成長させて形成することが記載されており，段落【０１１７】には，
支持体と蛍光体層との間に反射層を設けてもよいことが記載されている。また，段
落【０１７１】，【０１７２】には，支持体の表面に形成した光反射層の表面に，
蛍光体層を，蒸着により形成することが記載されている。
そうすると，上記記載に接した当業者は，放射線画像変換パネルを，支持体と蛍
光体層との間に反射層を備えた構造とする場合は，反射層の表面に，蛍光体層を，
細長い柱状結晶を成長させて形成するものと理解するのが自然である。
したがって，甲第８号証には，「気相成長方式によって形成される，柱状の輝尽
性蛍光体層である蛍光体層を，反射層の表面に蒸着により形成する」との事項が記
載されていることは明らかであるから，審決は，甲第８号証記載の発明の認定にお
いて，「気相成長方式によって形成される，柱状の輝尽性蛍光体層である蛍光体層
を，反射層の表面に蒸着により形成する」との事項を看過していることになる。
よって，審決の上記認定は誤りである。
(2)本件発明１と甲第８号証記載の発明の一致点の認定の誤り
審決は，本件発明１と甲第８号証記載の発明との一致点を次のとおり認定してい
る（審決書３９頁２８行～３３行）。
「基板上に反射層及び蒸着により形成された柱状結晶構造のシンチレータ層を有
するシンチレータパネルであって，
該反射層が，該基板と該柱状結晶構造のシンチレータ層との間に存在し，酸化チ
タンの白色顔料及びバインダー樹脂からなる，
シンチレータパネル。」
しかし，上記(1)のとおり，甲第８号証記載の発明は，「気相成長方式によって
形成される，柱状の輝尽性蛍光体層である蛍光体層を，反射層の表面に蒸着により
形成する」との事項を有するから，「シンチレータ層は，反射層の表面に蒸着によ
り形成したものである点」は，本件発明１と甲第８号証記載の発明との一致点であ
るといえる。
そうすると，審決は，本件発明１と甲第８号証記載の発明との一致点の認定にお
いて，「シンチレータ層は，反射層の表面に蒸着により形成したものである点」を
看過していることになる。
よって，審決の上記認定は誤りである。
(3)本件発明１と甲第８号証記載の発明の相違点６の認定の誤り
審決は，本件発明１と甲第８号証記載の発明との相違点６を次のとおり認定して
いる（審決書３９頁３５行～４０頁３行）。
「本件発明１のシンチレータ層は，『ヨウ化セシウムと少なくとも１種類以上の
タリウムを含む添加剤を原材料として蒸着により形成された柱状結晶構造』であり，
『アルミナ，酸化イットリウム，酸化ジルコニウムおよび酸化チタンから選ばれる
少なくとも一種の白色顔料及びバインダー樹脂からな』る『反射層の表面に柱状結
晶体を成長させて形成したものであ』るのに対し，甲８発明の『気相成長方式に
よって形成される，柱状の輝尽性蛍光体層である』『蛍光体層』は，上記発明特定
事項を備えていない点。」
しかし，上記(2)のとおり，「シンチレータ層は，反射層の表面に蒸着により形
成したものである点」は，本件発明１と甲第８号証記載の発明との一致点であると
いえるから，本件発明１と甲第８号証記載の発明との相違点６は，「本件発明１の
シンチレータ層は，ヨウ化セシウムと少なくとも１種類以上のタリウムを含む添加
剤を原材料として蒸着により形成された柱状結晶構造であるのに対し，甲第８号証
記載の蛍光体層は，気相成長方式によって形成される柱状の輝尽性蛍光体層である
点」であるといえる。
よって，審決の上記認定は誤りである。
(4)相違点６の判断の遺脱
審決は，本件発明１と甲第８号証記載の発明との相違点６（「本件発明１のシン
チレータ層は，ヨウ化セシウムと少なくとも１種類以上のタリウムを含む添加剤を
原材料として蒸着により形成された柱状結晶構造であるのに対し，甲第８号証記載
の蛍光体層は，気相成長方式によって形成される柱状の輝尽性蛍光体層である
点」）について，何ら判断していない。
よって，審決には，この点において，判断遺脱の違法がある。
５本件発明１と甲８発明の相違点６の判断の誤り（取消事由５）
審決は，本件発明１と甲８発明（審決が認定した甲第８号証記載の発明）との相
違点６を前記４(3)のとおり認定した上で，当該相違点６について，次のとおり判
断している（審決書４０頁１３行～２３行）。
「上記相違点６については，上記『６．（１）エ（ア）』ですでに検討した通り，
甲第１号証ないし甲第１３号証の開示内容から，当業者といえども容易に想到しう
るものではない。また，本件発明１は，上記『６．（１）エ（ウ）』で述べたよう
に，反射層が，基板と該柱状結晶構造のシンチレータ層との間に存在し，アルミナ，
酸化イットリウム，酸化ジルコニウムおよび酸化チタンから選ばれる少なくとも一
種の白色顔料及びバインダー樹脂からなる該反射層の表面に，柱状結晶体を成長さ
せて形成した柱状結晶構造のシンチレータ層を形成したことにより，柱状結晶構造
のシンチレータ層と反射層との接着性が向上し，それにより鮮鋭性を向上させると
いう効果を備えており，甲第１号証ないし甲第１３号証の開示内容から当業者が予
測しうることはできない，格別の効果を奏するものである。」
しかし，前記２で述べたとおり，反射層が，基板と，蒸着により形成された蛍光
体層との間に設けられている蛍光体パネル／スクリーンにおいて，蛍光体層を反射
層の表面に蒸着により形成することは，周知技術であるといえるし，また，バイン
ダー樹脂を含んだ反射層，若しくは，反射機能を有する樹脂基板の表面に，蛍光体
層を蒸着により形成することも，周知技術であるといえるから，甲８発明において，
気相成長方式によって形成される蛍光体層を，白色顔料及びバインダー樹脂からな
る反射層の表面に蒸着により形成することは，上記周知技術から，当業者にとって
容易である。
また，本件発明１の効果についても，前記２で述べたとおり，本件発明１は，鮮
鋭性が向上するとの効果はもちろん，柱状結晶構造のシンチレータ層と反射層との
接着性が向上するとの効果を奏するものであるとはいえず，仮に当該接着性が向上
するとの効果を奏するものであるといえたとしても，当該接着性が向上するとの効
果は，当業者が予測し得る効果である。
以上により，審決の上記判断は誤りである。
６本件発明２ないし７に対する無効理由１ないし３についての判断の誤り（取
消事由６）
審決は，本件発明２ないし本件発明７に対する無効理由１ないし３について，次
のとおり判断している（審決書４０頁３１行～３６行）。
「本件発明２ないし本件発明７は，本件発明１を引用してさらに限定する発明で
あるから，上記『６．（１）～（３）』と同様に，本件発明２ないし本件発明７は，
甲１発明と甲第１号証ないし甲第１３号証に開示された事項から，または甲６発明
と甲第１号証ないし甲第１３号証に開示された事項から，または甲８発明と甲第１
号証ないし甲第１３号証に開示された事項から，当業者が容易に導き出しうる発明
であるとはいえない。」
しかし，前記１～５で述べたのと同様の理由により，審決の上記判断は誤りであ
る。
第４被告の反論
１取消事由１（本件発明１と甲１発明の相違点１の判断における理由不備）に
対し
(1)蒸着対象に係る認定について
ア審決が当業者の技術常識や技術水準等，当業者にとって顕著な事実について
判断する場合には，その判断の根拠を証拠による認定事実に基づき審決書に理由と
して具体的に明示することは必要ではない（最高裁昭和５９年３月１３日第三小法
廷判決・裁判集民事１４１号３３９頁参照）。本件の「蒸着により膜形成を行う場
合，蒸着させる対象の表面の材質，構造により膜の成長がうまくいくかどうかが左
右されることは，当業者にとって常識的な事項である」との事実は，当業者にとっ
て常識的な事項であり，これらの者にとって顕著である。したがって，上記の事実
については，認定の理由を具体的に明示することは必要ではない。
上記の事実は，蒸着による柱状結晶構造により鮮鋭性の向上という効果が生ずる
か否かの点の前提となる事実であり，原告は，審判段階において，蒸着による柱状
結晶構造により鮮鋭性の向上という効果が生ずるということについては争っていた
が，上記の事実については争っていなかった。原告が，本件において，新たに上記
の事項について証拠による認定がない旨を主張することは，信義則に反し，許され
るべきではない。
「蒸着により膜形成を行なう場合，蒸着させる対象の表面の材質，構造により膜
の成長がうまくいくかどうかが左右されること」が当業者にとって常識的な事項で
あることは，乙第１号証（５３頁最下行～５４頁１行，５５頁７行，６２頁９行～
６３頁４行），乙第２号証（段落【０００７】，【０００８】）及び甲第１７号証
（段落【００１４】）の記載内容から明らかである。
イまた，甲第７号証には，ガラス基板上に反射膜としてのＡｌ膜を蒸着し，Ａ
ｌ膜上にＴｌドープのＣｓＩを蒸着法によって成長させたシンチレータを形成する
ことが記載されている（審決書３０頁２５～３７行）。一方，審決では，甲１発明
における蛍光体層，拡散反射層について，「放射線吸収性蛍光体層２２ｂは，Ｃｓ
Ｉ：Ｔｌの針状結晶膜である蒸着膜からなり，支持体２１ｂと放射線吸収性蛍光体
層２２ｂとの間に，拡散反射層を設け，拡散反射層は，二酸化チタンおよび結合剤
を溶剤中に混合分散して塗布液を調製した後，これを支持体上に塗布乾燥すること
により形成する」と認定されている（審決書２８頁１０～１５行）。
ここで，甲第７号証と甲１発明とでは，蛍光体層を形成させる対象である反射層
の材質が，一方はＡｌであるのに対し，他方は二酸化チタンおよび結合剤と，各々
相違する。また，甲第７号証では蒸着によりＡｌ膜が形成され，甲１発明では，二
酸化チタンおよび結合剤を溶剤中に混合分散した塗布液を支持体上に塗布乾燥して
形成しており，両者において材料及び製造工程が全く異なるので，甲第７号証と甲
１発明とでは，反射層の表面の構造も異なる。
そうすると，上記技術常識を参酌すると，甲第７号証において蒸着により形成し
たＡｌ膜上にＴｌドープのＣｓＩを蒸着法によってシンチレータを形成させること
が記載されていても，蒸着させる対象である拡散反射層の表面の材質，構造が甲第
７号証と異なる甲１発明において，甲第７号証と同様に，拡散反射層上に直接蒸着
により形成することを導き出すことは，当業者にとって容易になし得たことではな
いとの結論に達することができる。
審決が上記の理由で上記結論に至ったことは，審決書の記載から明らかであり，
審決が理由を述べていないとする原告の主張は失当である。
(2)ガラス転移温度と基板温度との関係に係る認定について
ア原告は，本件発明１の効果について，審決は，「バインダー樹脂のガラス転
移温度が，ヨウ化セシウムと少なくとも１種類以上のタリウムを含む添加剤を原材
料として蒸着により柱状結晶構造のシンチレータ層を形成する際の基板温度よりも
低くなることは，当業者にとって本件特許出願時に常識的事項」であるとの認定事
項について何ら主張，立証がないまま前提としており，この点において審決には理
由不備の違法があると主張する。しかし，上記認定事項については，被告が無効審
判の口頭審理陳述要領書（甲３６・８頁１１行～９頁１７行）において，公知文献
（甲１９～２２）を提示して十分に主張立証した事項である。
イそもそも，バインダー樹脂それ自体が，金属に比して根付きが良く，本件特
許発明におけるシンチレータ層の蒸着時における根付きが向上し，柱状結晶がきれ
いに成長するという効果は，「樹脂という材料」の性質に起因してもたらされるも
のである。そして，本件明細書の段落【００３８】においても，反射層に含まれる
バインダー樹脂のガラス転移温度については，好ましい温度の範囲として３０～１
００℃が示されているにすぎず，上記効果を奏する上で必須であるとは記載されて
いない。また，同段落【００７１】においても，ガラス転移温度が３０～１００℃
の範囲外の樹脂が，好ましい例として挙げられている。
ウ甲第４０号証については，「耐熱性樹脂は，Ｔｇが１８０℃以上であること
が好ましく」（段落【００３１】）との記載があるが，特許請求の範囲の記載には
ガラス転移温度に関する限定はなく，発明の課題も輝尽性蛍光体層と熱膨張率の近
い樹脂を使用して，ひび割れを防止することにある（段落【００２３】）。また，
甲第４０号証の耐熱性樹脂層は，顔料を含まない樹脂のみの層であり，バインダー
樹脂のガラス転移温度は通常１５０℃以下であること，及び支持体の温度は「５０
℃～４００℃に設定することが好ましく」（段落【００６４】）との記載があるこ
とからすれば，「Ｔｇが１８０℃以上であることが好ましく」（段落【００３
１】）との記載は，支持体の温度が３００～４００℃と高温になった場合の耐熱性
や高い剛性が求められる特殊な事例を考慮して記載されていると解するのが妥当で
ある。よって，実施例等で具体的に支持体の温度とバインダー樹脂のガラス転移温
度が示されていない以上，バインダー樹脂のガラス転移温度が基板温度よりも高く
なることが記載されているとは認められない。
また，甲第４１号証については，段落【００２８】及び【００８６】の記載から，
樹脂のガラス転移温度の温度範囲（８０～３５０℃）に対し支持体の温度範囲（１
５０～４００℃）は５０～７０℃高めに設定していると認められる。よって，実施
例等で具体的に支持体の温度とバインダー樹脂のガラス転移温度が示されていない
以上，バインダー樹脂のガラス転移温度が基板温度よりも高くなることが記載され
ているとは認められない。また，このことは，甲第４１号証の実施例において実際
に用いられている基板温度は約３５０℃であり（段落【０１３０】），この場合に
は，段落【００２８】の温度範囲はむしろ当該基板温度より低くなることからも示
唆される。
さらに，甲第４０号証においては，ガラス転移温度が高い樹脂の記載があるもの
の，比較されている一般的な樹脂はいずれもガラス転移温度が１５０℃以下のもの
であり，本件明細書に記載の樹脂材料のガラス転移温度は一般的なものである。
２取消事由２（本件発明１と甲１発明の相違点１の判断の誤り，本件発明１の
効果の認定の誤り）に対し
(1)相違点１の判断の誤りをいう点について
ア原告は，本件発明１の相違点１に係る発明特定事項は，甲１発明及び周知技
術に基づいて当業者が容易に想到し得た事項であると主張し，上記周知技術の認定
に当たり，甲第３８号証，同第３９号証，同第７号証及び同第８号証の記載事項を
引用している。しかし，原告引用の証拠から原告主張の周知技術を認定することは
できない。以下，甲１発明の特徴について説明した上で，上記各証拠について述べ
る。
イ甲１発明について
甲第１号証等に記載されているコンピューテッドラジオグラフィ（以下「ＣＲシ
ステム」という。）は，本件発明１の前提となっているフラットパネル型の放射線
ディテクタ（以下「ＦＰＤシステム」という。）と異なるものである。
すなわち，本件特許出願当時，デジタル方式の放射線画像検出装置として，ＣＲ
システムとＦＰＤシステムの２つの技術が知られていた。ＣＲシステムとＦＰＤシ
ステムとでは，蛍光体（シンチレータ）パネルの構成において蛍光体が相違するの
はもちろん，両システムの動作原理の違いにより，反射層の機能及び要求特性は大
きく相違する。特に，ＣＲシステムでは，６００ｎｍ～７００ｎｍ（赤色波長に対
応する）での反射が制限されているのに対して，ＦＰＤシステムでは，波長による
反射の制御は必要とされず，３００ｎｍから８００ｎｍの電磁波であるシンチレー
タの発光光を反射することが要求されるから，赤色波長の反射を制限するＣＲシス
テムの反射層を，ＦＰＤシステムの反射層にそのまま転用することは適切でなく，
このことは当業者であれば認識されている事項である。
本件発明は，ＦＰＤシステムがその前提となっているものである。これに対し，
甲１発明は，ＣＲシステムに関するものである（甲１・段落【０００１】）。そし
て，甲第１号証の段落【００１２】，【００７７】と図１０，【０１３７】と図１
９の（２）の記載からすると，甲第１号証の図１０で示されている「選択的反射層
１３」は，その機能及びパネル内での層の配置から，一般のＣＲシステムにおける
反射層に該当するから，甲第１号証に記載の放射線画像形成材料は，ＣＲシステム
における反射層をも有するものである。
ウ甲第３８号証について
(ア)原告は，甲第３８号証には，「白色顔料（塩基性炭酸鉛（鉛白））及びバ
インダー樹脂からなる反射層の表面に，蛍光体層を蒸着により形成すること」が記
載されているから，甲第３８号証は，これが周知技術であることを示す一例として
参酌することができると主張している。しかし，以下のとおり，甲第３８号証には，
「白色顔料（塩基性炭酸鉛（鉛白））を含む反射層」は記載されていない。よって，
原告の主張は失当である。
(イ)まず，炭酸鉛（ｌｅａｄｃａｒｂｏｎａｔｅ）と塩基性炭酸鉛（鉛白）
（ｂａｓｉｃｌｅａｄｃａｒｂｏｎａｔｅ）とは，名称が類似しているが全く
異なる化合物（乙第１０号証，乙第１１号証）であって，当該技術分野において用
いられる「白色顔料」に該当するものは後者の塩基性炭酸鉛（鉛白）であるところ，
甲第３８号証には，炭酸鉛は記載されているものの，塩基性炭酸鉛（鉛白）は一切
記載されていない（段落【００４２】）。すなわち，甲第３８号証に，「白色顔料
（塩基性炭酸鉛（鉛白））」を含む反射層の記載はない。
次に，炭酸鉛は，１気圧（７６０ｍｍＨｇ）では３１５℃で，０．０１５気圧
（１２ｍｍＨｇ）では１８４℃で熱分解して酸化鉛と二酸化炭素になる（乙第１０
号証，乙第１１号証）ところ，ＣｓＩ蒸着は０．０００００１気圧程度の減圧下で
行うため，当該環境下での炭酸鉛の熱分解温度は，１８４℃よりもさらに低温にな
ると考えられ，基板の加熱温度でも容易に分解すると考えられる。融解したＣｓＩ
の蒸気流が直接あたる部分では，蒸着過程で熱分解する可能性がある。よって，炭
酸鉛の上に蛍光体層を蒸着により形成しようとすると，熱分解により酸化鉛に変化
し変色してしまう。他方，仮に塩基性炭酸鉛（鉛白）について検討するとしても，
塩基性炭酸鉛（鉛白）は加熱により１５５℃で水を失い，２００℃で二酸化炭素を
失って酸化鉛（黄色）に変化してしまう(乙第１１号証，塩基性炭酸鉛（鉛白）の
熱変色温度は１５０℃，熱分解温度は４００℃である（乙第１２号証）。)。また，
蒸着時の基板加熱（１５０～２５０℃）で水が発生するため，水分に弱いＣｓＩが，
発生した水で致命的な劣化を起こす可能性もある。よって，塩基性炭酸鉛（鉛白）
も，反射層として十分に機能しない。したがって，甲第３８号証に基づき「白色顔
料（塩基性炭酸鉛（鉛白））及びバインダー樹脂からなる反射層の表面に，蛍光体
層を蒸着により形成すること」には，当業者において阻害要因がある。
(ウ)そもそも，甲第３８号証の「結合剤に分散された鉛又は鉛酸化物の層」は，
反射層としては想定されておらず，「白色顔料（塩基性炭酸鉛（鉛白））」を含む
反射層も開示されていないので，甲第３８号証は，「白色顔料及びバインダー樹脂
からなる反射層の表面に，蛍光体層を蒸着により形成すること」が周知技術である
ことを示す例にはならない。よって，本件発明の進歩性を判断する上で甲第３８号
証を参酌することはできない。
エ甲第３９号証について
(ア)甲第３９号証に記載のデジタルＸ線撮影用放射線変換シートは，少なくと
も，基材／蛍光体層／粘着剤層／透明剥離フィルムが順次積層された構成を有して
おり（【００１５】），蛍光体層は基材の上に形成される。これに対して，本件発
明１のシンチレータパネルは，白色顔料及びバインダーからなる反射層が，基板と
柱状結晶構造の間に存在し，該反射層の表面に柱状結晶体を成長させて形成された
という構成を有する。このように，甲第３９号証に記載のデジタルＸ線撮影用放射
線変換シートは，本件発明１における「反射層」を有するものではない。してみれ
ば，本件発明１と甲１発明との反射層の構成に関る相違点１の容易想到性を判断す
る上で，「反射層」を有さないＸ線撮影用放射線変換シートの構成を参酌し得るも
のではない。
(イ)甲第３９号証において，蛍光体を形成する対象は，プラスチック基板，シ
リコン基板，カーボン基板などの「基材」であり，好ましくは０．１－２ｍｍの厚
みを有している。このようなプラスチック基板は，一般に，溶融させた樹脂を押出
して成形する押出成形法等により製造されることは周知である。これに対して，本
件発明１において，シンチレータ層を蒸着により形成する対象は，白色顔料とバイ
ンダーからなる反射層であり，当該反射層は，好ましくは溶剤に溶解した樹脂を塗
布，乾燥して基板の上に形成されるものである（甲３１【００３７】）。そうする
と，仮に，甲第３９号証に記載の基板が酸化チタン，酸化アルミニウムなどの顔料
を混入した白色樹脂材料からなるものであったとしても，甲第３９号証に記載の基
材と本件発明１における反射層は，その形成方法が異なることから，当業者であれ
ば，形成された表面の構造も通常は異なると理解するのが自然である。してみれば，
本件発明１と甲１発明との反射層の構成に関する相違点１の容易想到性を判断する
上で，甲第３９号証に記載の基材の構成について参酌し得るものではない。
(ウ)甲第３９号証には，「また，ＣｓＩ：Ｔｌなどの柱状結晶の層を，基材１
に蒸着法により形成することによっても得られる。」（【００２４】）との記載は
あるものの，実施例では，蛍光体層を，白色ＰＥＴ材料の表面に塗布方式により形
成したデジタルＸ線撮影用放射線変換シートが記載されているのみであり，プラス
チック基板上に蒸着法により蛍光体層を形成した例は示されておらず，またその具
体的な方法の記載も全くない。してみれば，甲第３９号証には，プラスチック基材
上に蒸着法により蛍光体層を形成することは実質的には開示されていないと認めら
れる。したがって，甲第３９号証の記載内容をもって，反射機能を有する樹脂基板
の表面に，蛍光体層を蒸着により形成することが周知技術であるとは到底言えない。
オ甲第８号証について
(ア)甲第８号証に記載の放射線画像変換パネルは，支持体上に少なくとも放射
線画像が蓄積された輝尽性蛍光体を有する放射線画像変換パネルであり（【００１
３】），図１から，当該放射線画像変換パネルがＣＲシステムに用いられるもので
あることは明らかである。
また，甲第８号証には，支持体と輝尽性蛍光体層との間に反射層を設けても良い
と記載されているが（【０１１７】），当該反射層の分光反射率について，同号証
には，「短波長側（３７０ｎｍ～５００ｎｍ）よりも長波長側（６００ｎｍ～７０
０ｎｍ）が低いことが特徴であり，好ましくは長波長側の反射率が，短波長側に対
して０．０１倍～０．９５倍であることが好ましく，より好ましくは０．０１倍～
０．５０倍である。」と記載されている（【０１２７】）。したがって，甲第８号
証に記載されている反射層は，ＣＲシステムにおける波長選択的な反射特性を有す
る反射層に該当する。このような波長選択的な反射特性を有するように設計された
ＣＲシステムの反射層を，５５０ｎｍでの反射が求められるＦＰＤシステムの反射
層に適用し得ない。
さすれば，光学特性が全く異なる本件発明１におけるＦＰＤシステムのシンチレ
ータに用いる反射層の特徴事項を考えるに当たり，甲第８号証に記載されている反
射層に関する技術を参酌し得るものではない。したがって，甲第８号証記載の反射
層に関する記載をもって本件発明１と甲１発明との相違点１に関する周知技術など
とはいうことはできない。
(イ)甲第８号証には，蒸着により膜形成された酸化チタンと酸化ジルコニウム
の反射層以外の反射層の表面に，蛍光体層を蒸着により形成することは何ら記載も
示唆もされていない。してみれば，甲第８号証の記載事項からは，任意の材質から
なる反射層全般について，その表面に，蒸着により蛍光体層を形成することが周知
であるとはいうことができない。
(ウ)甲第８号証の【０１７１】には，酸化チタンと酸化ジルコニウムとを蒸着
により膜形成して形成した光反射層の表面に，蛍光体層を蒸着により形成すること
が記載されている。また，甲第８号証には，反射層としては，例えば，白色顔料を
樹脂中に分散含有させたものが用いられることが記載されている（【０１１７】）。
しかし，甲第８号証には，白色顔料を樹脂中に分散含有させた反射層の表面に，直
接蒸着により膜形成を行うことは何ら具体的に記載されていない。
また，甲第８号証においては，反射層は任意的な層であり，更に，蛍光体層は塗
布型のものであってもよいと記載されている（【００６３】，【００６４】）。そ
して，審決で認定されているように，蒸着により膜形成を行なう場合，蒸着させる
対象の表面の材質，構造により膜の成長がうまくいくかどうかが左右されることは，
当業者にとって常識的な事項である。そうすると，甲第８号証に酸化チタンと酸化
ジルコニウムとを蒸着により膜形成して形成した光反射層の表面に，蛍光体層を蒸
着により形成することが記載されているとしても，白色顔料を樹脂中に分散含有さ
せた反射層の表面に，直接蛍光体層を蒸着により形成することを導き出すことはで
きない。
したがって，バインダー樹脂を含んだ反射層の表面に，蛍光体層を蒸着により形
成することは，甲第８号証に記載されている事項には該当しない。
以上より，甲第８号証の記載事項から，バインダー樹脂を含んだ反射層の表面に，
蛍光体層を蒸着により形成することも周知技術であるとはいえない。
カ甲第７号証について
甲第７号証の段落【００１３】には，原告が指摘するように，Ｔｉドープ（Ｔｉ
ドープはＴｌドープの誤記と思われる）のＣｓＩからなるシンチレータ層を，真空
蒸着法により形成されたＡｌ膜の反射層の表面に蒸着法によって成長させることが
記載されているが，真空蒸着法により形成されたＡｌ膜の反射層以外の反射層の表
面に，ＴｉドープのＣｓＩからなるシンチレータ層を蒸着法により形成することは
何ら記載も示唆もされていない。
してみれば，甲第７号証の記載事項からは，任意の材質からなる反射層全般につ
いて，その表面に，蒸着により蛍光体層を形成することが周知であるとはいえない。
キ小括
以上のとおり，甲第７号証，甲第３８号証，甲第８号証の記載事項から，反射層
が，基板と，蒸着により形成された蛍光体層との間に設けられている蛍光体パネル
／スクリーンにおいて，蛍光体層を反射層の表面に蒸着により形成することは，周
知技術であるということはできず，また，甲第３８号証，甲第３９号証，甲第８号
証の記載事項から，バインダー樹脂を含んだ反射層，若しくは，反射機能を有する
樹脂基板の表面に，蛍光体層を蒸着により形成することも，周知技術であるという
ことはできない。
また，甲第７号証には，ＴｉドープのＣｓＩからなるシンチレータ層を，真空蒸
着法により形成されたＡｌ膜の反射層の表面に蒸着法によって成長させることが記
載されているものの，真空蒸着法により形成されたＡｌ膜の反射層以外の反射層の
表面に，ＴｉドープのＣｓＩからなるシンチレータ層を蒸着法により形成すること
は何ら記載も示唆もされていない。
そして，「蒸着により膜形成を行なう場合，蒸着させる対象の表面の材質，構造
により膜の成長がうまくいくかどうかが左右されること」は，当業者にとって常識
的な事項である。
してみれば，白色顔料及びバインダー樹脂からなる反射層が，基板と，蒸着によ
り形成された柱状結晶構造のシンチレータ層との間に設けられている甲第１号証記
載の発明において，シンチレータ層を反射層の表面に蒸着により形成し，本件発明
１の相違点１に係る発明特定事項とすることは，当業者にとって容易であるとはい
えない。
よって，原告の主張は失当である。
(2)本件発明１の効果の認定の誤りをいう点について
ア原告は，甲第４０号証，甲第４１号証を提出して，審決が「バインダー樹脂
のガラス転移温度が，ヨウ化セシウムと少なくとも１種類以上のタリウムを含む添
加剤を原材料として蒸着により柱状結晶構造のシンチレータ層を形成する際の基板
温度よりも低くなることは，当業者にとって本件特許出願時に常識的事項であ」る
（審決書３２頁２２～２６行）と認定した点は誤りである旨主張する。しかし，以
下のとおり，この主張には理由がない。
(ア)甲第４０号証について
甲第４０号証の記載事項（段落【００１０】～【００１２】，【００３１】，
【００６０】）からすると，甲第４０号証に記載の発明は，基板の凹凸により発生
する輝尽性蛍光体を蒸着させる際に成形性が悪いという問題，熱に弱い樹脂を基板
として用いた場合に，蒸着時の蒸気流の熱により基板が変形するという問題に対処
するため，基板上に耐熱性樹脂層を設けることで，表面の平滑な支持体を得て，輝
尽性蛍光体層の形成時にひび割れが発生することを防ぐことができるという効果を
有するものであると認められる。
これに対して，本件発明１は，ＦＰＤシステムに用いられるシンチレータパネル
において，アルミナ，酸化イットリウム，酸化ジルコニウムおよび酸化チタンから
選ばれる少なくとも一種の白色顔料及びバインダー樹脂からなる反射層の表面に，
柱状結晶構造のシンチレータ層を蒸着によって成長させて形成するものであり，こ
のような構成を採用することで，蒸着によりシンチレータを形成させるに当たり，
反射層が接着層としても機能し（段落【００３８】），蒸着の際に反射層中のバイ
ンダー樹脂が軟化して，蒸着結晶の種晶は非常に根付き易くなるのである。
このように，本件発明１の白色顔料及びバインダー樹脂からなる反射層と甲第４
０号証に記載の耐熱性樹脂層とは，これを設ける目的，構成，機能，要求される特
性が全く相違する。また，甲第４０号証に記載の耐熱性樹脂層は，蒸着時の蒸気流
の熱による基板の変形を防止するため，１８０℃以上という非常に高いガラス転移
温度を有し，更に，熱膨張係数が輝尽性蛍光体層の熱膨張係数と近い（段落【００
２３】）という特性を有しており，樹脂層としては極めて特殊なものである。
したがって，甲第４０号証において，仮に耐熱性樹脂層を構成する樹脂材料のガ
ラス転移温度が，蛍光体層を形成する際の基板温度よりも高くなることがあったと
しても，このことと，反射層に含まれるバインダー樹脂のガラス転移温度が，ヨウ
化セシウムと少なくとも１種類以上のタリウムを含む添加剤を原材料として蒸着に
より柱状結晶構造のシンチレータ層を形成する際の基板温度よりも通常低くなるこ
ととは，直接関連するものではない。
(イ)甲第４１号証について
甲第４１号証の記載事項（段落【００２９】，【００４４】，【００４５】，
【００９０】，【０１２７】，【０１３１】，【０１３２】）からすると，甲第４
１号証における「接着層」とは，複数層の蒸着基板の支持体を形成する際に，基板
に貼合した層を意味すると考えられ，実施例１の場合は，炭素繊維板が基板であり，
ガラスが接着層に該当すると考えられる。また，実施例８では，基板炭素繊維を挟
んで両面に接着層なるポリイミドシートが貼合されて，３層全体として支持体を構
成するとされている（請求項４）。
このように，甲第４１号証における接着層は，本件発明１における酸化チタン等
の白色顔料及びバインダー樹脂からなる反射層とは全く異なるものであり，蛍光体
層の蒸着対象となる層の樹脂原料のガラス転移温度と，蛍光体層を形成する際の基
板温度との関係は，当該蒸着対象となる層の構成，機能，特性により変わり得るも
のである。してみれば，甲第４１号証における接着層に関する記載は，反射層に含
まれる「バインダー樹脂のガラス転移温度が，ヨウ化セシウムと少なくとも１種類
以上のタリウムを含む添加剤を原材料として蒸着により柱状結晶構造のシンチレー
タ層を形成する際の基板温度よりも低くなることは，当業者にとって本件特許出願
時に常識的事項」であるとの審決の認定を判断する上で直接関連するものではない。
仮に，甲第４１号証における接着層に関連する記載を参照したとしても，以下に
示すように，同号証の記載内容により審決の上記認定は影響されるものではない。
すなわち，甲第４１号証の実施例には，「また，蒸着にあたっては，前記基板を
蒸着器内に設置し，次いで，蛍光体原料（ＣｓＢｒ：Ｅｕ）を蒸着源としてプレス
成形し水冷したルツボにいれた。その後，蒸着器内を一旦排気し，Ｎ2ガスを導入し，
０．１３３Ｐａに真空度を調整した後，基板の温度を約３５０℃に保持しながら，
蒸着した。」（段落【０１２８】～【０１２９】」と記載されており，同号証の実
施例では，蒸着における基板の温度は約３５０℃と認められる。一方，甲第４１号
証の【００２８】には，接着層に含まれる化合物のＴｇが８０～３５０℃であるこ
とが好ましいと記載されているように，甲第４１号証の接着層に含まれる化合物の
Ｔｇは３５０℃以下である。
このように，甲第４１号証に具体的に記載されている例においても，接着層に含
まれる樹脂のガラス転移温度は蒸着の際の基板温度よりも低くなっている。
したがって，甲第４１号証に具体的に記載されている接着層に含有される化合物
のガラス転移温度と蒸着時の基板温度との関係からしても，審決の上記認定は影響
されるものではない。
(ウ)小括
以上のとおり，甲第４０号証及び甲第４１号証の記載事項は，反射層に含まれる
バインダー樹脂のガラス転移温度が，ヨウ化セシウムと少なくとも１種類以上のタ
リウムを含む添加剤を原材料として蒸着により柱状結晶構造のシンチレータ層を形
成する際の基板温度よりも通常低くなることとは直接関連するものではない。して
みれば，甲第４０号証及び甲第４１号証の記載事項により，「バインダー樹脂のガ
ラス転移温度が，ヨウ化セシウムと少なくとも１種類以上のタリウムを含む添加剤
を原材料として蒸着により柱状結晶構造のシンチレータ層を形成する際の基板温度
よりも低くなることは，当業者にとって本件特許出願時に常識的事項である」との
審決の認定は影響されるものではない。
したがって，原告の上記主張は失当である。
イ原告は，本件明細書の【００３５】，【００３８】の記載から，反射層が接
着層として有効に機能するのは，バインダーとしてガラス転移温度（Ｔｇ）が３０
～１００℃のポリマーを反射層が含有し，かつ，基板温度が１５０～２５０℃で蒸
着によるシンチレータ層の形成が実施される場合であるところ，本件発明１におい
ては，それらについて何ら特定されていないことから，柱状結晶構造のシンチレー
タ層と反射層との接着性が向上するとの効果は，本件特許の特許請求の範囲の記載
に基づくものであるとはいえないと主張するが，原告の主張は失当である。
すなわち，まず，本件明細書の【００３８】では，反射層に含有されるバインダ
ー樹脂として，ガラス転移温度が３０～１００℃が好ましいと記載されているのみ
で，これが本件特許発明の作用効果を奏功する上で必須であるとは記載されていな
い。
また，ＦＰＤシステムにおいて，蒸着によりシンチレータを形成するに当たり，
基板温度は通常１５０℃～２５０℃で実施されることは出願時において広く知られ
ている（甲第１９号証の段落【００１０】，甲第２０号証の段落【００１４】，甲
第２１号証の段落【００３２】）。ＦＰＤシステムにおいて，蒸着によりシンチレ
ータを形成するに当たり，基板温度を１５０℃～２５０℃で実施することは，出願
時における技術常識である。
そして，本件発明１においては，バインダー樹脂のガラス転移温度が当該基板温
度より通常低いので，反射層中のバインダーが軟化して，蒸着結晶の種晶は非常に
根付き易くなり，本件特許発明の優れた作用効果がより良く奏されるのである。
したがって，バインダー樹脂のガラス転移温度及び蒸着によるシンチレータの形
成における基板温度が特定されていないことは，本件発明１の作用効果上何ら問題
はない。
ウ原告は，柱状結晶構造のシンチレータ層と反射層との接着性を向上させ，そ
れにより鮮鋭性を向上させるとの効果は，本件明細書の記載に基づくものとはいえ
ない旨主張する。
しかし，技術的思想の開示においては，技術的効果を生ずる全過程を解明するま
での必要はなく，特定の構成により特定の効果を生ずることが分かれば足りるもの
である。
本件発明１においては，本件明細書には，反射層が，基板と柱状結晶構造のシン
チレータ層の間に存在し，アルミナ，酸化イットリウム，酸化ジルコニウム及び酸
化チタンから選ばれた少なくとも一種の白色顔料及びバインダー樹脂からなる該反
射層の表面に，柱状結晶体を成長させて形成した柱状結晶構造のシンチレータ層を
形成したことにより，柱状結晶構造のシンチレータ層と反射層との接着性が向上す
ることが明示されている（段落【００３５】，【００３８】及び【００７１】）。
また，甲第９号証及び甲第１７号証において，蛍光体層を柱状に結晶化させる際
に，ゴミ，蒸着時のスプラッシュ，基材の表面粗さのばらつきによって，部分的に
生じた異常成長により数１０μｍから数１００μｍ程度の突起部が形成され，この
突起部が原因となりデジタル画像の解像度が低下するという問題が指摘されていた
（甲第９号証【００１２】，【００４９】，図３～１０）ところ，本件発明１では，
反射層が凹凸などの欠陥を覆い隠すことができ，平滑性に優れた表面を得ることが
できる。
さらに，シンチレータ層と反射層との接着性が向上することにより，柱状結晶を
根元部での乱れがなくきれいに成長させることができることは，当技術分野に属す
る者であれば理解できることである。
そして，白色顔料及びバインダー樹脂からなる反射層の表面に蒸着により柱状結
晶構造のシンチレータ層を形成したシンチレータパネルにおいて鮮鋭性が格段に向
上することが実施例により明確に示されている（表１）。
してみれば，柱状結晶構造のシンチレータ層と反射層との接着性を向上させ，そ
れにより鮮鋭性を向上させるとの効果は，本件明細書の記載に基づくものであり，
原告の主張は失当である。
エ原告は，仮に，本件発明１が，柱状結晶構造のシンチレータ層と反射層との
接着性が向上するとの効果を奏するものであるといえたとしても，当該接着性が向
上するとの効果は，甲第４２号証の記載事項から当業者が予測し得る効果であると
主張する。
審決は，「本件発明１は，甲第１号証ないし甲第１３号証の開示内容から当業者
が予測し得ることができない，格別の効果を奏するものである。」（審決書３３頁
２０～２２行）と認定しているところ，本件発明１の効果が，当業者が予測し得る
ものであると主張するのであれば，甲第１号証ないし甲第１３号証の開示内容に基
づいて行なわなければならない。しかし，原告は，無効審判の審理で提出していな
い証拠である甲第４２号証の開示内容に基づいて，本件発明１の効果について当業
者が予測し得るものであると主張している。
特許発明の効果は，進歩性の存在を肯定的に推認する事実として参酌されるもの
であることからすると，原告の上記主張は，無効審判の審理で提出されていない新
たな証拠に基づいて，本件発明１の容易想到性を主張していることに等しい。特許
無効審判で審理判断されなかった公知事実との対比における特許無効原因を審決取
消訴訟において主張することは，許されるものではない（最高裁昭和５１年３月１
０日大法廷判決・民集３０巻２号７９頁）。
したがって，原告が本審決取消訴訟において上記主張をすることは認められない。
３取消事由３（本件発明１と甲６発明の相違点３の判断の誤り）に対し
原告は，相違点３に係る本件発明１の発明特定事項は，甲６発明に甲第１号証記
載の技術及び甲第７号証記載の技術に基づいて当業者が容易に想到し得た事項であ
ると主張し，その理由として，甲第３８号証，同第３９号証，同第７号証及び同第
８号証の記載事項から認定できるとする周知技術に言及している。
しかし，前記２において述べたとおり，上記各証拠から原告主張の周知技術を認
定することはできない。
また，審決において相違点４として認定されているように，本件発明１の反射層
は，「アルミナ，酸化イットリウム，酸化ジルコニウムおよび酸化チタンから選ば
れる少なくも一種の白色顔料及びバインダー樹脂からな」るのに対し，甲第６号証
記載の「光反射層」は，「樹脂中に多数の空隙を形成したものであり」，全く相違
するところ，これを白色顔料及びバインダー樹脂からなる反射層に代える動機付け
は認められない。
さらに，甲第６号証には，蛍光体層の形成について，蛍光体塗布液を支持体上に
塗布，乾燥すること，及び，蛍光体塗料又は輝尽性蛍光体塗料からなるシートを支
持体の上に載せ，接着する工程で形成することが記載されているが（【００４１】，
【００４２】），蒸着により蛍光体層を記載することは記載も示唆もされていない。
さすれば，当業者は，甲第６号証に，甲第１号証及び甲第７号証と組み合わせる動
機付けを有し得ない。
してみれば，当業者は，甲６発明に甲第１号証記載の技術及び甲第７号証記載の
技術を適用して，相違点３の発明特定事項に容易に想到し得るものではない。
また，原告は，本件発明１の効果についても，取消事由２におけるものと同様の
主張をしているが，取消事由２において詳述したとおり，本審決取消訴訟において
このような主張をすることは許されず，仮に当該主張をすることができるとしても，
本件発明１の優れた効果は，甲第４２号証から当業者が予測し得るものではない。
以上より，原告の主張は失当である。
４取消事由４（本件発明１と甲８発明の一致点及び相違点６の認定の誤り，判
断遺脱）に対し
(1)原告は，審決は，甲第８号証記載の発明の認定において，「気相成長方式に
よって形成される，柱状の輝尽性蛍光体層である蛍光体層を，反射層の表面に蒸着
により形成する」との事項を看過している，と主張し，その理由として，甲第８号
証の段落【０１７１】及び【０１７２】には，支持体の表面に形成した光反射層の
表面に，蛍光体層を，蒸着により形成することが記載されている点を挙げている。
しかし，甲第８号証の段落【０１７１】には，「（光反射層の形成）フルウチ化
学社製酸化チタンとフルウチ化学社製酸化ジルコニウムとを，４００ｎｍでの反射
率が８５％，６６０ｎｍでの反射率が２０％となるように，蒸着装置を用いて支持
体１の表面に膜形成を行った。」と記載されているように，当該光反射層は酸化チ
タンと酸化ジルコニウムとを蒸着により膜形成して形成したものであって，有機溶
剤中に樹脂及び酸化チタンを分散して支持体上に塗布乾燥させて設けた反射層では
ない。
このようなバインダー樹脂を含まず，かつ蒸着により形成した光反射層について，
その表面に蛍光体層を蒸着により形成することが記載されているからといって，有
機溶剤中に樹脂及び酸化チタンを分散して支持体上に塗布乾燥させて設けた反射層
においても同じようにその表面に蛍光体層を蒸着により形成することは，甲第８号
証に記載されていない。
また，甲第８号証においては，反射層は任意的な層であり，更に，蛍光体層は塗
布型のものであってもよいと記載されている（段落【００６３】～【００６４】）。
そして，審決で認定されているように，蒸着により膜形成を行なう場合，蒸着させ
る対象の表面の材質，構造により膜の成長がうまくいくかどうかが左右されること
は，当業者にとって常識的な事項である。そうすると，甲第８号証に記載されてい
る事項からは，有機溶剤中に樹脂及び酸化チタンを分散して支持体上に塗布乾燥さ
せて設けた反射層において，その表面に蛍光体層を蒸着により形成することを導き
出すことはできない。さすれば，有機溶剤中に樹脂及び酸化チタンを分散して支持
体上に塗布乾燥させて設けた反射層の表面に，蛍光体層を蒸着により形成すること
は，甲第８号証に記載されている事項には該当しない。
したがって，支持体と輝尽性蛍光体層との間に，有機溶剤中に樹脂及び酸化チタ
ンを分散して支持体上に塗布乾燥させて設けた反射層を備えてもよい，放射線画像
変換パネルにおいて，「気相成長方式によって形成される，柱状の輝尽性蛍光体層
である蛍光体層を，反射層の表面に蒸着により形成する」点は，甲第８号証には記
載されていない。
よって，審決の甲第８号証記載の発明の認定に誤りはなく，原告の主張は失当で
ある。
(2)本件発明１と甲第８号証記載の発明との一致点の認定について
原告は，審決は，本件発明１と甲第８号証記載の発明との一致点の認定において，
「シンチレータ層は，反射層の表面に蒸着により形成したものである点」を看過し
ていると主張するが，上記のとおり，甲第８号証には，支持体と輝尽性蛍光体層と
の間に，有機溶剤中に樹脂及び酸化チタンを分散して支持体上に塗布乾燥させて設
けた反射層を備えてもよい，放射線画像変換パネルにおいて，「気相成長方式に
よって形成される，柱状の輝尽性蛍光体層である蛍光体層を，反射層の表面に蒸着
により形成する」点は記載されていない。
してみれば，「シンチレータ層は，反射層の表面に蒸着により形成したものであ
る点」は，本件発明１と甲第８号証記載の発明との一致点にはなり得ない。
よって，審決の本件発明１と甲第８号証記載の発明との一致点の認定に誤りはな
く，原告の主張は失当である。
(3)原告のその他の主張について
上記の理由から，本件発明１と甲第８号証記載の発明との相違点６の認定の誤り，
判断逸脱についての原告の主張には根拠がなく，失当である。
５取消事由５（本件発明１と甲８発明の相違点６の判断の誤り）に対し
原告は，甲８発明において，気相成長方式によって形成される蛍光体層を，白色
顔料及びバインダー樹脂からなる反射層の表面に蒸着により形成することは容易で
あると主張し，その理由として，甲第３８号証，同第３９号証，同第７号証及び同
第８号証の記載事項から認定できるとする周知技術に言及している。
しかし，前記２で述べたとおり，上記各証拠から原告主張の周知技術を認定する
ことはできない。また，前記４で述べたとおり，甲第８号証に記載されている事項
からは，有機溶剤中に樹脂及び酸化チタンを分散して支持体上に塗布乾燥させて設
けた反射層において，その表面に蛍光体層を蒸着により形成することを導き出すこ
とはできないから，甲第８号証には，有機溶剤中に樹脂及び酸化チタンを分散して
支持体上に塗布乾燥させて設けた反射層の表面に，蛍光体層を蒸着により形成する
ことは記載されていない。
してみれば，甲８発明において，気相成長方式によって形成される蛍光体層を，
白色顔料及びバインダー樹脂からなる反射層の表面に蒸着により形成することは，
当業者に容易に想到し得たものではない。
また，原告は，本件発明１の効果についても，取消事由２における主張と同様の
主張をしているが，前記２において詳述したとおり，本件発明１の優れた効果は，
甲第４２号証から当業者が予測し得るものではない。
以上より，原告の主張は失当である。
６取消事由６（本件発明２ないし７に対する無効理由１ないし３についての判
断の誤り）に対し
原告は，取消事由１ないし５で述べたのと同様の理由により，本件発明２ないし
７に対する無効理由１ないし３についての審決の判断は誤りであると主張するが，
上記のとおり，原告の取消事由１ないし５はいずれも理由がない。
したがって，本件発明２ないし７に対する無効理由１ないし３についての審決の
判断に誤りはない。
第５当裁判所の判断
当裁判所は，本件発明１は，甲１発明に周知技術（甲７，８，３８，３９）を適
用することによって，当業者が容易に発明をすることができたものであり，無効理
由１に係る審決の容易想到性判断は誤りであると判断する。
１取消事由１（本件発明１と甲１発明の相違点１の判断における理由不備）に
ついて
(1)蒸着対象に係る認定について
アはじめに
原告は，蒸着対象に係る審決の認定に理由不備の違法があると主張するので，ま
ず，各種刊行物の記載内容を認定し，これに基づき，「蒸着により膜形成を行う場
合，蒸着させる対象の表面の材質，構造により膜の成長がうまくいくかどうかが左
右されること」が当業者にとって常識的な事項であると認められるかどうかを検討
する。
イ各種刊行物の記載内容（以下，下線はいずれも裁判所）
(ア)後藤芳彦，「材料学シリーズ結晶成長」，株式会社内田老鶴圃，２００
３年３月２５日，４５～６５頁（乙１）
ａ上記刊行物には，以下の記載がある。
「結晶は全体の表面エネルギーをできるだけ小さくするような形をもって成長す
る。」（５３頁最下行～５４頁１行）
「結晶が成長するときには，最初に結晶の核が形成され，それが成長して次第に
大きくなる。結晶の大きさが小さいときには結晶の外形は平衡形の形態をとりやす
い。例えば，表面エネルギーに…異方性がある場合には，結晶は全体として球状に
近いが，低指数面に切られた多面体の形をとる。このとき結晶の表面エネルギーは
最小となり，その形を平衡形という。」（５５頁３～９行）
「いままでの話は３次元空間の蒸気の中で成長した結晶の形に関するものであっ
た。現実には，気相成長では，ガラス管，あるいは成長物質を支える基板（下地）
を用いる。溶液成長や融液成長でも液体をおおう容器の中で結晶を成長させる。こ
のような場合，基板や容器の壁に結晶の核が形成され成長することになる。つまり，
不均質核形成を起こす。以下に不均質核形成における結晶の平衡形について述べる。
話を単純にするために図５－７のように基板表面Ｂ上での結晶Ａの安定形態を求め
る。
まず，ＡＢ界面の界面エネルギーを（３－２３）式のように定義する。
（５－１２）
ここでγは接着エネルギーである。σＡは凝結物の上面の表面エネルギー，σＢは
基板表面の表面エネルギーである。σＡＢは界面エネルギーである。基板Ｂの上に３
次元結晶Ａが形成されるときのギブスの形成エネルギー変化は
（５－１３）
と表される。第１項は化学ポテンシャル変化分のエネルギー減少分，第２項は基
板上に形成された結晶固有の全表面エネルギー，第３項は接触界面の寄与で結晶が
基板と接触したことによって生じた表面エネルギー変化分を表している。ＳＡは接
触面積である。前の平衡形の議論と同じように計算すると最終的に次式が得られる。
ここでυは１原子の体積を表している。
（５－１４）
この関係式が基板上に成長する結晶の平衡形を決める条件式である。この式から
わかるように，γの値の変化によってｈＡＢが変化し，その形態は変わってくる。そ
の様子を図５－８に示した。ＡＢ界面に接着力がない場合には，γ＝０であるから，
σＡＢ＝σＡ＋σＢよりｈＡＢ＝ｈＡとなり，ウルフの平衡形と一致する。０＜γ＜σＡ
の場合にはｈＡＢ＜ｈＡとなり，ウルフの多面体の下部が基板によって切り取られた
形状となる。γ＝σＡのときにはｈＡＢ＝０となり，ウルフの多面体のちょうど半分
の結晶が基板上に形成される。σＡ＜γ＜２σＡのときは－ｈＡＢ＝ｈＡとなり，薄い
形の板状結晶となる。γが２σＡに近づくともはや厚みをもった結晶は不安定であ
り，１原子層が２次元的に基板を覆って成長する層成長の成長様式に変わる。」
（６２頁２行～６３頁最下行）（判決注・乙１【図５－７】及び【図５－８】は別
紙のとおり）
ｂ上記記載から，基板上に気相成長（蒸着）によって形成された結晶の平衡形
は，接着エネルギーγと凝結物の上面の表面エネルギーσＡに依存して形態が変化
することが分かる。接着エネルギーγは，基板の材質によって変わるものであるか
ら，上記記載は，基板の材質によって形成される結晶の安定形態が異なることを示
していると認められる。
そうすると，蒸着により膜形成を行う場合，蒸着させる対象の表面の材質により
結晶成長が左右されるといえる。
(イ)特開２００５－１４８０６０号公報（甲１７）
ａ上記刊行物には，以下の記載がある。
「【００１３】
ここで，高感度な放射線検出装置用の蛍光体層１１３の材料として，柱状結晶構
造を有するハロゲン化アルカリ蛍光体が使われ始めている。このうち，特にその発
光波長が光電変換素子の感度波長とマッチングするＣｓＩ（沃化セシウム）：Ｔｌ
が使われている。このＣｓＩ：Ｔｌの最大発光波長は，５００ｎｍ～６００ｎｍで
ある。ハロゲン化アルカリ蛍光体の成膜方法としては，蒸着法が用いられる。例え
ばＣｓＩ：Ｔｌは，ＣｓＩ（沃化セシウム）とＴｌＩ（沃化タリウム）を基材１
１１上に共蒸着することによって得られる。…
【００１４】
このように蛍光体層１１３を柱状に結晶化させる際，ゴミ，蒸着時のスプラッシ
ュ，基材１１１の表面粗さのばらつきなどによって，部分的に生じた異常成長によ
り表面から高さ数１０μｍから数１００μｍ程度の突起部１１６が形成される。こ
の突起部１１６は，凸部とその周辺の凹部からなる凹凸部を成すもので，１）素子
の破壊，２）保護層の破壊，３）気泡の混入，４）解像度の低下，などの問題を生
ずるため，対策として，蛍光体を形成した後に表面の凹凸を軽減し，上記問題点を
抑制するというものが，特許文献３，４に示されている。この結果，図１１に示す
突起部１１６の凹凸は軽減される。」（判決注・甲１７【図１１】は別紙のとお
り）
ｂ上記記載によれば，ＣｓＩ：Ｔｌからなる蛍光体層１１３を柱状に結晶化さ
せる際，ゴミ，蒸着時のスプラッシュ，基材の表面粗さのばらつきなどによって，
部分的に異常成長が生ずることが認められる。
(ウ)特開２００１－２８３７３１号公報（乙２）
ａ上記刊行物には，以下の記載がある。
「【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため，本発明の蛍光体層の製
造方法は，基板上に形成されシンチレータ結晶からなる蛍光体層の製造方法におい
て，基板上にシンチレータ結晶からなる複数の基部を，該複数の基部が互いに離隔
するようにパターン形成する基部パターン形成工程と，基部上に，基部を構成する
シンチレータ結晶と同一種類のシンチレータ結晶を成長させて柱状部を形成し，基
部と柱状部とからなる蛍光体層を得る結晶成長工程とを備えることを特徴とする。
【０００８】この発明によれば，複数の基部の上にシンチレータ結晶が一体的に
成長し，形及び大きさの揃った柱状部が形成される。…」
「【００１７】次に，このような蛍光体層７を製造する好適な方法について図５
を用いて説明する。図５は，基板６上に蛍光体層７を製造する一連の工程を示す図
である。
【００１８】まず，図５（ａ）に示すように，真空蒸着装置の真空容器内に蒸着
ボート１２を設置し，蒸着ボート１２の収容凹部にシンチレータ（例えばＣｓＩ）
１３を載置する。
【００１９】次に，図５（ｂ）に示すように，蒸着ボート１２の上方に基板６を
配置する。基板６は，真空容器内に固定して水平に保持する。基板６の上部にはヒ
ータ等を配置する。一方，基板６の下部には平板状のパターンマスク１１を固定す
る。…」
「【００２２】このようなパターンマスク１１を基板６に固定したならば，真空
容器を密閉し，真空ポンプを用いて真空引きを行い，その後，蒸着ボート１２に通
電してシンチレータ１３を蒸発させる。これにより，パターンマスク１１の貫通孔
１１ａを通して基板６上にシンチレータ結晶１３が蒸着される。…蒸着が完了した
ならば，真空容器を開放する。そして，図５（ｃ）に示すように，基板６からパタ
ーンマスク１１を取り外すと，基板６上にほぼ同一形状の基部７ａの格子状パター
ン２０が得られる（基部パターン形成工程）。
【００２３】次に，蒸着ボート１２の収容凹部に，基部７ａを構成するシンチレ
ータ結晶と同一種類のシンチレータ結晶１３を載置する。そして，再び真空容器を
密閉し，真空ポンプを用いて真空引きを行った後，基板６をヒータによって加熱し，
回転駆動装置によって回転軸Ｃの回りに回転させる。このとき，基板６の温度は室
温～４００℃とする。このような温度範囲にするのは，この温度範囲を外れるとシ
ンチレータ結晶の結晶性が向上せず単結晶が形成されにくい傾向があるからである。
【００２４】次いで，蒸着ボート１２に通電してシンチレータ結晶１３を蒸発さ
せる。こうして，図５（ｄ）に示すように，各基部７ａの上にシンチレータ結晶が
柱状に結晶成長し，複数の基部７ａの上に単結晶からなる柱状部７ｂが一体的に形
成され，基部７ａと柱状部７ｂとからなる蛍光体層７が得られる（結晶成長工
程）。」（判決注・乙２【図５】は別紙のとおり）
ｂ上記記載によれば，基板上に形成したシンチレータ（例えばＣｓＩ）結晶か
らなる複数の基部上にのみ，蒸着によってシンチレータ結晶が柱状に結晶成長する
ことが認められる。
ウ検討
(ア)上記イの各種刊行物の記載内容から判断すると，「蒸着により膜形成を行
う場合，蒸着させる対象の表面の材質，構造により膜の成長がうまくいくかどうか
が左右されること」は，当業者にとって常識的な事項であることが優に認められる。
原告は，審決は，何ら主張立証のないまま，「蒸着により膜形成を行う場合，蒸
着させる対象の表面の材質，構造により膜の成長がうまくいくかどうかが左右され
ることは，当業者にとって常識的な事項である」と認定し，これを相違点１に係る
容易想到性判断の当然の前提としており，この点において理由不備の違法があると
と主張する。
しかし，発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者の技術上の常識
又は技術水準とされる事実などこれらの者にとって顕著な事実について判断を示す
場合は，その判断の根拠を証拠による認定事実に基づき具体的に明示することを必
ずしも要しない（最高裁昭和５９年３月１３日第三小法廷判決・裁判集民事１４１
号３３９頁参照）ところ，「蒸着により膜形成を行う場合，蒸着させる対象の表面
の材質，構造により膜の成長がうまくいくかどうかが左右されること」は，当業者
にとって常識的な事項であるから，この点について判断を示す場合は，その判断の
根拠を証拠による認定事実に基づき具体的に明示することは必ずしも必要ではな
い。
したがって，原告の上記主張は理由がない。
(イ)原告は，審決は，何ら理由を述べることなく，「甲第７号証に開示された
上記技術から，引用発明における拡散反射層上に形成するＣｓＩ：Ｔｌの針状結晶
膜を，二酸化チタンおよび結合剤を溶剤中に混合分散して塗布液を調製した後，こ
れを支持体上に塗布乾燥することにより形成された拡散反射層上に直接蒸着により
形成することを導き出すことは，当業者にとって容易になし得たことではない。」
と判断しており，この点において理由不備の違法があると主張する。
しかし，審決は，甲第７号証に，ガラス製の基板２６上に真空蒸着法により形成
された反射膜としてのＡｌ膜１３の表面に蒸着法によってＴｌドープのＣｓＩによ
る柱状構造のシンチレータ１６を形成することが記載されていることを認定した上
（審決書３０頁２５行～３１頁１行），「蒸着により膜形成を行う場合，蒸着させ
る対象の表面の材質，構造により膜の成長がうまくいくかどうかが左右されるこ
と」が当業者にとって常識的な事項であること参酌した結果，上記判断に至ってい
るものであり，上記判断に至る理由は述べられている。
したがって，原告の上記主張は理由がない。
エ小括
よって，蒸着対象に係る審決の認定に理由不備があるとの原告の主張は理由がな
い。
(2)ガラス転移温度と基板温度との関係に係る認定について
アはじめに
原告は，ガラス転移温度と基板温度との関係に係る審決の認定に理由不備の違法
があると主張するので，まず，各種刊行物の記載内容を認定し，これに基づき，
「バインダー樹脂のガラス転移温度が，ヨウ化セシウムと少なくとも１種類以上の
タリウムを含む添加剤を原材料として蒸着により柱状結晶構造のシンチレータ層を
形成する際の基板温度よりも低くなること」が当業者にとって常識的な事項である
と認められるかどうかを検討する。
イ各種刊行物の記載内容（以下，下線はいずれも裁判所）
(ア)特開２０００－１８０５９７号公報（甲１９）には，以下の記載がある。
「【００１０】…ＴｌでドープされたＣｓ：Ｉに対しては，蒸着工程は１８０℃
乃至２２０℃の温度域で有利に行われることが知られている。…」
(イ)特開平６－３６７１４号公報（甲２０）には，以下の記載がある。
「【００１４】また，不連続蛍光体層２の径は，スクリーン蒸着工程における基
板温度に依存するので，蒸着時に基板温度を１５０℃に維持したまま，４．５Ｐａ
の圧力下でよう化セシウム膜を形成させたところ，６μｍの結晶柱の不連続蛍光体
層２が形成され，基板温度を１８０℃に維持したところ，９μｍの不連続蛍光体層
２が形成された。」
(ウ)特開２００４－１１７３４７号公報（甲２１）には，以下の記載がある。
「【００３２】ＣｓＢｒ：Ｅｕに代えてＣｓＩ：Ｔｌ又はＣｓＩ：Ｎａも使用で
きる。基板材料としては，表１に列挙した材料を使用できる。圧力は０．０００５
～０．９Ｐａの間であってよい。基板温度は１５０～３００℃でなければならな
い。」
(エ)東洋紡績株式会社「バイロン」のカタログ（甲２２）には，非結晶性ポリ
エステル樹脂のガラス転移温度は－１８～８４℃，ポリウレタン樹脂のガラス転移
温度は－３０～１０６℃，バイロン６３０のガラス転移温度は７℃であることが記
載されている。
(オ)特開２００５－１１４６８０号公報（甲４０）には，以下の記載がある。
「【００３０】基板１１ａの少なくとも輝尽性蛍光体層１２を形成する面には，
耐熱性樹脂層１１ｂを設ける。耐熱性樹脂層１１ｂを設けることで，基板１１ａの
表面を平滑にすることができ，輝尽性蛍光体層１２を平滑に形成することができる。
…
【００３１】耐熱性樹脂は，Ｔｇが１８０℃以上であることが好ましく，ポリイ
ミド，ポリアミドイミド，フッ素樹脂，アクリル樹脂，シロキサン等のうち少なく
とも１つを用いることができる。…」
「【００３６】また耐熱性樹脂層１１ｂは，輝尽発光波長（４００～５００ｎ
ｍ）の光の反射率が高いことが好ましい。…」
「【００６０】輝尽性蛍光体層１２は，上記の輝尽性蛍光体を蒸発源として基板
１１ａの一方の面へ気相堆積させることにより形成される。気相堆積法としては，
蒸着法，スパッタリング法，ＣＶＤ法，その他を用いることができる。」
「【００６４】上記の気相堆積法による輝尽性蛍光体層１２の作成にあたり，輝
尽性蛍光体層１２が形成される支持体１１の温度は，５０℃～４００℃に設定する
ことが好ましく，蛍光体の特性上は１００℃～２５０℃が好ましく，基板１１ａに
樹脂を用いる場合には樹脂の耐熱性を考慮して５０℃～１５０℃，さらに好ましく
は５０℃～１００℃がよい。」
(カ)特開２００４－３０１８１９号公報（甲４１）には，以下の記載がある。
「【００２８】また，前記支持体上にガラス転移点（Ｔｇ）が８０～３５０℃の
化合物を含有する接着層を有することが本発明の効果をより奏する点で好まし
い。」
「【００３１】ガラス転移点（Ｔｇ）が８０～３５０℃の化合物としては，例え
ば，ポリイミド，ポリエチレンテレフタレート，パラフィン，グラファイト等が挙
げられる。」
「【００７０】また，本発明の輝尽性蛍光体層は気相堆積法によって形成される。
【００７１】輝尽性蛍光体の気相堆積法としては蒸着法，スパッタリング法，Ｃ
ＶＤ法，イオンプレーティング法，その他を用いることができる。」
「【００８６】上記の気相堆積法による輝尽性蛍光体層の作製にあたり，輝尽性
蛍光体層が形成される支持体の温度は，１００℃以上に設定することが好ましく，
更に好ましくは，１５０℃以上であり，特に好ましくは１５０～４００℃であ
る。」
ウ検討
(ア)上記イの(ア)～(ウ)の記載によれば，蒸着によりＣｓＩ：Ｔｌを形成する
際の基板温度を１５０～３００℃の範囲にすることは，技術常識であると認められ
る。しかし，上記刊行物には，樹脂上にＣｓＩ：Ｔｌを形成すること，樹脂上に形
成されるＣｓＩ：Ｔｌが柱状結晶構造であること，及び基板温度とバインダー樹脂
のガラス転位温度との関係については，何ら記載はなく，示唆もない。
(イ)本件発明１では，バインダー樹脂の具体的な材質やガラス転位温度，ヨウ
化セシウムと少なくとも１種類上のタリウムを含む添加剤を原材料として蒸着によ
り柱状結晶構造のシンチレータ層を形成する際の基板温度とバインダー樹脂のガラ
ス転移温度との関係については，何ら特定されていない。
(ウ)本件明細書（甲３２）には，バインダー樹脂の具体的な材質やガラス転位
温度，基板温度について，以下の記載がある。
「【００３５】
〈バインダー樹脂〉
本発明において白色顔料は，バインダー樹脂中に分散されて用いられる。分散剤
は，用いるバインダーと白色顔料とに合わせて種々のものを用いることができる。
バインダーとしては，ガラス転位温度（Ｔｇ）が３０～１００℃のポリマーである
ことが，蒸着結晶と基板との膜付の点で好ましく，特にポリエステル樹脂であるこ
とが好ましい。」
「【００３８】
本発明に係る反射層は，溶剤に溶解した樹脂を塗布，乾燥して形成することが好
ましい。前記樹脂としては，具体的には，ポリウレタン，塩化ビニル共重合体，…
ポリアミド樹脂，ポリビニルブチラール，ポリエステル，セルロース誘導体（ニト
ロセルロース等），…アクリル系樹脂，尿素ホルムアミド樹脂等が挙げられる。な
かでもポリウレタン，ポリエステル，塩化ビニル系共重合体，ポリビニールブチラ
ール，ニトロセルロースを使用することが好ましい。特にガラス転位温度が３０～
１００℃のバインダー樹脂を含有することが好ましい。通常，蒸着によるシンチレ
ータを形成するにあたっては，基板温度は１５０℃～２５０℃で実施されるが，反
射層にガラス転位温度が３０～１００℃を含有しておくことで，光反射層が接着層
としても有効に機能するようになる。」
「【００７１】
《反射層の形成》
反射層３は，上記の有機溶剤に上述した白色顔料及びバインダー樹脂を分散・溶
解した組成物を塗布，乾燥して形成する。バインダー樹脂としては接着性の観点で
ポリエステル樹脂，ポリウレタン樹脂等の疎水性樹脂が好ましい。」
「【０１０３】
平均粒径０．２μｍのルチル型二酸化チタン４０質量部，ポリエステル樹脂を１
０質量部（バイロン６３０：東洋紡社製），溶剤としてトルエン２５質量部とメチ
ルエチルケトン（ＭＥＫ）２５質量部を添加した後，サンドミルにて分散して反射
層用塗料を作製した。…」
「【０１１０】
続いて蒸着装置内を一旦排気し，Ａｒガスを導入して０．５Ｐａに真空度を調整
した後，１０ｒｐｍの速度で支持体を回転しながら基板の温度を１５０℃に保持し
た。次いで，抵抗加熱ルツボを加熱して蛍光体を蒸着しシンチレータ層の膜厚が５
００μｍとなったところで蒸着を終了させ表１に示すシンチレータパネル（放射線
像変換パネル）を得た。」
(エ)上記(ウ)によれば，本件明細書（甲３２）には，蒸着によりシンチレータ
を形成する際の基板温度は通常１５０℃～２５０℃であること，及びバインダー樹
脂として好ましい材料及びガラス転移温度について記載されており，バインダー樹
脂として接着性の観点で好ましいとされる（【００７１】）ポリエステル樹脂，ポ
リウレタン樹脂のガラス転移温度は，それぞれ－１８～８４℃，－３０～１０６℃
であり（上記イ(エ)），また，実施例で用いられているポリエステル樹脂（バイロ
ン６３０）（【０１０３】）のガラス転移温度は，７℃であって（上記イ(エ)），
これらについては，ガラス転移温度が，蒸着によりシンチレータを形成する際の通
常の基板温度である１５０℃～２５０℃よりも低いということがいえる。
しかし，他方，本件明細書においてバインダー樹脂として列挙されている材料の
中には，ガラス転移温度（Ｔｇ）が１８０℃以上であることが好ましいとされてい
るポリアミド樹脂及びアクリル系樹脂（上記イ(オ)）が含まれている。
そうすると，本件明細書には，ガラス転移温度が１８０℃以上のバインダー樹脂
上に，基板温度を１５０℃～２５０℃として蒸着によってシンチレータ層を形成す
ることも記載されているといえるから，バインダー樹脂のガラス転移温度は，必ず
しも基板温度より低くなるものではない。
(オ)また，上記イの(オ)及び(カ)の記載によれば，ガラス転移温度が１８０℃
を超える樹脂を下地層として，蒸着により蛍光体を形成することが本件出願前から
普通に行われていたことが認められる。したがって，蒸着によりＣｓＩ：Ｔｌを形
成する際の基板温度を１５０～３００℃の範囲にすることが技術常識であるとして
も，バインダー樹脂のガラス転移温度は，必ずしも基板温度より低くなるものでは
ない。
(カ)以上によれば，「バインダー樹脂のガラス転移温度が，ヨウ化セシウムと
少なくとも１種類以上のタリウムを含む添加剤を原材料として蒸着により柱状結晶
構造のシンチレータ層を形成する際の基板温度よりも低くなること」は，本件特許
の出願当時，当業者にとって常識的な事項であったとは認められない。
エ被告の主張について
(ア)被告は，そもそも，バインダー樹脂それ自体が，金属に比して根付きが良
く，本件特許発明におけるシンチレータ層の蒸着時における根付きが向上し，柱状
結晶がきれいに成長するという効果は，「樹脂という材料」の性質に起因してもた
らされるものであると主張する。
しかし，本件明細書（甲３２）には，バインダー樹脂のガラス転移温度の如何に
かかわらず，反射層に樹脂を用いることによって根付きが向上する効果が得られる
ということについては，何らの記載も示唆もない。被告の上記主張は，本件明細書
の記載に基づかないものであり，採用することはできない。
(イ)被告は，甲第４０号証の「Ｔｇが１８０℃以上であることが好ましく」
（【００３１】）との記載について，段落【００２３】及び【００６４】の記載を
根拠として，支持体の温度が３００～４００℃と高温になった場合の耐熱性や高い
剛性が求められる特殊な事例を考慮して記載されていると解するのが妥当であり，
実施例等で具体的に支持体の温度とバインダー樹脂のガラス転移温度が示されてい
ない以上，甲第４０号証にバインダー樹脂のガラス転移温度が基板温度よりも高く
なることが記載されているとは認められないと主張する。
しかし，甲第４０号証の段落【００２３】には，「本発明によれば，基板の少な
くとも一方の面に耐熱性樹脂層を塗設して，表面の平滑な支持体を得ることができ
る。また耐熱性樹脂層の熱膨張係数が輝尽性蛍光体層の熱膨張係数と近いため，輝
尽性蛍光体層の形成時にひび割れが発生することを防ぐことができる。したがって
輝尽性蛍光体層を平滑に形成することができるので，良質な再生画像を得ることが
できる。」と記載されており，段落【００６４】には，「上記の気相堆積法による
輝尽性蛍光体層１２の作成にあたり，輝尽性蛍光体層１２が形成される支持体１１
の温度は，５０℃～４００℃に設定することが好ましく，蛍光体の特性上は１００
℃～２５０℃が好ましく，基板１１ａに樹脂を用いる場合には樹脂の耐熱性を考慮
して５０℃～１５０℃，さらに好ましくは５０℃～１００℃がよい。」と記載され
ているのであって，被告が主張するような限定が付されているわけではない。
そうすると，上記記載から，段落【００３１】の「Ｔｇが１８０℃以上であるこ
とが好ましく」との記載が，支持体の温度が３００～４００℃と高温になった場合
の耐熱性や高い剛性が求められる特殊な事例を考慮したものであると認めるには足
りない。被告の上記主張は，その前提を欠くものであり，採用することができない。
(ウ)被告は，甲第４１号証の段落【００２８】及び【００８６】は，接着層に
用いられる樹脂のガラス転移温度と，輝尽性蛍光体層が形成される支持体の温度の
一般的範囲を記載した部分にすぎず，樹脂のガラス転移温度の温度範囲（８０～３
５０℃）に対し支持体の温度範囲（１５０～４００℃）は５０～７０℃高めに設定
していると認められるとから，実施例等で具体的に支持体の温度とバインダー樹脂
のガラス転移温度が示されていない以上，甲第４１号証にバインダー樹脂のガラス
転移温度が基板温度よりも高くなることが記載されているとは認められないと主張
する。
甲第４１号証の段落【００２８】には，「また，前記支持体上にガラス転移点
（Ｔｇ）が８０～３５０℃の化合物を含有する接着層を有することが本発明の効果
をより奏する点で好ましい。」と記載されており，段落【００８６】には，「上記
の気相体積法による輝尽性蛍光体層の作成にあたり，輝尽性蛍光体層が形成される
支持体の温度は，１００℃以上に設定することが好ましく，更に好ましくは，１５
０℃以上であり，特に好ましくは１５０～４００℃である。」と記載されている。
しかし，上記記載から，直ちに，これらの記載が，樹脂のガラス転移温度の温度
範囲（８０～３５０℃）に対し支持体の温度範囲（１５０～４００℃）を５０～７
０℃高めに設定することが好ましいと記載しているものと認めることはできない。
被告の上記主張は，その前提を欠くものであり，採用することができない。
オ小括
以上のとおりであるから，「バインダー樹脂のガラス転移温度が，ヨウ化セシウ
ムと少なくとも１種類以上のタリウムを含む添加剤を原材料として蒸着により柱状
結晶構造のシンチレータ層を形成する際の基板温度よりも低くなること」が，本件
特許の出願時に当業者にとって常識的な事項であったとする審決の認定は誤りであ
る。
(3)取消事由１についてのまとめ
以上のとおり，蒸着対象に係る審決の認定・判断には理由不備の違法はないが，
ガラス転移温度と基板温度との関係に係る審決の認定には誤りがある。
２取消事由２（本件発明１と甲１発明の相違点１の判断の誤り，本件発明１の
効果の認定の誤り）について
(1)はじめに
原告は，審決の判断は誤りであるとして，本件発明１の相違点１に係る発明特定
事項は，甲１発明及び周知技術（甲第７号証，同第８号証，同第３８号証，同第３
９号証）に基づいて当業者が容易に想到し得た事項であり，また，仮に，本件発明
１が柱状結晶構造のシンチレータ層と反射層との接着性を向上させるという効果を
奏するものであるとしても，そのような効果は当業者が予測し得る効果であると主
張する。
そこで，まず，本件発明及び甲１発明の概要を認定した上，原告の主張する周知
技術が存在するかどうかを検討する。
(2)本件発明１の概要
本件明細書（甲３２）によれば，本件発明は，概要次のとおりのものであると認
められる。
本件発明は，被写体の放射線画像を形成する際に用いられるシンチレータパネル
に関するものである（【０００１】）。
近年，放射線画像検出装置として，コンピューテッド・ラジオグラフィ（ＣＲ）
やフラットパネル型の放射線ディテクタ（ＦＰＤ）に代表されるデジタル方式のも
のが登場している（【０００３】）。ＣＲは，医療現場で受け入れられているが，
鮮鋭性が十分でなく空間分解能も不十分であり，スクリーン・フィルムシステムの
画質レベルには到達しておらず，更に新たなデジタルＸ線画像技術として，例えば，
薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）を用いた平板Ｘ線検出装置（ＦＰＤ）が開発されてい
る（【０００４】）。
放射線を可視光に変換するために，放射線により発光する特性を有するＸ線蛍光
体で作られたシンチレータパネルが使用されるが，低線量の撮影においてＳＮ比を
向上させるためには，発光効率の高いシンチレータパネルを使用することが必要で
ある。一般に，シンチレータパネルの発光効率は，シンチレータ層（蛍光体層）の
厚さ，蛍光体のＸ線吸収係数によって決まるが，蛍光体層の厚さを厚くするほど，
蛍光体層内での発光光の散乱が発生し，鮮鋭性が低下するため，画質に必要な鮮鋭
性を決めると，膜厚が決定する（【０００５】）。ヨウ化セシウム（ＣｓＩ）は，
Ｘ線から可視光に対する変更率が比較的高く，蒸着によって容易に蛍光体を柱状結
晶構造に形成できるため，光ガイド効果により結晶内での発光光の散乱が抑えられ，
蛍光体層の厚さを厚くすることが可能であったが（【０００６】），ＣｓＩのみで
は発光効率が低いため，例えば，ＣｓＩとヨウ化ナトリウム（ＮａＩ）を任意のモ
ル比で混合したものを，蒸着を用いて基板上にナトリウム賦活ヨウ化セシウム（Ｃ
ｓＩ：Ｎａ）として堆積し，あるいは，近年では，ＣｓＩとヨウ化タリウム（Ｔｌ
Ｉ）を任意のモル比で混合したしたものを，蒸着を用いて基板上にタリリウム賦活
ヨウ化セシウム（ＣｓＩ：Ｔｌ）として堆積し，このように堆積したものに，後工
程としてアニールを行うことで可視変換効率を向上させ，Ｘ線蛍光体として使用し
ている（【０００７】）。
また，光出力を増大する他の手段として，シンチレータを形成する基板を反射性
とする方法，基板上に反射層を設ける方法，基板上に設けられた反射性金属薄膜と，
金属薄膜を覆う透明有機膜上にシンチレータを形成する方法などが提案されている
が，これらの方法は，得られる光量は増加するが，鮮鋭性が著しく低下するという
欠点がある（【０００８】）。また，シンチレータパネルを平面受光素子面上に配
置する方法もあるが，生産効率が悪く，シンチレータパネルと平面受光素子面での
鮮鋭性の劣化は避けられない（【０００９】）。
従来，気体層法によるシンチレータの製造方法としては，アルミやアモルファス
カーボンなど剛直な基板上に蛍光体層を形成し，その上にシンチレータの表面全体
を保護膜で被覆させることが一般的であるが，自由に曲げることのできないこれら
の基板上に蛍光体層を形成した場合，シンチレータパネルと平面受光素子面を貼り
合せる際に，基板の変形や蒸着時の反りなどの影響を受け，フラットパネルデテイ
クタの受光面内で均一な画質特性が得られないという欠点がある。この問題は，近
年のフラットパネルデテイクタの大型化に伴い深刻化してきている（【００１
０】）。この問題を回避するために，撮像素子上に直接蒸着でシンチレータを形成
する方法や，鮮鋭性は低いが可とう性を有する医用増感紙などをシンチレータパネ
ルの代用として用いることが一般的に行われている。また，保護層としてポリパラ
キシリレン等の柔軟な保護層を使用した例が示されているが，基板として使用して
いるアルミやアモルファスカーボンなどは剛直であり，基板の凹凸や反りなどの影
響により，シンチレータパネル面と平面受光素子面の均一接触は達成し難い（【０
０１１】）。
このような状況から，放出される光量や鮮鋭性に優れ，シンチレータパネルと平
面受光素子面間での鮮鋭性の劣化が少ない放射線フラットパネルデテイクタを開発
することが望まれている（【００１２】）。
本件発明は，上記状況にかんがみなされたものであり，その課題は，シンチレー
タの発光取り出し効率及び鮮鋭性が高く，平面受光素子面間での鮮鋭性の劣化が少
ないシンチレータパネルを提供することである（【００１３】）。
本件発明の発明者らは，上記課題を達成するために鋭意検討を加えた結果，反射
層を白色顔料及びバインダー樹脂で形成することで，高い発光取り出し効率をほと
んど減じることなく，鮮鋭性が飛躍的に向上することを見出した（【００２７】）。
本件発明は，ＦＰＤシステムに用いられるシンチレータパネルにおいて，アルミ
ナ，酸化イットリウム，酸化ジルコニウム及び酸化チタンから選ばれる少なくとも
一種の白色顔料及びバインダー樹脂からなる反射層の表面に，柱状結晶構造のシン
チレータ層を蒸着によって成長させて形成することによって，シンチレータの発光
取り出し効率，鮮鋭性が高く，平面受光素子面間での鮮鋭性の劣化が少ないシンチ
レータパネルを提供することができるという効果を奏するものである（【００１
５】，【００２４】）。
(3)甲１発明の概要
甲第１号証によれば，甲１発明は，概要次のとおりのものであると認められる。
甲１発明は，蓄積性蛍光体を利用する放射線画像形成方法に有利に用いられる放
射線画像形成材料に関するものである（【０００１】）。
従来，放射線像変換方法において数々の輝尽性蛍光体が提案され，実用化されて
きたが，いずれの輝尽性蛍光体も，放射線を直接吸収してそのエネルギーを蓄積す
るもの，言い換えれば，放射線を吸収する蛍光体がエネルギーを蓄積する蛍光体を
兼ねているものであるため，蛍光体を選択する際に，放射線吸収性の高さを充分に
考慮して最適な蛍光体を選ぶことができなかった。そのため，これまでに提案また
は実用化された輝尽性蛍光体は，必ずしもその放射線吸収が充分に満足できるレベ
ルの蛍光体であるとはいえないという問題があった（【０００７】）。
甲１発明は，高感度の放射線像変換パネルと蛍光スクリーンとからなる放射線画
像形成材料を提供すること等を課題として（【００１１】），フロント側の蛍光ス
クリーン２０ｂは，バック側の蛍光スクリーン２０ｃ，及びその間のセンターの放
射線像変換パネル２０ａとともに放射線画像形成材料２０を形成し，フロント側蛍
光スクリーン２０ｂは，順に，支持体２１ｂ，放射線吸収性蛍光体層２２ｂ及び保
護層２４ｂから構成されており（【００３２】，【図２】），支持体２１ｂは，ポ
リイミド樹脂からなる厚みが５０μｍ乃至１ｍｍのシートあるいはフィルムであり
（【００４８】），放射線吸収性蛍光体層２２ｂは，ＣｓＩ：Ｔｌの針状結晶膜で
ある蒸着膜からなり（【００５１】，【００５３】），支持体２１ｂと放射線吸収
性蛍光体層２２ｂとの間に，拡散反射層を設け（【００８４】），拡散反射層は，
二酸化チタン等の光反射性物質及び結合剤を溶剤中に混合分散して塗布液を調製し
た後，これを支持体上に塗布乾燥することにより形成する（【００８５】，【００
８７】）ことによって，放射線画像形成に関わる蛍光体の放射線吸収機能とエネル
ギー蓄積機能を分離して，二種類の蛍光体に各機能を分担させ，放射線吸収機能を
担う蛍光体には放射線吸収率の高い蛍光体を用いることにより，また，蓄積性蛍光
体層を両面から露光することにより，検出量子効率の高い画像形成を実現すること
ができるという効果を奏するものである（【０１４０】）。
(4)周知技術
ア各種刊行物の記載内容（以下，下線はいずれも裁判所）
(ア)甲第７号証（特開２００１－１８３４６４号公報）には，以下の記載があ
る。
「【００１３】…図１に示すように，シンチレータパネル８は，平面形状を有す
るガラス製の基板２６を備えており，その一方の表面には，真空蒸着法により１０
０ｎｍの厚さで形成された反射膜としてのＡｌ膜１３が形成されている。このＡｌ
膜１３の表面には，入射した放射線を可視光に変換する柱状構造のシンチレータ１
６が２５０μｍの厚さで形成されている。このシンチレータ１６には，蒸着法に
よって成長させたＴｌドープのＣｓＩが用いられている。」
(イ)甲第３８号証（特開２００４－１６３４１０号公報）には，以下の記載が
ある。
「【００２８】
本発明によれば支持体をカバーする鉛含有層は刺激する光の少なくとも８０％
（マンモグラフィ用途）を吸収し，刺激された光の少なくとも８０％（一般に適用
される放射線写真）を反射する。特別な例では前記層は上述の値を達成するために
隣接する薄い層，例えばアルミニウム又は別の反射層でカバーされる。鉛の層は反
射特性を有するので，貯蔵燐光体パネルにおける層配置をさらに最適化するため，
及び最適化された解像度を得るため，このように使用することができる。あるいは，
反射特性に関して，薄い反射アルミニウム箔と組合わせた鉛箔を使用することがで
きる。」
「【００３０】
貯蔵燐光体パネルは“結合剤のない貯蔵燐光体”に限定されないことは明らかで
ある。“蒸着された燐光体”はさらにこの明細書全体を通じて，熱蒸着，化学蒸着，
電子ビーム蒸着，無線周波数蒸着及びパルス化レーザ蒸着からなる群から選択され
たいずれかの方法によって生成された燐光体を意味する。…
【００３１】
…図１は刺激性燐光体（ＢａＦＢｒ：Ｅｕ，ＣｓＢｒ：Ｅｕ）で被覆された，支
持体（３）（ＰＥＴ，Ａｌ，ガラス，非晶質炭素）と燐光体層（１）の間の中間層
として鉛箔を有する貯蔵燐光体パネルを示し，そこでは鉛箔（２）は燐光体層
（１）と支持体（３）の間の中間層として位置される。
【００３２】
…所望の吸収及び反射特性を達成するため，本発明のスクリーンに使用される支
持体は，特別な層として所望の鉛含有層を別にして，針状燐光体の蒸着の場合にお
いて支持体上にさらに被覆される特別な層は全くないように処理される。…鉛含有
層は燐光体を蒸着するための支持体における不均一性をさらに描くかもしれない。
これは極めて望ましい例である。なぜならばそれはもし望むなら針状形態で燐光体
結晶を蒸着することを助けるからである。
【００３３】
さらなる例では鉛又は鉛酸化合物の可撓性層は可撓性ポリマー支持体上に接着剤
層を与えられ，前記接着剤層上に被覆された結合剤に分散された鉛又は鉛酸化物の
層である。…」
「【００３９】
好適な結合剤に分散されかつ好ましいポリマー支持体上に層で被覆される鉛酸化
物を鉛箔のための代替物として使用してもよい。増感スクリーンの層中の燐光体の
分散のために使用されるもののような従来の結合剤のいずれかをここで使用しても
よい。かかる結合剤としては例えばポリビニルブチラール，ポリビニルアセテート，
ウレタン，ポリビニルアルコール，ポリエステル樹脂，ポリメチルメタクリレート
などが挙げられる。本発明によれば貯蔵燐光体スクリーン又はパネルでは鉛化合物
を含有する前記結合剤はポリビニルブチラール，ポリビニルアセテート，ウレタン，
ポリビニルアルコール，ポリエステル樹脂及びポリメチルメタクリレートからなる
群から選択される。通常，結合剤は好適な溶媒及びその中の鉛酸化物の分散助剤と
しての通常の湿潤剤と混合される。存在する結合剤のレベルは鉛で被覆された薄い
支持体を与えるために分散された鉛酸化物に対して低く維持されるべきである。」
「【００６０】
本発明は下記工程を含む貯蔵燐光体パネルの製造方法をさらに含む：
－燐光体プレート又はパネルのための支持体材料として中間鉛含有シート又は
箔でカバーされた好適な支持体（例えば非晶質炭素フィルム）を与える；
－前記支持体材料上に貯蔵燐光体層を真空蒸着する；
－所望により，前記燐光体によってカバーされない支持体材料の側上にポリマ
ーフィルムを積層する。
【００６１】
本発明は下記工程を含む貯蔵燐光体パネルの製造方法をさらに含む：
－燐光体プレート又はパネルのための支持体材料として中間鉛含有シート又は
箔でカバーされた好適な支持体（例えば非晶質炭素フィルム）を与える；
－その上に正反射層を適用する；
－前記反射層上に貯蔵燐光体層をさらに蒸着する；及び
－所望により，前記燐光体によってカバーされない反射層の側上にポリマーフ
ィルムを積層する。」
(ウ)甲第８号証（特開２００３－２０７８６２号公報）には，以下の記載があ
る。
「【００９９】支持体上に，蒸着型の蛍光体層を形成する方法としては，例えば，
支持体上に特定の入射角で輝尽性蛍光体の蒸気又は該原料を供給し，蒸着等の気相
成長（堆積）させる方法によって独立した細長い柱状結晶からなる輝尽性蛍光体層
を得ることができる。…」
「【０１１７】また，支持体と輝尽性蛍光体層との間には係る反射層を設けても
良い。《反射層》反射層としては，例えば，白色顔料を樹脂中に分散含有させたも
のが用いられるが，これにより感度を向上させることができる。…」
「【０１６９】《蒸着型の放射線画像変換パネル４，５の作製》以下に記載の方
法に従って，蒸着型蛍光体層を有する放射線画像変換パネル４，５を作製した。
【０１７０】（支持体１の作製）厚さ５００μｍの透明結晶化ガラス上に下記の
ようにして光反射層を設け，支持体１を作製した。
【０１７１】（光反射層の形成）フルウチ化学社製酸化チタンとフルウチ化学社
製酸化ジルコニウムとを，４００ｎｍでの反射率が８５％，６６０ｎｍでの反射率
が２０％となるように，蒸着装置を用いて支持体１の表面に膜形成を行った。
【０１７２】（輝尽性蛍光体プレートの作製）上記作製した支持体１を２４０℃
に加温し，真空チャンバー中に窒素ガスを導入し，真空度を０．１Ｐａとした後，
支持体１の一方の面に，公知の蒸着装置を用いて，ＣｓＢｒ：Ｅｕからなるアルカ
リハライド蛍光体を支持体表面の法線方向に対して３０°の角度で，アルミニウム
製のスリットを用いて，支持体とスリット（蒸着源）の距離を６０ｃｍとして，支
持体と平行な方向に支持体を搬送しながら蒸着を行って，３００μｍ厚の柱状構造
を有する蛍光体層Ａを形成した。」
(エ)甲第３９号証（特開２００４－６１１７２号公報）には，以下の記載があ
る。
「【００２２】
基材１は蛍光体層形成のための基材シートの役割をする。基材１としてはＸ線を
透過させる材料が好ましい。基材１の材料として，プラスチック基板，シリコン基
板，カーボン基板などを用いることができる。
【００２３】
プラスチック材料として，ポリエチレンテレフタレート，ポリカーボネート，ポ
リエチレンナフタレートなどの樹脂材料，または樹脂材料に酸化チタン，酸化アル
ミニウムなどの顔料を混入した白色樹脂材料を用いることができる。基材１の厚さ
としては，Ｘ線の透過量を十分に確保するために０．１－２ｍｍが好ましい。
【００２４】
蛍光体層２はＸ線を可視光に変換する機能を有する。蛍光体材料とバインダ樹脂
から成る粒子状蛍光体層が用いられる。蛍光体材料としては，Ｇｄ３Ｏ２Ｓ２：Ｔｂ，
Ｇｄ３Ｏ２Ｓ２：Ｅｕなどの粒子が用いられる。また，ＣｓＩ：Ｔｌなどの柱状結晶
の層を，基材１に蒸着法により形成することによっても得られる。」
イ検討
上記ア(ア)～(ウ)の記載によれば，基板と蒸着により形成された蛍光体層との間
に反射層が設けられている蛍光体パネル／スクリーンにおいて，蛍光体層を反射層
の表面に蒸着により形成することは，周知技術であると認められる。
また，上記ア(イ)～(エ)の記載によれば，バインダー樹脂を含んだ反射層の表面
又は反射機能を有する樹脂基板の表面に，蛍光体層を蒸着により形成することも，
周知技術であると認められる。
(5)相違点１の判断について
ア審決は，本件発明１と甲１発明との相違点１について，次のとおり判断して
いる（審決書３１頁２行～１５行）。
「蒸着により膜形成を行う場合，蒸着させる対象の表面の材質，構造により膜の
成長がうまくいくかどうかが左右されることは，当業者にとって常識的な事項であ
ることから，甲第７号証に開示された上記技術から，甲１発明における拡散反射層
上に形成するＣｓＩ：Ｔｌの針状結晶膜を，二酸化チタンおよび結合剤を溶剤中に
混合分散して塗布液を調製した後，これを支持体上に塗布乾燥することにより形成
された拡散反射層上に直接蒸着により形成することを導き出すことは，当業者に
とって容易になし得たことではない。また，甲１発明に甲第７号証に開示された上
記技術を適用すると，甲１発明の拡散反射層をＡｌ蒸着膜とし，Ａｌ蒸着膜の表面
に蒸着法によってＴｌドープのＣｓＩによる柱状構造のシンチレータ１６を形成す
ることになるから，本件発明１の発明特定事項である『酸化チタンの白色顔料及び
バインダー樹脂からな』る『反射層上に形成するＣｓＩ：Ｔｌの針状結晶膜を直接
蒸着により形成すること』を導き出すことは，当業者にとって容易になし得たこと
ではない。」
イ確かに，甲第１号証には，放射線吸収性蛍光体層は蒸着膜でもよく，蒸着膜
などのように放射性吸収蛍光体の凝集体からなる場合の例としてＣｓＩ：Ｔｌなど
の針状結晶膜があること（【００５１】及び【００５３】），拡散反射層が支持体
と放射線吸収性蛍光体層との間に設けられ，拡散反射層は，二酸化チタンなどの微
粒子状の光反射性物質及び結合材を溶剤中に混合分散して塗布液を調整した後，こ
れを支持体上に塗布乾燥することにより形成することができること（【００８４】
～【００８８】）は記載されているが，二酸化チタンなどの微粒子状の光反射性物
質及び結合材を溶剤中に混合分散して塗布液を調整した後，これを支持体上に塗布
乾燥することにより形成した拡散反射層の表面にＣｓＩ：Ｔｌなどの柱状結晶体膜
を蒸着により成長させて放射線吸収性蛍光体層を形成することについては記載され
ていない。
また，前記１(1)イのとおり，「蒸着により膜形成を行う場合，蒸着させる対象
の表面の材質，構造により膜の成長がうまくいくかどうかが左右されること」は，
常識的な事項である。
そうすると，一見すると，甲１発明に甲第７号証記載の技術を適用すること，す
なわち，甲１発明に，反射膜としてのＡｌ膜上に，蒸着法によって成長させたＴ１
ドープのＣｓＩが用いられている柱状結晶構造のシンチレータを形成するという技
術を適用して，本件発明１と甲１発明の相違点１に係る本件発明１の構成を得るこ
とは，当業者にとって容易になし得たことではないようにも見える。
ウしかし，上記(4)のとおり，基板と蒸着により形成された蛍光体層との間に
反射層が設けられている蛍光体パネル／スクリーンにおいて，蛍光体層を反射層の
表面に蒸着により形成することは，周知技術であり，バインダー樹脂を含んだ反射
層の表面又は反射機能を有する樹脂基板の表面に，蛍光体層を蒸着により形成する
ことも，周知技術である。
そして，甲第７号証及び甲第３９号証には，柱状結晶構造のＣｓＩ：Ｔｌを蒸着
する際の具体的な条件については何ら記載されておらず，このことからすると，Ａ
ｌ膜や樹脂基板上に柱状結晶構造のＣｓＩ：Ｔｌを蒸着することは，格別の困難を
伴わずに普通に行われている事項であると認められる。
また，本件発明１のシンチレータ層も，格別特殊な条件で形成されているものと
は認められない。すなわち，本件明細書には，本件発明１のシンチレータ層を形成
するための条件として次の記載があるが，何ら格別特殊な条件は要求されていない。
「【０１０８】（シンチレータ層の形成）上述した反射層試料１～１３を形成し
た基板の反射層側にシンチレータ蛍光体（ＣｓＩ：ＴｌＩ（０．３ｍｏｌ％））を，
図３に示す蒸着装置を使用して蒸着させシンチレータ（蛍光体）層をそれぞれ形成
した。
【０１０９】すなわち，まず，上記蛍光体原料を蒸着材料として抵抗加熱ルツボ
に充填し，また回転する支持体ホルダに支持体を設置し，支持体と蒸発源との間隔
を４００ｍｍに調節した。
【０１１０】続いて蒸着装置内を一旦排気し，Ａｒガスを導入して０．５Ｐａに
真空度を調整した後，１０ｒｐｍの速度で支持体を回転しながら基板の温度を１５
０℃に保持した。次いで，抵抗加熱ルツボを加熱して蛍光体を蒸着しシンチレータ
層の膜厚が５００μｍとなったところで蒸着を終了させ表１に示すシンチレータパ
ネル（放射線像変換パネル）を得た。」
エ以上によれば，甲１発明，すなわち，放射線吸収性蛍光体層２２ｂが，Ｃｓ
Ｉ：Ｔｌの針状結晶膜である蒸着膜からなり，支持体２１ｂと放射線吸収性蛍光体
層２２ｂとの間に，拡散反射層を設け，拡散反射層は，二酸化チタンおよび結合剤
を溶剤中に混合分散して塗布液を調製した後，これを支持体上に塗布乾燥すること
により形成する発明において，上記拡散反射層上にＣｓＩ：Ｔｌを蒸着によって柱
状結晶を成長させることは，当業者にとって格別の創意工夫を要するものとは認め
られない。
(6)本件発明１の効果について
本件発明１は，前記(2)のとおり，反射層を白色顔料及びバインダー樹脂で形成
することで，高い発光取り出し効率をほとんど減じることなく，鮮鋭性が飛躍的に
向上するものである。
甲１発明の拡散反射層は，前記(3)のとおり，二酸化チタン及び結合剤を溶剤中
に混合分散して塗布液を調製した後，これを支持体上に塗布乾燥することにより形
成するものであり，白色顔料及びバインダー樹脂で形成されているものである。
そうすると，甲１発明も，本件発明１と同様に，高い発光取り出し効率をほとん
ど減じることなく，鮮鋭性が飛躍的に向上するものと認められる。
なお，平面受光素子面間での鮮鋭性の劣化が少ないという効果について，本件明
細書には，「なお，シンチレータパネルと平面受光素子面を貼り合せる際に，基板
の変形や蒸着時の反りなどの影響を受け，フラットパネルデテイクタの受光面内で
均一な画質特性が得られないという点に関して，該基板を，厚さ５０μｍ以上５０
０μｍ以下の高分子フィルムとすることでシンチレータパネルが平面受光素子面形
状に合った形状に変形し，フラットパネルデテイクタの受光面全体で均一な鮮鋭性
が得られる。」（【００６２】）との記載はあるが，本件発明１は，基板を厚さ５
０μｍ以上５００μｍ以下の高分子フィルムとするものとしては特定されていない。
したがって，本件発明１は，平面受光素子面間での鮮鋭性の劣化が少ないという効
果を奏するものとはいえない。
以上のとおり，本件発明１の効果と同様の効果を甲１発明も奏するものであるか
ら，本件発明１は，当業者が予測し得ない格別の効果を奏するものであるとはいえ
ない。
(7)被告の主張について
ア甲１発明について
被告は，甲１発明について，要旨，次のとおり主張する。すなわち，ＣＲシステ
ムとＦＰＤシステムとでは，システムの動作原理の違いにより，反射層の機能及び
要求特性は大きく相違し，特に，ＣＲシステムでは，赤色波長の反射が制限されて
いるのに対して，ＦＰＤシステムでは，波長による反射の制御は必要とされず，シ
ンチレータの発光光を反射することが要求されるものである。したがって，赤色波
長の反射を制限するＣＲシステムの反射層を，ＦＰＤシステムの反射層にそのまま
転用することは適切でなく，このことは当業者であれば認識されている事項である。
本件発明は，ＦＰＤシステムがその前提となっているものである。これに対し，甲
第１号証の図１０で示されている「選択的反射層１３」は，その機能及びパネル内
での層の配置から，一般のＣＲシステムにおける反射層に該当するから，甲第１号
証記載の放射線画像形成材料は，ＣＲシステムにおける反射層をも有するものであ
る。したがって，甲第１号証の反射層を本件発明の反射層として用いても機能しな
い。
確かに，甲１発明は，蓄積性蛍光体を利用する放射線画像形成材料に関するもの
であり（【０００１】），放射線画像形成材料における放射線像変換パネル２０ａ
は，蓄積性蛍光体層を用いているから（【００３２】），甲１発明は，ＣＲシステ
ムを前提とするものであると認められる。
しかし，審決は，甲第１号証の記載から甲１発明を認定するに当たり，【図２】
及び【図１４】に依拠しており，被告が指摘する【図１０】には依拠していない
（審決認定の甲第１号証の記載事項の中に【図１０】は含まれていない。審決書２
３頁４行目～２８頁１行目）。
そして，甲第１号証の段落【００８４】には，「（拡散反射層）また，この放射
線像変換パネルがフロント側となる場合には，支持体と放射線吸収性蛍光体層との
間に，図１４に示すように，拡散反射層を設けることが好ましい。本発明の画像形
成材料に用いることのできる拡散反射層は，放射線吸収蛍光体からの発光光を反射
する機能を有する層である。この拡散反射層の設置によって，蓄積性蛍光体層に入
射する放射線吸収蛍光体からの発光光（一次励起光）の光量を増加させて，高感度
の放射線像変換パネルとすることができる。…」（下線は裁判所）と記載されてお
り，これによれば，甲１発明の支持体２１ｂと放射線吸収性蛍光体層２２ｂとの間
に設けられる拡散反射層は，放射線吸収性蛍光体からの発光光を反射する機能を有
する層であることが明らかであり，ＣＲシステムに要求される赤色波長の反射を制
限するものではなく，ＦＰＤシステムに要求されるシンチレータの発光光を反射す
る機能を有するものと認められる。
したがって，被告の上記主張は，審決の認定した甲１発明の内容に対する反論と
しては失当である。
イ甲第３８号証について
被告は，要旨，甲第３８号証には，「白色顔料（塩基性炭酸鉛（鉛白）を含む反
射層）」も「バインダー樹脂を含んだ反射層の表面に，蛍光体層を蒸着により形成
すること」も記載されていないので，甲第３８号証は，「白色顔料及びバインダー
樹脂からなる反射層の表面に，蛍光体層を蒸着により形成すること」が周知技術で
あることを示す例にはならないと主張する。
しかし，当裁判所が，甲第３８号証等によって周知技術であると認定した技術の
内容は，「反射層が，基板と，蒸着により形成された蛍光体層との間に設けられて
いる蛍光体パネル／スクリーンにおいて，蛍光体層を反射層の表面に蒸着により形
成すること」及び「バインダー樹脂を含んだ反射層の表面又は反射機能を有する樹
脂基板の表面に，蛍光体層を蒸着により形成すること」であって，「白色顔料及び
バインダー樹脂からなる反射層の表面に，蛍光体層を蒸着により形成すること」
（下線は裁判所）が周知技術であると認定したものではない。
したがって，被告の上記主張は，上記認定を左右するものではない。
ウ甲第３９号証について
(ア)被告は，要旨，甲第３９号証記載のデジタルＸ線撮影用放射線変換シート
は，本件発明１における「反射層」を有するものではないから，本件発明１と甲１
発明との反射層の構成に関る相違点１の容易想到性を判断する上で，「反射層」を
有さないＸ線撮影用放射線変換シートの構成を参酌し得るものではないと主張する。
確かに，甲第３９号証記載のデジタルＸ線撮影用放射線変換シートは，本件発明
１の「反射層」に相当するものを有してはいない。
しかし，甲第３９号証には，「反射機能を有する樹脂基板の表面に，蛍光体層を
蒸着により形成すること」が記載されており，同事項が周知技術であることが認め
られるところ，甲第１号証の段落【００８８】には，「支持体上に拡散反射層を設
ける代わりに，支持体自体に上記のような光反射物質を分散含有させて，拡散反射
機能を有する支持体としてもよい。」との記載があり，これによれば，樹脂基板自
体に反射機能を持たせるか，基板上に樹脂反射層を形成するかは，当業者にとって
適宜選択し得る事項であることが認められる。
したがって，甲第３９号証は，相違点１の容易想到性を判断する上で参酌するこ
とができる。被告の上記主張は理由がない。
(イ)被告は，要旨，甲第３９号証において蛍光体を形成する対象は，プラスチ
ック基板などの「基材」であり，一般に押出成形法等により製造されるのに対し，
本件発明１においてシンチレータ層を蒸着により形成する対象は，白色顔料とバイ
ンダーからなる反射層であり，当該反射層は，好ましくは溶剤に溶解した樹脂を塗
布，乾燥して基板の上に形成されるものであり，両者はその形成方法が異なるもの
であるから，当業者であれば，形成された表面の構造も異なると理解するので，本
件発明１と甲１発明との反射層の構成に関する相違点１の容易想到性を判断する上
で，甲第３９号証記載の基材の構成を参酌し得るものではないと主張する。
しかし，本件発明１の反射層に関しては，特許請求の範囲の請求項１において，
その組成については特定されているが（アルミナ，酸化イットリウム，酸化ジルコ
ニウムおよび酸化チタンから選ばれる少なくとも一種の白色顔料及びバインダー樹
脂からなるものであること），反射層の形成方法及び表面の構造については何ら特
定されていない。被告の上記主張は，特許請求の範囲の記載に基づいたものではな
く，採用することができない。
(ウ)被告は，要旨，甲第３９号証には，プラスチック基材上に蒸着法により蛍
光体層を形成することは実質的には開示されていないから，甲第３９号証の記載内
容をもって，反射機能を有する樹脂基板の表面に，蛍光体層を蒸着により形成する
ことが周知技術であるとはいえないと主張する。
しかし，甲第３９号証には，基材１の材料としてプラスチック基板を用いること
ができること（【００２２】），プラスチック材料として，ポリエチレンテレフタ
レート，ポリカーボネート，ポリエチレンナフタレートなどの樹脂材料，又は樹脂
材料に酸化チタン，酸化アルミニウムなどの顔料を混入した白色樹脂材料を用いる
ことができること（【００２３】），ＣｓＩ：Ｔｌなどの柱状結晶の層を，基材１
に蒸着法により形成すること（【００２４】）が記載されており，これらの記載に
よれば，甲第３９号証には，酸化チタン，酸化アルミニウムなどの顔料を混入した
白色樹脂材料からなるプラスチック基板の表面に，蛍光体層を蒸着により形成する
ことが記載されていることが認められる。被告の上記主張は理由がない。
エ甲第８号証について
(ア)被告は，要旨，甲第８号証に記載されている反射層は，ＣＲシステムにお
ける波長選択的な反射特性を有する反射層に該当し，ＦＰＤシステムの反射層に適
用することができないものであるから，甲第８号証記載の反射層に関する記載を
もって本件発明１と甲１発明との相違点１に関する周知技術であるとはいえないと
主張する。
なるほど，甲第８号証の放射性画像変換パネルは，支持体上に少なくとも放射線
画像が蓄積された輝尽性蛍光体を有するものであるから（【００１３】），ＣＲシ
ステムに用いられるものである。
しかし，甲第８号証には，支持体の表面に，輝尽蛍光体層を，細長い柱状結晶を
成長させて形成すること（【００９９】），支持体と輝尽蛍光体層との間に反射層
を設けてもよいこと（【０１１７】），反射層の製造方法としては，有機溶剤中に
樹脂及び白色顔料を分散し支持体上に塗布乾燥させ，反射層とすること（【０１１
８】），支持体の表面に形成した光反射層の表面に輝尽蛍光体層を蒸着により形成
すること（【０１７１】，【０１７２】），蒸着型の放射線画像変換パネルの作成
方法として，反射層の表面に蛍光体層を蒸着により形成すること（【０１６９】～
【０１７２】）が記載されている。
上記記載によれば，甲第８号証には，有機溶剤中に樹脂及び酸化チタンを分散し
て支持体上に塗布乾燥させて設けた反射層の表面に，輝尽性蛍光体層である蛍光体
層を蒸着により形成することが記載されていると認められる。
したがって，甲第８号証は，「基板と蒸着により形成された蛍光体層との間に反
射層が設けられている蛍光体パネル／スクリーンにおいて，蛍光体層を反射層の表
面に蒸着により形成すること」及び「バインダー樹脂を含んだ反射層の表面に，蛍
光体層を蒸着により形成すること」が周知技術であることを示す一例として，参酌
することができる。被告の上記主張は理由がない。
(イ)被告は，甲第８号証には，蒸着により膜形成された酸化チタンと酸化ジル
コニウムの反射層以外の反射層の表面に，蛍光体層を蒸着により形成することは何
ら記載も示唆もされていないから，甲第８号証の記載事項からは，任意の材質から
なる反射層全般について，その表面に，蒸着により蛍光体層を形成することが周知
であるとはいうことができないと主張する。
しかし，反射層を構成するあらゆる材質について，その表面に蛍光体層を蒸着に
より形成することが記載ないし示唆されていなければ，前記周知技術（「基板と蒸
着により形成された蛍光体層との間に反射層が設けられている蛍光体パネル／スク
リーンにおいて，蛍光体層を反射層の表面に蒸着により形成すること」及び「バイ
ンダー樹脂を含んだ反射層の表面に，蛍光体層を蒸着により形成すること」）の一
例として認定できないということはない。反射層を構成する材質のうち，一定のも
のについて，その表面に蛍光体層を蒸着により形成することが記載ないし示唆され
ていれば，前記周知技術の一例として認定することに支障はない。被告の上記主張
は採用することができない。
(ウ)被告は，要旨，甲第８号証に酸化チタンと酸化ジルコニウムとを蒸着によ
り膜形成して形成した光反射層の表面に，蛍光体層を蒸着により形成することが記
載されているとしても，白色顔料を樹脂中に分散含有させた反射層の表面に，直接
蒸着により蛍光体層を形成することを導き出すことはできないから，バインダー樹
脂を含んだ反射層の表面に，蛍光体層を蒸着により形成することは，甲第８号証に
記載されている事項には該当せず，甲第８号証の記載事項から，バインダー樹脂を
含んだ反射層の表面に，蛍光体層を蒸着により形成することも周知技術であるとは
いえないと主張する。
しかし，前記(ア)のとおり，甲第８号証には，有機溶剤中に樹脂及び酸化チタン
を分散して支持体上に塗布乾燥させて設けた反射層の表面に，輝尽性蛍光体層であ
る蛍光体層を蒸着により形成することが記載されていると認められる。
したがって，甲第８号証は，「反射層が，基板と，蒸着により形成された蛍光体
層との間に設けられている蛍光体パネル／スクリーンにおいて，蛍光体層を反射層
の表面に蒸着により形成すること」及び「バインダー樹脂を含んだ反射層の表面に，
蛍光体層を蒸着により形成すること」が周知技術であることを示す一例として参酌
することができる。被告の上記主張は理由がない。
オ甲第７号証について
被告は，要旨，甲第７号証には，真空蒸着法により形成されたＡｌ膜の反射層以
外の反射層の表面に，ＴｉドープのＣｓＩからなるシンチレータ層を蒸着法により
形成することは何ら記載も示唆もされていないから，甲第７号証の記載事項からは，
任意の材質からなる反射層全般について，その表面に，蒸着により蛍光体層を形成
することが周知であるとはいえないと主張する。
しかし，反射層のあらゆる材質について，その表面に蛍光体層を蒸着により形成
することが記載ないし示唆されていなければ，前記周知技術の一例として認められ
ないということはない。被告の上記主張は採用することができない。
カ本件発明１の効果について
(ア)被告は，要旨，甲第４０号証及び甲第４１号証の記載事項は，反射層に含
まれるバインダー樹脂のガラス転移温度が，ヨウ化セシウムと少なくとも１種類以
上のタリウムを含む添加剤を原材料として蒸着により柱状結晶構造のシンチレータ
層を形成する際の基板温度よりも通常低くなることとは直接関連するものではない
から，甲第４０号証及び甲第４１号証の記載事項により，「バインダー樹脂のガラ
ス転移温度が，ヨウ化セシウムと少なくとも１種類以上のタリウムを含む添加剤を
原材料として蒸着により柱状結晶構造のシンチレータ層を形成する際の基板温度よ
りも低くなることは，当業者にとって本件特許出願時に常識的事項である」との審
決の認定は影響されるものではないと主張する。
しかし，甲第４０号証及び甲第４１号証の記載事項は，ガラス転位温度が１８０
℃を超える樹脂を下地層として，蒸着により蛍光体を形成することが本件出願前か
ら普通に行われていたことを示すものであり，樹脂上に蒸着により蛍光体を形成す
る点では共通するから，甲第４０号証及び甲第４１号証の記載事項は，反射層に含
まれるバインダー樹脂のガラス転移温度が，ヨウ化セシウムと少なくとも１種類以
上のタリウムを含む添加剤を原材料として蒸着により柱状結晶構造のシンチレータ
層を形成する際の基板温度よりも通常低くなることとは直接関連しないとはいえな
い。被告の上記主張は理由がない。
なお，仮に，甲第４０号証及び甲第４１号証の記載事項が，「反射層に含まれる
バインダー樹脂のガラス転移温度が，ヨウ化セシウムと少なくとも１種類以上のタ
リウムを含む添加剤を原材料として蒸着により柱状結晶構造のシンチレータ層を形
成する際の基板温度よりも低くなること」と直接関連するものではなかったとして
も，前記１⑵ウ(ア)のとおり，甲第１９号証ないし同第２１号証の記載によれば，
蒸着によりＣｓＩ：Ｔｌを形成する際の基板温度を１５０～３００℃の範囲にする
ことは，技術常識であると認められるものの，上記刊行物には，樹脂上にＣｓＩ：
Ｔｌを形成すること，樹脂上に形成されるＣｓＩ：Ｔｌが柱状結晶構造であること，
及び基板温度とバインダー樹脂のガラス転位温度との関係については，何ら記載は
なく，示唆もないこと，前記１⑵ウ(イ)のとおり，本件発明１では，バインダー樹
脂の具体的な材質やガラス転位温度，ヨウ化セシウムと少なくとも１種類上のタリ
ウムを含む添加剤を原材料として蒸着により柱状結晶構造のシンチレータ層を形成
する際の基板温度とバインダー樹脂のガラス転移温度との関係については，何ら特
定されていないこと，前記１⑵ウ(ウ)，(エ)のとおり，本件明細書（甲３２）には，
ガラス転移温度が１８０℃以上のバインダー樹脂上に，基板温度を１５０℃～２５
０℃として蒸着によってシンチレータ層を形成することも記載されているといえる
から，バインダー樹脂のガラス転移温度は，必ずしも基板温度より低くなるもので
はないことからすると，「バインダー樹脂のガラス転移温度が，ヨウ化セシウムと
少なくとも１種類以上のタリウムを含む添加剤を原材料として蒸着により柱状結晶
構造のシンチレータ層を形成する際の基板温度よりも低くなること」は，本件特許
の出願当時，当業者にとって常識的な事項であったとは認められない。
(イ)被告は，本件発明１においては，バインダー樹脂のガラス転移温度が当該
基板温度より通常低いので，反射層中のバインダーが軟化して，蒸着結晶の種晶は
非常に根付き易くなり，本件特許発明の優れた作用効果がより良く奏されるのであ
ると主張する。
しかし，前記１⑵のとおり，バインダー樹脂のガラス転移温度が蒸着基板温度よ
り低いことは，当業者にとって本件特許出願時に常識的事項とはいえない。
そして，本件明細書【００３５】には，「バインダーとしては，ガラス転位温度
（Ｔｇ）が３０～１００℃のポリマーであることが，蒸着結晶と基板との膜付の点
で好ましく，特にポリエステル樹脂であることが好ましい。」との記載はあるもの
の，本件発明１において，バインダー樹脂のガラス転移温度や具体的な材料は特定
されていない。
したがって，本件発明１は，バインダー樹脂のガラス転移温度が蒸着基板温度よ
り低いことによって，反射層中のバインダーが軟化して，蒸着結晶の種晶は非常に
根付き易くなるという作用効果を奏するものであるとはいえない。被告の上記主張
は理由がない。
(ウ)被告は，本件発明１の効果について，本件明細書には，反射層が，基板と
柱状結晶構造のシンチレータ層の間に存在し，アルミナ，酸化イットリウム，酸化
ジルコニウム及び酸化チタンから選ばれた少なくとも一種の白色顔料及びバインダ
ー樹脂からなる該反射層の表面に，柱状結晶体を成長させて形成した柱状結晶構造
のシンチレータ層を形成したことにより，柱状結晶構造のシンチレータ層と反射層
との接着性が向上することが明示されている（【００３５】，【００３８】及び
【００７１】）と主張する。
しかし，本件明細書の段落【００３５】，【００３８】及び【００７１】の記載
は前記１(2)ウ(ウ)のとおりであり，いずれにも，反射層が，基板と柱状結晶構造
のシンチレータ層の間に存在し，アルミナ，酸化イットリウム，酸化ジルコニウム
及び酸化チタンから選ばれた少なくとも一種の白色顔料及びバインダー樹脂からな
る該反射層の表面に，柱状結晶体を成長させて形成した柱状結晶構造のシンチレー
タ層を形成したことにより，柱状結晶構造のシンチレータ層と反射層との接着性が
向上することは記載されていない。被告の上記主張は理由がない。
(8)取消事由２についてのまとめ
以上のとおり，甲１発明に周知技術（甲７，８，３８，３９）を適用して，本件
発明１と甲１発明の相違点１に係る構成を得ることは，当業者にとって容易になし
得たことであり，また，本件発明１は，当業者が予測し得ない格別の効果を奏する
ものでもない。
よって，取消事由２は理由がある。
３まとめ
以上のとおりであるから，本件発明１は，甲１発明に周知技術を適用することに
よって，当業者が容易に発明をすることができたものであり，無効理由１に係る審
決の判断は誤りである。
したがって，その余の点について判断するまでもなく，審決は違法であり，取り
消されるべきものである。
第６結論
以上によれば，原告の請求は理由があるからこれを認容することとして，主文の
とおり判決する。
知的財産高等裁判所第３部
裁判長裁判官
芝田俊文
裁判官
西理香
裁判官
知野明
（別紙）
乙１【図５－７】
乙１【図５－８】
甲１７【図１１】
甲１７【図１１】
乙２【図５】

戻る